JPH0831783A - 基板のダイシング方法とその装置 - Google Patents
基板のダイシング方法とその装置Info
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- JPH0831783A JPH0831783A JP16182994A JP16182994A JPH0831783A JP H0831783 A JPH0831783 A JP H0831783A JP 16182994 A JP16182994 A JP 16182994A JP 16182994 A JP16182994 A JP 16182994A JP H0831783 A JPH0831783 A JP H0831783A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表裏両面に所要パターンが形成された基板
に、分割用スリットを形成するダイシング方法とその装
置に関し、該所用パターンの損傷をなくす。 【構成】 基板の表面に分割用スリットを形成したのち
洗浄するダイシング装置において、該基板の表面に分割
用スリットを形成し洗浄したのち、該基板を垂直姿態に
してその表裏両面を洗浄する。キャリアから１枚の基板
を取り出してスリット形成後に収納するリフトアーム、
リフトアームとダイシングテーブル・ダイシングテーブ
ルと洗浄部・洗浄部とリフトアームとの間の基板搬送用
シフトアーム、ダイシングテーブルに搭載した基板の表
面にスリットを形成したのちそのスリット形成面を洗浄
するダイシング部とを具え、シフトアームには基板を水
平姿態←→垂直姿態に変える手段を具える。
に、分割用スリットを形成するダイシング方法とその装
置に関し、該所用パターンの損傷をなくす。 【構成】 基板の表面に分割用スリットを形成したのち
洗浄するダイシング装置において、該基板の表面に分割
用スリットを形成し洗浄したのち、該基板を垂直姿態に
してその表裏両面を洗浄する。キャリアから１枚の基板
を取り出してスリット形成後に収納するリフトアーム、
リフトアームとダイシングテーブル・ダイシングテーブ
ルと洗浄部・洗浄部とリフトアームとの間の基板搬送用
シフトアーム、ダイシングテーブルに搭載した基板の表
面にスリットを形成したのちそのスリット形成面を洗浄
するダイシング部とを具え、シフトアームには基板を水
平姿態←→垂直姿態に変える手段を具える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板のダイシング方法と
その装置、特に、表面と裏面とに所要パターンが形成さ
れたセラミック等の基板に、分割用スリットを形成した
のち洗浄するダンシング方法と、その装置に関する。
その装置、特に、表面と裏面とに所要パターンが形成さ
れたセラミック等の基板に、分割用スリットを形成した
のち洗浄するダンシング方法と、その装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板に分割用スリットを形成するダイシ
ング装置は、一般に、複数枚の基板を収納したキャリア
から取り出した１枚の基板を、スリット形成用ダイシン
グテーブルに固定し、表面にスリットを形成した基板は
洗浄したのちキャリアに収納する。
ング装置は、一般に、複数枚の基板を収納したキャリア
から取り出した１枚の基板を、スリット形成用ダイシン
グテーブルに固定し、表面にスリットを形成した基板は
洗浄したのちキャリアに収納する。
【０００３】キャリアから基板を出し入れするにはリフ
トアームを使用し、基板挟持手段を具えたシフトアーム
は、リフトアームが取り出した基板をダイシングテーブ
ルに搭載し、ダイシング済み基板をダイシングテーブル
から装置内洗浄部に移し、洗浄済み基板をリフトアーム
に移すのに使用し、装置内において基板は常に水平姿態
であった。
トアームを使用し、基板挟持手段を具えたシフトアーム
は、リフトアームが取り出した基板をダイシングテーブ
ルに搭載し、ダイシング済み基板をダイシングテーブル
から装置内洗浄部に移し、洗浄済み基板をリフトアーム
に移すのに使用し、装置内において基板は常に水平姿態
であった。
【０００４】図10は従来のダイシング装置の主要構成を
示す平面図(a) と正面図(b) ，図11はその装置のシフト
アームの基板挟持状態の説明図である。図10において装
置１は、ダイシング部２，洗浄部３，複数枚の基板を収
容したキャリア４をセットしそのキャリア４を上下動さ
せるキャリアステーション５，キャリア４に基板を出し
入れする基板リフトアーム６，ダイシングのため基板を
搭載するダイシングテーブル７，リフトアーム６とダイ
シングテーブル７と洗浄部３との間の基板搬送用シフト
アーム８等にてなる。
示す平面図(a) と正面図(b) ，図11はその装置のシフト
アームの基板挟持状態の説明図である。図10において装
置１は、ダイシング部２，洗浄部３，複数枚の基板を収
容したキャリア４をセットしそのキャリア４を上下動さ
せるキャリアステーション５，キャリア４に基板を出し
入れする基板リフトアーム６，ダイシングのため基板を
搭載するダイシングテーブル７，リフトアーム６とダイ
シングテーブル７と洗浄部３との間の基板搬送用シフト
アーム８等にてなる。
【０００５】このようなダイシング装置１において、キ
ャリア４から１枚の基板をリフトアーム６が取り出す
と、シフトアーム８はその基板を、左右方向に移動可能
