JP4705517B2 - 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体 - Google Patents
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Description
上述した実施の形態においては、図3に示すように、まず、第1の吐出部材51から洗浄液が吐出され、次に、第2の吐出部材52から洗浄液が吐出され、最後に、第3の吐出部材53から洗浄液が吐出されるようにしたが、これに限られない。例えば、上述した実施の形態における順番と逆の順番で、各吐出部材51,52,53から洗浄液が吐出されるようにしてもよい。
上述した実施の形態において、洗浄液供給設備40が、垂直方向における配置位置がそれぞれことなる三つの吐出部材51,52,53を有している例を示したが、これに限られない。処理されるべきウエハWの大きさ等、種々の条件に応じて、吐出部材の数量や配置位置を変更することができる。
上述した実施の形態において、洗浄槽12内への洗浄液の吐出位置を垂直方向において変化させ、具体的には、洗浄液を吐出する吐出部材を異なる垂直方向位置に配置された別の吐出部材に変更することにより、洗浄槽12内における洗浄液が供給される垂直方向位置を変化させるようにした例を示したが、これに限られない。複数の吐出部材51,52,53のうちの洗浄液の吐出に用いられる吐出部材を変更することに加え、各吐出部材51,52,53の吐出方向を変更するようにしてもよいし、各吐出部材51,52,53を垂直方向に移動させるようにしてもよい。また、吐出部材が吐出方向を変更する場合、あるいは、吐出部材が垂直方向に移動する場合には、二つ以上の吐出部材を異なる垂直方向位置に配置する必要はない。つまり、吐出部材が吐出方向を変更する場合、あるいは、吐出部材が垂直方向に移動する場合には、一つの吐出部材により、洗浄槽12内における洗浄液が供給される垂直方向位置を変化させることができる。図7に、このような変形例を示す。
上述した実施の形態において、洗浄槽12内に供給される洗浄液の溶存ガス濃度が一定となっている例を示したが(図3参照)、これに限られず、洗浄槽12内に供給される洗浄液の溶存ガス濃度を変化させるようにしてもよい。なお、洗浄槽12内に供給される洗浄液の溶存ガス濃度の変更は、上述したように、溶存ガス濃度調整装置70の脱気装置71や溶解装置72の出力を変化させることにより、実現することができる。このような変形の一例を、図8に示す。
上述した実施の形態において、流路切換機構60と洗浄液源45とを連結する連結管44に溶存ガス濃度調整装置70が設けられている例を示したが、これに限られない。連結管44に溶存ガス濃度調整装置70を設けることに代え、あるいは、連結管44に溶存ガス濃度調整装置70を設けることに加え、第1乃至第3の吐出部材51,52,53と流路切換機構60とをそれぞれ連結する第1乃至第3の供給管41,42,43のいずれかまたはすべてに溶存ガス濃度調整装置を設けるようにしてもよい。このような例を図9に示す。
上述した実施の形態において、洗浄槽12内に供給される洗浄液の単位時間あたりの供給量が一定となっている例を示したが(図3参照)、これに限られず、洗浄槽12内に供給される洗浄液の単位時間あたりの供給量を変化させるようにしてもよい。なお、上述したように、洗浄液供給装置46を用いることによって、各吐出部材51,52,53から吐出される洗浄液の単位時間あたりの供給量をまとめて増減させることができる。また、各流量調整機構66,67,68を用いることによって、対応する各吐出部材51,52,53から吐出される洗浄液の単位時間あたりの供給量を個別に増減させることができる。このような変形の一例を、図8に示す。
上述した実施の形態において、第1吐出部材51と流路切換機構60との間を連結する第1供給管41に第1流量調整機構66が設けられ、第2吐出部材52と流路切換機構60との間を連結する第2供給管42に第2流量調整機構67が設けられ、第3吐出部材53と流路切換機構60との間を連結する第3供給管43に第3流量調整機構68が設けられ、各供給管41,42,43内を流れる洗浄液の単位時間あたりの供給量を個別に調整することができる例を示したが、これに限られない。上述したように、洗浄液供給装置46の出力を調整することによっても洗浄液の単位時間あたりの供給量を調整することができるため、いずれか一つの流量調整機構を省いてもよい。また、図3に示すように、異なる吐出部材51,52,53から吐出される洗浄液の間で、単位時間あたりの供給量を相違させる必要がなければ、すべての流量調整機構66,67,68を省くこともできる。
上述した実施の形態において、ウエハWを超音波洗浄する工程において、常に、いずれかの吐出部材51,52,53から洗浄液が洗浄槽12内に供給されている例を示したが、これに限られない。ウエハWを超音波洗浄する工程が、洗浄槽12内に洗浄液を供給しながら、洗浄槽12内の洗浄液に超音波を発生させる工程だけでなく、洗浄槽12内への洗浄液の供給を停止した状態で、洗浄槽12内の洗浄液に超音波を発生させる工程をさらに含むようにしてもよい。