なダイシングテーブル７に搭載する。シフトアーム８は
開閉する一対のアーム (基板挟持手段) 8aを有し、一対
のアーム8aはその開閉操作によって図11に示す如く、基
板９の一方の対向コーナ部を挟む。
ャリア４から１枚の基板をリフトアーム６が取り出す
と、シフトアーム８はその基板を、左右方向に移動可能
なダイシングテーブル７に搭載する。シフトアーム８は
開閉する一対のアーム (基板挟持手段) 8aを有し、一対
のアーム8aはその開閉操作によって図11に示す如く、基
板９の一方の対向コーナ部を挟む。
【０００６】ダイシングテーブル７に搭載された基板９
を装置中央部に配設したカメラ（撮像装置）10が撮像す
る。すると、その撮像画像（基板９の向き）を画像処理
装置12が解析し、その解析情報に基づいてダイシングテ
ーブル７が回動し、基板９の分割用スリット形成方向
は、テーブル７の左右移動方向に一致する。
を装置中央部に配設したカメラ（撮像装置）10が撮像す
る。すると、その撮像画像（基板９の向き）を画像処理
装置12が解析し、その解析情報に基づいてダイシングテ
ーブル７が回動し、基板９の分割用スリット形成方向
は、テーブル７の左右移動方向に一致する。
【０００７】次いで、ダイシングテーブル７がダイシン
グ部２に移動すると、ダイシング部２において回転する
カッター（図示せず）が基板９の表面に所定のスリッ
ト、一般に切削液として水を使用し縦横に複数本ずつの
スリットを形成する。
グ部２に移動すると、ダイシング部２において回転する
カッター（図示せず）が基板９の表面に所定のスリッ
ト、一般に切削液として水を使用し縦横に複数本ずつの
スリットを形成する。
【０００８】次いで、ダイシングテーブル７が基板９搭
載位置（装置中央部）に戻ると、シフトアーム８はスリ
ット形成済み基板９を洗浄部３のスピンテーブル13に搭
載する。
載位置（装置中央部）に戻ると、シフトアーム８はスリ
ット形成済み基板９を洗浄部３のスピンテーブル13に搭
載する。
【０００９】洗浄部３では、基板９の裏面を真空吸着し
たテーブル13が回転する。すると、図示しないノズルよ
り基板９に洗浄液（純水）が噴射し、該洗浄液によっで
基板９に被着する切削液を洗い流したのち、図示しない
ノズルより噴射するエアーによって基板９を乾燥させ
る。
たテーブル13が回転する。すると、図示しないノズルよ
り基板９に洗浄液（純水）が噴射し、該洗浄液によっで
基板９に被着する切削液を洗い流したのち、図示しない
ノズルより噴射するエアーによって基板９を乾燥させ
る。
【００１０】乾燥済み基板９は、シフトアーム８を使用
してリフトアーム６に戻され、リフトアーム６によって
キャリア４に収納される。このような装置において、従
来のシフトアーム８は基板９を水平姿態に挟持し、基板
９は常に水平姿態で移動する構成であった。
してリフトアーム６に戻され、リフトアーム６によって
キャリア４に収納される。このような装置において、従
来のシフトアーム８は基板９を水平姿態に挟持し、基板
９は常に水平姿態で移動する構成であった。
【００１１】なお、図10において符号14は、装置１のコ
ントロールパネルである。
ントロールパネルである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように従
来の基板ダイシング方法とその装置は、スリットの形成
時および洗浄時には基板９の裏面を吸着し、ダイシング
部から洗浄部に搬送された基板９は切削液で濡れた状態
であり、基板９の裏面は洗浄されない構成であった。
来の基板ダイシング方法とその装置は、スリットの形成
時および洗浄時には基板９の裏面を吸着し、ダイシング
部から洗浄部に搬送された基板９は切削液で濡れた状態
であり、基板９の裏面は洗浄されない構成であった。
【００１３】そのため、ダイシングテーブル７から洗浄
用テーブル13に移送したとき、基板９の表面に付着した
洗浄液の一部が基板９の裏面に回り込み易く、裏面に回
り込んだ切削液に混ざった切り粉によって、洗浄用テー
ブル13の表面が傷付けられ、その傷によって基板９の裏
面に形成された所要パターンが傷付けられる、という問
題点があった。
用テーブル13に移送したとき、基板９の表面に付着した
洗浄液の一部が基板９の裏面に回り込み易く、裏面に回
り込んだ切削液に混ざった切り粉によって、洗浄用テー
ブル13の表面が傷付けられ、その傷によって基板９の裏
面に形成された所要パターンが傷付けられる、という問
題点があった。
【００１４】
【課題を解決するための手段】従来技術において前記問
題点を解決する本発明方法の特徴は、基板の表面に分割
用スリットを形成したのち洗浄するダイシング装置にお
いて、水平姿態の該基板の表面に分割用スリットを形成
し洗浄したのち、該基板を垂直姿態にしてその表裏両面
を洗浄することである。
題点を解決する本発明方法の特徴は、基板の表面に分割
用スリットを形成したのち洗浄するダイシング装置にお
いて、水平姿態の該基板の表面に分割用スリットを形成
し洗浄したのち、該基板を垂直姿態にしてその表裏両面
を洗浄することである。
【００１５】従来技術において前記問題点を解決する本
発明装置の特徴は、複数枚の基板を収容したキャリアを
セットするキャリアステーション、該キャリアから１枚
のスリット形成前の基板を取り出すと共にスリット形成
後の洗浄済み基板を該キャリアに収納するリフトアー
ム、該リフトアームが取り出した基板を挟持してダイシ
ングテーブルに搭載しスリット形成済み基板を洗浄部に
供給すると共に洗浄済み基板を該洗浄部から該リフトア
ームに移す基板シフトアーム、該ダイシングテーブルに
搭載した基板にスリットを形成しそのスリット形成面を
洗浄するダイシング部とを具え、該基板シフトアームに
は、該基板の対向縁を挟む基板挟持手段と、該基板挟持
手段に挟持した基板を水平姿態から垂直姿態および垂直
姿態から水平姿態に変える回動手段とを具え、該洗浄部
には、垂直姿態の該スリット形成済み基板を保持する基
板保持手段と、該基板の洗浄手段と、洗浄済みの該基板
を乾燥させる乾燥手段とを具えたことである。
発明装置の特徴は、複数枚の基板を収容したキャリアを
セットするキャリアステーション、該キャリアから１枚
のスリット形成前の基板を取り出すと共にスリット形成
後の洗浄済み基板を該キャリアに収納するリフトアー
ム、該リフトアームが取り出した基板を挟持してダイシ
ングテーブルに搭載しスリット形成済み基板を洗浄部に
供給すると共に洗浄済み基板を該洗浄部から該リフトア
ームに移す基板シフトアーム、該ダイシングテーブルに
搭載した基板にスリットを形成しそのスリット形成面を
洗浄するダイシング部とを具え、該基板シフトアームに
は、該基板の対向縁を挟む基板挟持手段と、該基板挟持
手段に挟持した基板を水平姿態から垂直姿態および垂直
姿態から水平姿態に変える回動手段とを具え、該洗浄部
には、垂直姿態の該スリット形成済み基板を保持する基
板保持手段と、該基板の洗浄手段と、洗浄済みの該基板
を乾燥させる乾燥手段とを具えたことである。
【００１６】
【作用】上記本発明方法および本発明装置は、水平姿態
の基板の表面に分割用スリットを形成し、そのスリット
形成面（表面）を洗浄してから、垂直姿態に姿態変換し
て基板の表裏両面を洗浄する。そのため、基板の表裏両
面を洗浄する洗浄部では、スリットの切り粉を含むスリ
ット形成用切削液（切り粉の一部）が被着することがあ
る基板裏面から先に、または表裏両面の同時洗浄が可能
になり、基板裏面の所要パターンが傷付けられるという
従来技術の問題点が解決される。
の基板の表面に分割用スリットを形成し、そのスリット
形成面（表面）を洗浄してから、垂直姿態に姿態変換し
て基板の表裏両面を洗浄する。そのため、基板の表裏両
面を洗浄する洗浄部では、スリットの切り粉を含むスリ
ット形成用切削液（切り粉の一部）が被着することがあ
る基板裏面から先に、または表裏両面の同時洗浄が可能
になり、基板裏面の所要パターンが傷付けられるという
従来技術の問題点が解決される。
【００１７】
【実施例】図１は本発明方法の実施例における主要工程
の流れ図、図２は本発明の実施例装置の主要構成図、図
３は図２の装置におけるシフトアームの説明図、図４は
本発明の実施例装置に係わる洗浄部の説明図（その
１）、図５は本発明の実施例装置に係わる洗浄部の説明
図（その２）、図６は本発明の実施例に係わる装置の基
板洗浄用ホルダーの説明図（その１）、図７は図６のホ
ルダーを使用した実施例装置洗浄部の説明図、図８は本
発明の実施例装置に係わる基板洗浄用ホルダーの説明図
（その２）、図９は図８のホルダーを使用した実施例装
置の洗浄部の説明図である。
の流れ図、図２は本発明の実施例装置の主要構成図、図
３は図２の装置におけるシフトアームの説明図、図４は
本発明の実施例装置に係わる洗浄部の説明図（その
１）、図５は本発明の実施例装置に係わる洗浄部の説明
図（その２）、図６は本発明の実施例に係わる装置の基
板洗浄用ホルダーの説明図（その１）、図７は図６のホ
ルダーを使用した実施例装置洗浄部の説明図、図８は本
発明の実施例装置に係わる基板洗浄用ホルダーの説明図
（その２）、図９は図８のホルダーを使用した実施例装
置の洗浄部の説明図である。
【００１８】ただし、図２において(a) は平面図，(b)
は正面図、図３において(a) は正面図，(b) は側面図，
(c) は基板挟持状態の説明図、図４において(a) 〜(g)
は洗浄工程の説明図、図９において(a) は洗浄部の全体
図, (b) は洗浄部における移送機構の正面図, (c) は移
送機構の側面図である。
は正面図、図３において(a) は正面図，(b) は側面図，
(c) は基板挟持状態の説明図、図４において(a) 〜(g)
は洗浄工程の説明図、図９において(a) は洗浄部の全体
図, (b) は洗浄部における移送機構の正面図, (c) は移
送機構の側面図である。
【００１９】図１の工程１の基板取り出し工程および図
２において、リフトアーム６はキャリアステーション５
の基板キャリア４より１枚の基板(9) を取り出す。上下
動する基板キャリア４には水平姿態の複数枚の基板９が
収容されており、リフトアーム６が取り出した基板９も
水平姿態である。
２において、リフトアーム６はキャリアステーション５
の基板キャリア４より１枚の基板(9) を取り出す。上下
動する基板キャリア４には水平姿態の複数枚の基板９が
収容されており、リフトアーム６が取り出した基板９も
水平姿態である。
【００２０】図１の工程２の基板をダイシングテーブル
に搭載する工程および図２において、シフトアーム81
は、リフトアーム６が取り出した基板９をダイシングテ
ーブル７の上面に搭載する。
に搭載する工程および図２において、シフトアーム81
は、リフトアーム６が取り出した基板９をダイシングテ
ーブル７の上面に搭載する。
【００２１】シフトアーム81は図３に示す如く、装着用
基板82, 上下動する基板83, 開閉する一対の挟持片84,