上述した実施の形態において、洗浄液としてSC1を用いて被処理ウエハWを超音波洗浄する例を示したが、これに限られない。洗浄液としてその他の薬液を用い、被処理ウエハWを超音波洗浄するようにしてもよい。また、洗浄液として純水を用いて被処理ウエハWを超音波洗浄するようにしてもよい。洗浄液として純水を用いて被処理ウエハWを超音波洗浄する場合、上述した濯ぎ洗浄を省くことも可能である。
上述した実施の形態において、純水(洗浄水)を用いた薬液(洗浄水)の濯ぎ洗浄中に、超音波発生装置30が停止して当該洗浄液(洗浄水)中に超音波を発生させない例を示したが、これに限られない。薬液(洗浄液)の濯ぎ洗浄中に、超音波発生装置30を用いて洗浄槽12内の洗浄液(純水)に超音波を発生させ、これにより、ウエハWの濯ぎ洗浄を促進させるとともに、パーティクル(汚れ)をさらに除去し続けるようにしてもよい。この場合、薬液を用いた超音波洗浄方法と同様の方法で、純水を用いたウエハWの超音波洗浄を行うことができる。
ところで、上述した特許文献2(特開2005−296868号公報)でも言及されているように、洗浄槽12内の洗浄液中に気体が気泡の状態で混入していることも、ウエハWからパーティクルを除去することに有利である。気泡は気体分子が集合したものとも考えられ得る。このため、集合して気泡をなす気体分子は、洗浄液中の圧力変動に起因して、強烈な衝撃波(キャビテーション)を引き超す。また、上述したように、気泡は、気体分子と同様に、洗浄液中を伝播する超音波を吸収してしまう。この現象は、気体分子がより集合しているほど、より強く顕在化する。すなわち、洗浄液中の気泡は、超音波洗浄中に、洗浄液中に溶解した気体と同様に作用するものと考えられる。
図10に示す基板洗浄装置10においては、流路切換機構60と洗浄液源45との間を連結する供給管44に、供給管44内を流れる洗浄液中に気泡を混入させる気泡混入装置80が取り付けられている。気泡混入装置80は、供給管44に接続され供給管44内に気泡を吐出する気泡吐出部材81と、気体を蓄えた気体源83と、気体源83に蓄えられた気体を気泡吐出部材81に向けて送り出す気体供給装置82と、を有している。このような気泡混入装置80は、制御装置18と接続され、制御装置18によって制御されるようになっている。具体的には、気泡混入装置80は、制御装置18からの信号に基づき、予め設定された供給量(単位は、例えばl/min)で気泡吐出部材81を介して洗浄槽12内に気体を供給する。
図11に示す例において、基板洗浄装置10は、各吐出部材51,52,53と流路切換機構60との間に配置された気泡混入装置80aを備えている。図11に示す例において、気泡混入装置80aは、第1吐出部材51と流路切換機構60との間を連結する第1供給管41に取り付けられた第1気泡吐出部材81aと、第2吐出部材52と流路切換機構60との間を連結する第2供給管42に取り付けられた第2気泡吐出部材81bと、第3吐出部材53と流路切換機構60との間を連結する第3供給管43に取り付けられた第3気泡吐出部材81cと、を有している。また、第1気泡吐出部材81aに第1気体供給装置82aが接続され、第2気泡吐出部材81bには第2気体供給装置82bが接続され、第3気泡吐出部材81cには第3気体供給装置82cが接続されている。さらに、第1乃至第3の気体供給装置82a,82b,82cは、気体源83に接続されている。さらに、第1供給管41の気泡混入装置80aよりも下流側(洗浄槽12側)に、第1フィルタ84aが設けられ、第2供給管42の気泡混入装置80aよりも下流側(洗浄槽12側)に、第2フィルタ84bが設けられ、第3供給管43の気泡混入装置80aよりも下流側(洗浄槽12側)に、第3フィルタ84cが設けられている。
また、(変形例11)において、洗浄槽12内に送り込まれる洗浄液中に気泡を混入させ、第1乃至第3の吐出部材51,52,53を介し、洗浄液とともに気泡を洗浄槽12内に供給する例を示したが、これに限られない。洗浄液とは別途の経路で、洗浄槽12内に気泡が供給されるようにしてもよい。この場合、洗浄槽12内における気泡が供給される垂直方向位置を変化させることができれば、ウエハWの板面の周囲における洗浄液中に混入した気泡の密度分布が変化するようになる。このように、超音波洗浄工程中に、ウエハWの板面の周囲における気泡密度分布が変化すれば、ウエハWの板面におけるパーティクルが除去されやすい位置も変化する。したがって、ウエハWからパーティクルをより均一に除去することができるようになる。また、ウエハW全体としてのパーティクル除去効率を高めることも可能となる。このような変形の例を図12乃至14に示す。
まず、図12および図13を用いて、一つの変形例について説明する。なお、図12および図13において、図1乃至図11に示す上述した実施の形態およびその変形例の対応する部分と、同一に構成し得る部分には同一符号を付し、重複する詳細な説明は省略する。
次に、図14を用いて別の変形例について説明する。なお、図14において、図1乃至図13に示す上述した実施の形態およびその変形例の対応する部分と、同一に構成し得る部分には同一符号を付し、重複する詳細な説明は省略する。
なお、以上の説明においては、本発明による基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体を、ウエハWの洗浄処理に適用した例を示しているが、これに限られず、LCD基板やCD基板等の洗浄処理に適用することも可能である。
12 洗浄槽
18 制御装置