上下方向に90度回動するホルダー85, 可動シリンダ86と
87と88等にてなる。
基板82, 上下動する基板83, 開閉する一対の挟持片84,
上下方向に90度回動するホルダー85, 可動シリンダ86と
87と88等にてなる。
【００２２】基板83は基板82の表面に固着したガイド89
に沿って上下動可能であり、基板83に固着されたブロッ
ク90には、上下方向に駆動されるシリンダ86の駆動軸91
が連結されている。
に沿って上下動可能であり、基板83に固着されたブロッ
ク90には、上下方向に駆動されるシリンダ86の駆動軸91
が連結されている。
【００２３】角形基板９を左右方向の対向辺の中央部を
挟持する挟持片84はホルダー85に装着されており、それ
ぞれに挟持片84を装着した一対のホルダー85は、左右方
向に延在するガイド92に沿って摺動可能なスライダ93に
装着されており、コイルばね94に依って常時対向中心に
向けて張引されている一対のスライダ93と、上下動する
シリンダ87の駆動軸96とは、アーム95によって連結され
ている。
挟持する挟持片84はホルダー85に装着されており、それ
ぞれに挟持片84を装着した一対のホルダー85は、左右方
向に延在するガイド92に沿って摺動可能なスライダ93に
装着されており、コイルばね94に依って常時対向中心に
向けて張引されている一対のスライダ93と、上下動する
シリンダ87の駆動軸96とは、アーム95によって連結され
ている。
【００２４】従って、駆動軸96の上下動によってスライ
ダ93は左右方向に摺動し、その摺動によって挟持片84は
基板９を挟持する。さらに、ホルダー85は軸98を介して
可動シリンダ88の駆動軸97の先端に連結されており、挟
持片84によって左右方向対向辺の中心部を挟持された基
板９は、シリンダ88の操作即ちホルダー85の回動によっ
て、水平姿態から垂直姿態またはその逆に姿態変更され
るようになる。
ダ93は左右方向に摺動し、その摺動によって挟持片84は
基板９を挟持する。さらに、ホルダー85は軸98を介して
可動シリンダ88の駆動軸97の先端に連結されており、挟
持片84によって左右方向対向辺の中心部を挟持された基
板９は、シリンダ88の操作即ちホルダー85の回動によっ
て、水平姿態から垂直姿態またはその逆に姿態変更され
るようになる。
【００２５】図１の工程３の基板の画像処理工程および
図２において、撮像装置10が回動可能なダイシングテー
ブル７上の基板９のパターンを検出し、スリットが所定
位置かつ所定方向に形成されるように、即ちダイシング
テーブル７の移動方向にスリットが形成されるようにダ
イシングテーブル７を調整する。
図２において、撮像装置10が回動可能なダイシングテー
ブル７上の基板９のパターンを検出し、スリットが所定
位置かつ所定方向に形成されるように、即ちダイシング
テーブル７の移動方向にスリットが形成されるようにダ
イシングテーブル７を調整する。
【００２６】図１の工程４のダイシング工程および図２
において、ダイシングテーブル７はダイシング部21に移
動し、ダイシング部21では回転するカッター22が基板９
にスリットを形成する。スリット形成時には、切り粉の
除去およびカッターの冷却等のため、切削液（水）を使
用し、スリット形成済み基板９は、ダイシング部21に設
けた洗浄ノズル23およびエアーノズル24によって洗浄・
乾燥されるようになる。
において、ダイシングテーブル７はダイシング部21に移
動し、ダイシング部21では回転するカッター22が基板９
にスリットを形成する。スリット形成時には、切り粉の
除去およびカッターの冷却等のため、切削液（水）を使
用し、スリット形成済み基板９は、ダイシング部21に設
けた洗浄ノズル23およびエアーノズル24によって洗浄・
乾燥されるようになる。
【００２７】図１の工程５の基板の姿態変更工程および
図２において、スリット形成済み基板９を搭載したダイ
シングテーブル７が基板搭載位置に戻ると、シフトアー
ム81はダイシングテーブル７に搭載され水平姿態の基板
９を挟持し所定量だけ持ち上げたのち、基板挟持片ホル
ダー85を回動させて基板９を垂直姿態する。
図２において、スリット形成済み基板９を搭載したダイ
シングテーブル７が基板搭載位置に戻ると、シフトアー
ム81はダイシングテーブル７に搭載され水平姿態の基板
９を挟持し所定量だけ持ち上げたのち、基板挟持片ホル
ダー85を回動させて基板９を垂直姿態する。
【００２８】図１の工程６の洗浄工程および図２におい
て、シフトアーム81が基板９を洗浄部31に挿入する。洗
浄部31では、垂直姿態の基板９の表面と裏面の双方に洗
浄液を噴射するまたは基板９を洗浄液に浸漬したのち、
基板９にエアーを噴射して乾燥させる。
て、シフトアーム81が基板９を洗浄部31に挿入する。洗
浄部31では、垂直姿態の基板９の表面と裏面の双方に洗
浄液を噴射するまたは基板９を洗浄液に浸漬したのち、
基板９にエアーを噴射して乾燥させる。
【００２９】図１の工程７の基板の姿態変更工程および
図２において、洗浄・乾燥済み基板９を挟持し洗浄部31
から取り出したシフトアーム81は、ホルダー85が回動し
て垂直姿態の基板９を水平姿態にし、リフトアーム６に
渡す。
図２において、洗浄・乾燥済み基板９を挟持し洗浄部31
から取り出したシフトアーム81は、ホルダー85が回動し
て垂直姿態の基板９を水平姿態にし、リフトアーム６に
渡す。
【００３０】図１の工程８の基板収納工程および図２に
おいて、リフトアーム６はスリット形成済み基板９をキ
ャリア４に挿入する。図２において、ダイシング装置11
はダイシング部21，洗浄部31，複数枚の基板９を収容し
たキャリア４をセットしそのキャリア４を上下動させる
キャリアステーション５，キャリア４に基板を出し入れ
するリフトアーム６，分割用スリットを形成すべき (ダ
イシングする) １枚の基板９を搭載するダイシングテー
ブル７，リフター６とダイシングテーブル７と洗浄部３
との間に基板９を移動させるシフトアーム81等にてな
る。
おいて、リフトアーム６はスリット形成済み基板９をキ
ャリア４に挿入する。図２において、ダイシング装置11
はダイシング部21，洗浄部31，複数枚の基板９を収容し
たキャリア４をセットしそのキャリア４を上下動させる
キャリアステーション５，キャリア４に基板を出し入れ
するリフトアーム６，分割用スリットを形成すべき (ダ
イシングする) １枚の基板９を搭載するダイシングテー
ブル７，リフター６とダイシングテーブル７と洗浄部３
との間に基板９を移動させるシフトアーム81等にてな
る。
【００３１】このようなダイシング装置11は、ダイシン
グ部21にスリット形成済み基板９を洗浄する手段（洗浄
ノズル23とエアーノズル24）を設け、シフトアーム81は
基板９の姿態を水平←→垂直に変更するため基板挟持部
が回動する構成であり、洗浄部31は基板９を垂直姿態で
洗浄し乾燥させることが、従来装置１と異なる。
グ部21にスリット形成済み基板９を洗浄する手段（洗浄
ノズル23とエアーノズル24）を設け、シフトアーム81は
基板９の姿態を水平←→垂直に変更するため基板挟持部
が回動する構成であり、洗浄部31は基板９を垂直姿態で
洗浄し乾燥させることが、従来装置１と異なる。
【００３２】なお、ダイシングテーブル７には、基板９
を挟持した挟持片84に対する逃げ（挟持片84が当接しな
いための欠部）が設けられている。図４において、洗浄
部31は、図の左右方向に対向し前進・後退かつ回転可能
な一対のスピンナー32と33、上下方向に移動可能かつ洗
浄液（純水）を噴射する一対の洗浄用ノズル34と35、上
下方向に移動可能かつエアーを噴射する一対の乾燥用ノ
ズル36と37を具えてなる。
を挟持した挟持片84に対する逃げ（挟持片84が当接しな
いための欠部）が設けられている。図４において、洗浄
部31は、図の左右方向に対向し前進・後退かつ回転可能
な一対のスピンナー32と33、上下方向に移動可能かつ洗
浄液（純水）を噴射する一対の洗浄用ノズル34と35、上
下方向に移動可能かつエアーを噴射する一対の乾燥用ノ
ズル36と37を具えてなる。
【００３３】スピンナー32と33には、基板９を真空吸着
する手段（真空吸着口）が設けられており、基板９を挟
持した挟持片84の先端部に対する逃げ（欠部）が形成さ
れている。
する手段（真空吸着口）が設けられており、基板９を挟
持した挟持片84の先端部に対する逃げ（欠部）が形成さ
れている。
【００３４】図４(a) に示す如く、シフトアーム81によ
って垂直姿態の基板９が一対のスピンナー32と33の対向
間に挿入されると、図４(b) に示す如く、一方のスピン
ナー32が前進し、基板９の表面（スリット形成面）を吸
着する。
って垂直姿態の基板９が一対のスピンナー32と33の対向
間に挿入されると、図４(b) に示す如く、一方のスピン
ナー32が前進し、基板９の表面（スリット形成面）を吸
着する。
【００３５】次いで、図４(c) に示す如く、後退したス
ピンナー32が回転すると洗浄液を噴射するノズル34が上
下動し、基板９の露呈面 (裏面) を洗浄する。次いで、
図４(d) に示す如く、エアーを噴射するノズル36が上下
動し基板９の露呈面を乾燥させる。
ピンナー32が回転すると洗浄液を噴射するノズル34が上
下動し、基板９の露呈面 (裏面) を洗浄する。次いで、
図４(d) に示す如く、エアーを噴射するノズル36が上下
動し基板９の露呈面を乾燥させる。
【００３６】次いで、図４(e) に示す如く、前進したス
ピンナー32と33が基板９を挟むと、スピンナー33が基板
９を吸着し、スピンナー32の基板吸着力を解除する。そ
して、スピンナー32と33が後退したのち図４(f) に示す
如く、スピンナー33が回転し、上下動するノズル35が基
板９の新しい露呈面 (表面) に洗浄液を噴射する。
ピンナー32と33が基板９を挟むと、スピンナー33が基板
９を吸着し、スピンナー32の基板吸着力を解除する。そ
して、スピンナー32と33が後退したのち図４(f) に示す
如く、スピンナー33が回転し、上下動するノズル35が基
板９の新しい露呈面 (表面) に洗浄液を噴射する。
【００３７】次いで、図４(g) に示す如く、ノズル37が
上下動し基板９の露呈面を乾燥させると、基板９の洗浄
が完了し、洗浄完了基板９は、スピンナー33が前進して
リフトアーム６に渡すようになる。
上下動し基板９の露呈面を乾燥させると、基板９の洗浄
が完了し、洗浄完了基板９は、スピンナー33が前進して
リフトアーム６に渡すようになる。
【００３８】図５において、洗浄部41は、図の左右方向
に対向し前進・後退かつ回転可能な一対のスピンナー32
と33、上下方向に移動可能かつ洗浄液（純水）を噴射す
る一対の回転ブラシ42と43、上下方向に移動可能かつエ
アーを噴射する一対の乾燥用ノズル36と37を具えてな
る。
に対向し前進・後退かつ回転可能な一対のスピンナー32