19 記録媒体
30 超音波発生装置
40 洗浄液供給設備
45 液体源
46 洗浄液供給装置
51,52,53,54,56 吐出部材
60 流路切換機構
66,67,68 流量調整機構
70,70a,70b,70c 溶存ガス濃度調整装置
75 薬液供給装置
80,80a 気泡混入装置
81,81a,81b,81c 気泡吐出部材
82,82a,82b,82c 気体供給装置
83 気体源
84,84a,84b,84c フィルタ
90 気泡供給設備
91,92,93,94 気泡吐出部材
Claims (26)
- 洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、
互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する複数の吐出部材を用いて前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら、前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる工程と、を備え、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程中の少なくとも一期間、異なる溶存ガス濃度を有した洗浄液が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の吐出部材から、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記異なる溶存ガス濃度を有した洗浄液のうちの一方が、所定の溶存ガス濃度を有した洗浄液であり、前記異なる溶存ガス濃度を有した洗浄液のうちの一方が、脱気された洗浄液であることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄方法。
- 洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、
互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する複数の吐出部材を用いて前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら、前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる工程と、を備え、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、前記複数の吐出部材のうちの少なくとも二つの吐出部材を用い、洗浄液とともに気泡が前記洗浄槽内に供給され、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程中の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給量で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄方法。 - 洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、
互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する複数の吐出部材を用いて前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら、前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる工程と、を備え、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、前記複数の吐出部材のうちの少なくとも二つの吐出部材を用い、洗浄液とともに気泡が前記洗浄槽内に供給され、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程中の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給個数で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、前記複数の吐出部材のうちの洗浄液の供給に用いられる吐出部材は、変更されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 少なくとも一つの吐出部材から供給される洗浄液の単位時間あたりの供給量は変化することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 少なくとも一つの吐出部材から供給される洗浄液の溶存ガス濃度は変化することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、前記複数の吐出部材のうちの少なくとも一つの吐出部材を用い、洗浄液とともに気泡が前記洗浄槽内に供給され、
前記洗浄液とともに気泡を供給する少なくとも一つの吐出部材のうちの、少なくとも一つの吐出部材から供給される気泡の単位時間あたりの供給量は変化することを特徴とする請求項3または4に記載の基板洗浄方法。 - 前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、前記複数の吐出部材のうちの少なくとも一つの吐出部材を用い、洗浄液とともに気泡が前記洗浄槽内に供給され、