と33、上下方向に移動可能かつ洗浄液（純水）を噴射す
る一対の回転ブラシ42と43、上下方向に移動可能かつエ
アーを噴射する一対の乾燥用ノズル36と37を具えてな
る。
【００３９】かかる洗浄部41は、洗浄部31のノズル34,3
5 に変えてブラシ42と43を配設した構成であり、基板９
の裏面または表面を擦る多数の毛を、スピンナー32また
は33との対向面に植設したブラシ42と43は、毛植設面か
ら洗浄液 (純水) を噴射し、洗浄部31と同様に動作して
基板９を洗浄する。
5 に変えてブラシ42と43を配設した構成であり、基板９
の裏面または表面を擦る多数の毛を、スピンナー32また
は33との対向面に植設したブラシ42と43は、毛植設面か
ら洗浄液 (純水) を噴射し、洗浄部31と同様に動作して
基板９を洗浄する。
【００４０】図６において、コ字形状の基板洗浄用ホル
ダー51は、内側かつ厚さ方向の中央に、基板９の端部嵌
合用の溝52を設けたものであり、溝52には洗浄液が流出
する貫通穴 (図示せず) が設けられており、リフトアー
ム６によって垂直姿態にされた基板９を受容するように
なる。
ダー51は、内側かつ厚さ方向の中央に、基板９の端部嵌
合用の溝52を設けたものであり、溝52には洗浄液が流出
する貫通穴 (図示せず) が設けられており、リフトアー
ム６によって垂直姿態にされた基板９を受容するように
なる。
【００４１】図７において、洗浄部61は、ホルダー51を
設置する台62と、上下方向に移動可能かつ洗浄液（純
水）を噴射する一対の洗浄用ノズル34と35、上下方向に
移動可能かつエアーを噴射する一対の乾燥用ノズル36と
37を具え、一対のノズル34, 35とノズル36, 37は、台62
に設置したホルダー51を挟むように配設されている。
設置する台62と、上下方向に移動可能かつ洗浄液（純
水）を噴射する一対の洗浄用ノズル34と35、上下方向に
移動可能かつエアーを噴射する一対の乾燥用ノズル36と
37を具え、一対のノズル34, 35とノズル36, 37は、台62
に設置したホルダー51を挟むように配設されている。
【００４２】このような洗浄部61は、ホルダー51に受容
した基板９の表面と裏面が露呈するため、ノズル34と35
の操作に続いてノズル36と37を操作し、基板９の表裏両
面を同時に洗浄し乾燥させる。
した基板９の表面と裏面が露呈するため、ノズル34と35
の操作に続いてノズル36と37を操作し、基板９の表裏両
面を同時に洗浄し乾燥させる。
【００４３】図８において、ほぼコ字形状の基板洗浄用
ホルダー55は、内側かつ厚さ方向の中央に、基板９の端
部嵌合用の溝56を設けたものであり、溝56には洗浄液が
流出する貫通穴 (図示せず) が設けられており、シフト
アーム81によって垂直姿態にされた基板９を受容するよ
うになる。
ホルダー55は、内側かつ厚さ方向の中央に、基板９の端
部嵌合用の溝56を設けたものであり、溝56には洗浄液が
流出する貫通穴 (図示せず) が設けられており、シフト
アーム81によって垂直姿態にされた基板９を受容するよ
うになる。
【００４４】図９(a) において、洗浄部71はホルダー設
置槽72, 洗浄槽73, 乾燥槽74, 超音波発振機75, ホルダ
ー55を銜えて移動させる移送機構76を具え、洗浄槽73に
は洗浄液77を入れ、乾燥槽74には一対のエアー噴射ノズ
ル36が配設されている。
置槽72, 洗浄槽73, 乾燥槽74, 超音波発振機75, ホルダ
ー55を銜えて移動させる移送機構76を具え、洗浄槽73に
は洗浄液77を入れ、乾燥槽74には一対のエアー噴射ノズ
ル36が配設されている。
【００４５】かかる洗浄部71において、ホルダー設置槽
72に基板９を受容したホルダー55を設置すると、移送機
構76はホルダー55を設置槽72→洗浄槽73→乾燥槽74→設
置槽72に搬送し、設置槽72では設置したホルダー55に基
板９を出し入れし、洗浄槽73ではホルダー55に受容され
た基板９を超音波振動する洗浄液77に浸漬して洗浄し、
乾燥槽74では洗浄液77で濡れた基板９を乾燥させる。
72に基板９を受容したホルダー55を設置すると、移送機
構76はホルダー55を設置槽72→洗浄槽73→乾燥槽74→設
置槽72に搬送し、設置槽72では設置したホルダー55に基
板９を出し入れし、洗浄槽73ではホルダー55に受容され
た基板９を超音波振動する洗浄液77に浸漬して洗浄し、
乾燥槽74では洗浄液77で濡れた基板９を乾燥させる。
【００４６】図９(b),(c) において、設置槽72と→洗浄
槽73→乾燥槽74→設置槽72にホルダー55を移す移送機構
76は、基板101,基板101 に装着したパルスモータ102,モ
ータ102 によって回動する一対のプーリ103 とタイミン
グベルト104,上端部の突片がベルト104 に固着されて上
下動する軸105,軸105 の上下動を案内するガイド106,軸
105 の下端に装着した駆動シリンダ107,シリンダ107 の
動作によって開閉する一対のクランパ108 等を具えてな
る。
槽73→乾燥槽74→設置槽72にホルダー55を移す移送機構
76は、基板101,基板101 に装着したパルスモータ102,モ
ータ102 によって回動する一対のプーリ103 とタイミン
グベルト104,上端部の突片がベルト104 に固着されて上
下動する軸105,軸105 の上下動を案内するガイド106,軸
105 の下端に装着した駆動シリンダ107,シリンダ107 の
動作によって開閉する一対のクランパ108 等を具えてな
る。
【００４７】下端に内側突起を有するクランパ108 の上
端部には回動軸109 が結合し、シリンダ107 の駆動軸11
0 の上下動は、回動軸109 と駆動軸110 とを結合するア
ーム111 によって、回動軸109 を回動させる。そして、
一対の回動軸109 の回動方向は逆方向になり、そのこと
によって一対のクランパ108 が開閉し、その開閉によっ
てクランパ108 はホルダー55の上端部をクランプする。
端部には回動軸109 が結合し、シリンダ107 の駆動軸11
0 の上下動は、回動軸109 と駆動軸110 とを結合するア
ーム111 によって、回動軸109 を回動させる。そして、
一対の回動軸109 の回動方向は逆方向になり、そのこと
によって一対のクランパ108 が開閉し、その開閉によっ
てクランパ108 はホルダー55の上端部をクランプする。
【００４８】
【発明の効果】以上説明したように本発明方法および本
発明装置は、基板の表裏両面の所要パターンを傷付ける
ことなく、分割用スリットを形成可能にする。
発明装置は、基板の表裏両面の所要パターンを傷付ける
ことなく、分割用スリットを形成可能にする。
【図１】 本発明方法の実施例における主要工程の流れ
図
図
【図２】 本発明の実施例装置の主要構成図
【図３】 図２の装置におけるシフトアームの説明図
【図４】 本発明の実施例装置に係わる洗浄部の説明図
（その１）
（その１）
【図５】 本発明の実施例装置に係わる洗浄部の説明図
（その２）
（その２）
【図６】 本発明の実施例に係わる装置の基板洗浄用ホ
ルダーの説明図（その１）
ルダーの説明図（その１）
【図７】 図６のホルダーを使用する実施例装置の洗浄
部の説明図
部の説明図
【図８】 本発明の実施例に係わる装置の基板洗浄用ホ
ルダーの説明図（その２）
ルダーの説明図（その２）
【図９】 図８のホルダーを使用した実施例装置の洗浄
部の説明図
部の説明図
【図１０】 従来のダイシング装置の主要構成図
【図１１】 従来装置のシフトアームの基板挟持状態の
説明図
説明図
４ キャリア ５ キャリアステーション ６ リフトアーム ７ ダイシングテーブル ９ 基板 21 ダイシング部 23,34,35 洗浄ノズル (洗浄手段) 24,36,37 エアーノズル（乾燥手段） 31 洗浄部 32,33 スピンナー（洗浄部の基板保持手段） 42,43 ブラシ 51,55 ホルダー（洗浄部の基板保持手段） 72 設置槽 73 洗浄槽 74 乾燥槽 76 移送機構 81 シフトアーム 84 挟持片（挟持手段） 85 回動ホルダー 108 クランパ (クランプする手段) 110 駆動軸（基板ホルダーを上下動させる手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/301
Claims (9)
- 【請求項１】 基板の表面に分割用スリットを形成した
のち洗浄するダイシング方法において、該基板の表面に
分割用スリットを形成しそのスリット形成面を洗浄した
のち、該基板を垂直姿態にしてその表裏両面を洗浄する
こと、を特徴とする基板のダイシング方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の基板のダイシング方法に
おいて、スリット形成用ダイシングテーブルに搭載した
水平姿態の前記基板の表面に前記スリットを形成したの
ち該表面を洗浄し、該基板を基板搬送用シフトアームの
基板挟持手段にて挟持し、該基板挟持手段が回動して水
平姿態の該基板を垂直姿態にしたのち、該シフトアーム
が該基板を基板洗浄部に搬送し、該洗浄部にて垂直姿態
の該基板の表裏両面を洗浄すること、を特徴とする基板
のダイシング方法。 - 【請求項３】 請求項２記載の基板のダイシング方法に
おいて、前記洗浄部における洗浄は、前記スリットが形
成された表面を吸着して該基板の裏面を洗浄し、次いで
該基板の裏面を吸着して該基板の表面を洗浄すること、
を特徴とする基板のダイシング方法。 - 【請求項４】 請求項２記載の基板のダイシング方法に
おいて、前記洗浄部における洗浄は、角形である前記基
板の三方の縁部を受容するコ字形ホルダーに該基板を保
持せしめ、該基板の表面と裏面とを同時に洗浄するこ
と、を特徴とする基板のダイシング方法。 - 【請求項５】 基板の表面に分割用スリットを形成した
のち洗浄するダイシング装置において、 複数枚の基板を収容したキャリアをセットするキャリア
ステーション、該キャリアから１枚のスリット形成前の
基板を取り出すと共にスリット形成後の洗浄済み基板を
該キャリアに収納するリフトアーム、該リフトアームが
取り出した基板を挟持してダイシングテーブルに搭載し
スリット形成済み基板を洗浄部に搬送すると共に洗浄済
み基板を該洗浄部から該リフトアームに移す基板シフト
アーム、該ダイシングテーブルに搭載した基板にスリッ
トを形成しそのスリット形成面を洗浄するダイシング部
とを具え、 該基板シフトアームには、該基板の対向縁を挟む基板挟
持手段と、該基板挟持手段に挟持した基板を水平姿態か
ら垂直姿態および垂直姿態から水平姿態に変える回動手
段とを具え、該洗浄部には、垂直姿態の該スリット形成
済み基板を保持する基板保持手段と、該基板の洗浄手段
と、洗浄済みの該基板を乾燥させる乾燥手段とを具えた
こと、 を特徴とする基板のダイシング装置。 - 【請求項６】 請求項５記載のダイシング装置におい