前記洗浄液とともに気泡を供給する少なくとも一つの吐出部材のうちの、少なくとも一つの吐出部材から供給される気泡の単位時間あたりの供給個数は変化することを特徴とする請求項3、4および8のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。 - 前記複数の吐出部材のうちの一つの吐出部材から供給される洗浄液の単位時間あたりの供給量と、当該一つの吐出部材とは異なる垂直方向位置から前記洗浄槽内に洗浄液を吐出する前記複数の吐出部材のうちの少なくとも一つの他の吐出部材から供給される洗浄液の単位時間あたりの供給量とは異なることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、
前記洗浄槽内に気泡を供給しながら、前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる工程と、を備え、
前記洗浄槽内に気泡を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、互いに異なる垂直方向位置から気泡を吐出する複数の気泡吐出部材を用いて前記洗浄槽内に気泡を供給し、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程中の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から気泡を吐出する別の気泡吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給量で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄方法。 - 洗浄槽内に貯留される洗浄液内に被処理基板を浸漬する工程と、
前記洗浄槽内に気泡を供給しながら、前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる工程と、を備え、
前記洗浄槽内に気泡を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、互いに異なる垂直方向位置から気泡を吐出する複数の気泡吐出部材を用いて前記洗浄槽内に気泡を供給し、
前記洗浄槽内に洗浄液を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程中の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から気泡を吐出する別の気泡吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給個数で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記洗浄槽内に気泡を供給しながら洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させる工程において、前記複数の気泡吐出部材のうちの気泡の供給に用いられる吐出部材は、変更されることを特徴とする請求項11または12に記載の基板洗浄方法。
- 少なくとも一つの気泡吐出部材から供給される気泡の単位時間あたりの供給量は変化することを特徴とする請求項11〜13のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 少なくとも一つの気泡吐出部材から供給される気泡の単位時間あたりの供給個数は変化することを特徴とする請求項11〜14のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる超音波発生装置と、
互いに異なる垂直方向位置に配置され、互いに異なる垂直方向位置から前記洗浄槽内に洗浄液を吐出する複数の吐出部材と、
前記複数の吐出部材と連結され、前記吐出部材に洗浄液を送り込む洗浄液供給装置と、
前記洗浄液供給装置と前記複数の吐出部材との間に設けられた流路切換機構であって、前記洗浄液供給装置と各吐出部材との間の接続を開閉する流路切換機構と、
前記吐出部材と前記流路切換機構との間に設けられた溶存ガス濃度調整装置であって、当該吐出部材から前記洗浄槽内に供給される洗浄液の溶存ガス濃度を増減させる溶存ガス濃度調整装置と、を備え、
前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間の少なくとも一期間、異なる溶存ガス濃度を有した洗浄液が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の吐出部材から、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記異なる溶存ガス濃度を有した洗浄液のうちの一方が、所定の溶存ガス濃度を有した洗浄液であり、前記異なる溶存ガス濃度を有した洗浄液のうちの一方が、脱気された洗浄液であることを特徴とする請求項16に記載の基板洗浄装置。
- 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる超音波発生装置と、
互いに異なる垂直方向位置に配置され、互いに異なる垂直方向位置から前記洗浄槽内に洗浄液を吐出する複数の吐出部材と、
前記複数の吐出部材と連結され、前記吐出部材に洗浄液を送り込む洗浄液供給装置と、
前記洗浄液供給装置と前記複数の吐出部材との間に設けられた流路切換機構であって、前記洗浄液供給装置と各吐出部材との間の接続を開閉する流路切換機構と、
前記吐出部材と前記流路切換機構との間に設けられた気泡混入装置であって、当該吐出部材から前記洗浄槽内に供給される洗浄液中に気泡を混入させる気泡混入装置と、を備え、
前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給量で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄装置。 - 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる超音波発生装置と、
互いに異なる垂直方向位置に配置され、互いに異なる垂直方向位置から前記洗浄槽内に洗浄液を吐出する複数の吐出部材と、
前記複数の吐出部材と連結され、前記吐出部材に洗浄液を送り込む洗浄液供給装置と、
前記洗浄液供給装置と前記複数の吐出部材との間に設けられた流路切換機構であって、前記洗浄液供給装置と各吐出部材との間の接続を開閉する流路切換機構と、
前記吐出部材と前記流路切換機構との間に設けられた気泡混入装置であって、当該吐出部材から前記洗浄槽内に供給される洗浄液中に気泡を混入させる気泡混入装置と、を備え、
前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給個数で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記流路切換機構は、前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間、前記洗浄液供給装置と各吐出部材との間の接続状態を変更し、前記複数の吐出部材のうちの前記洗浄槽内に洗浄液を吐出している吐出部材を変更するようになされていることを特徴とする請求項16〜19のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記吐出部材と前記流路切換機構との間に設けられた流量調整機構であって、当該吐出部材から前記洗浄槽内に供給される洗浄液の単位時間あたりの供給量を増減させる流量調整機構をさらに備え、
前記流量調整機構は、前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間、当該吐出部材から前記洗浄槽内に供給されるようになる洗浄液の単位時間あたりの供給量を変化させるようになされていることを特徴とする請求項16〜20のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる超音波発生装置と、
互いに異なる垂直方向位置に配置され、互いに異なる垂直方向位置から前記洗浄槽内の洗浄液中に気泡を吐出する複数の気泡吐出部材と、を備え、
前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の気泡吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給量で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄装置。 - 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内の洗浄液に前記洗浄槽の下方から超音波を発生させる超音波発生装置と、
互いに異なる垂直方向位置に配置され、互いに異なる垂直方向位置から前記洗浄槽内の洗浄液中に気泡を吐出する複数の気泡吐出部材と、を備え、
前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間の少なくとも一期間、気泡が、互いに異なる垂直方向位置から洗浄液を吐出する別の気泡吐出部材から、異なる単位時間あたりの供給個数で、同時に洗浄槽内に供給されることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記超音波発生装置が前記洗浄槽内の洗浄液に超音波を発生させている間、前記複数の気泡吐出部材のうちの前記洗浄槽内の洗浄液中に気泡を吐出している吐出部材が変更されるようになされていることを特徴とする請求項22または23に記載の基板洗浄装置。
- 基板処理装置を制御するコンピュータによって実行されるプログラムであって、
前記コンピュータによって実行されることにより、請求項1〜15のいずれか一項に記載された被処理基板の処理方法を基板処理装置に実施させることを特徴とするプログラム。 - 基板処理装置を制御するコンピュータによって実行されるプログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
前記プログラムが前記コンピュータによって実行されることにより、請求項1〜15のいずれか一項に記載された被処理基板の処理方法を基板処理装置に実施させることを特徴とする記録媒体。
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