て、 前記洗浄部の基板保持手段が、前記基板の表面を吸着し
回転する第１のスピンナーと該基板の裏面を吸着する第
２のスピンナーとを具え、 前記洗浄手段が、該第１のスピンナーに吸着した基板の
露呈面に洗浄液を噴射する第１の洗浄ノズルと、該第１
の洗浄ノズルによる洗浄済み基板にエアーを噴射する第
１のエアーノズルと、該第２のスピンナーに吸着した基
板の露呈面に洗浄液を噴射する第２の洗浄ノズルと、該
第２の洗浄ノズルによる洗浄済み基板にエアーを噴射す
る第２のエアーノズルとを具えたこと、 を特徴とする基板のダイシング装置。 - 【請求項７】 請求項５記載のダイシング装置におい
て、 前記洗浄部の基板保持手段が、前記基板の表面を吸着し
回転する第１のスピンナーと該基板の裏面を吸着する第
２のスピンナーとを具え、 前記洗浄手段が、該第１のスピンナーに吸着した基板の
露呈面に洗浄液を噴射すると共にブラッシングする第１
のブラシと、該第１のブラシによる洗浄済み基板にエア
ーを噴射する第１のエアーノズルと、該第２のスピンナ
ーに吸着した基板の露呈面に洗浄液を噴射すると共にブ
ラッシングする第２のブラシと、該第２のブラシによる
洗浄済み基板にエアーを噴射する第２のエアーノズルと
を具えたこと、 を特徴とする基板のダイシング装置。 - 【請求項８】 請求項５記載のダイシング装置におい
て、 前記洗浄部の基板保持手段が、角形であり垂直姿態の前
記基板の下辺部と該下辺の両端部より直立する直立辺の
少なくとも一部を受容するコ字形ホルダーであり、 前記洗浄手段が、該コ字形基板ホルダーに挿入した該基
板の表面と裏面とのそれぞれに対向し、洗浄ノズルとエ
アーノズルとを具えたこと、 を特徴とする基板のダイシング装置。 - 【請求項９】 請求項５記載のダイシング装置におい
て、 前記洗浄部が角形である前記基板を垂直姿態に保持する
基板保持手段，該基板を該基板保持手段に挿脱するため
該基板保持手段を設置させる設置槽, 洗浄液を入れる洗
浄槽, 洗浄済み基板を乾燥させる乾燥槽, 該保持手段を
該洗浄槽と乾燥槽に搬送する搬送機構を具え、 該基板保持手段が、該基板の下辺部と該下辺の両端部よ
り直立する直立辺の少なくとも一部を受容するコ字形ホ
ルダーであり、 該乾燥槽にはエアーノズル36が配設され、 該搬送機構には、該基板保持手段をクランプし垂下させ
る手段と、クランプし垂下した該基板保持手段を上下動
させる手段とを具えたこと、 を特徴とする基板のダイシング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16182994A JPH0831783A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | 基板のダイシング方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16182994A JPH0831783A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | 基板のダイシング方法とその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0831783A true JPH0831783A (ja) | 1996-02-02 |
Family
ID=15742713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16182994A Withdrawn JPH0831783A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | 基板のダイシング方法とその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0831783A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1126505A2 (de) * | 2000-02-17 | 2001-08-22 | CONTRADE Mikrostruktur Technologie GmbH | Verfahren und Vorrichtung für die nasschemische Reinigung und Ätzung von scheibenförmigen Einzelsubstraten |
| WO2005057650A1 (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-23 | Sunyang Tech Co., Ltd. | A water jet singulation apparatus for semiconductor manufacture and singulation method thereof |
| JP2006186296A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Apic Yamada Corp | ワーク支持枠体、ワーク洗浄乾燥装置及び切断装置 |
| JP2007311631A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体 |
| JP2010056312A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ダイシング装置及びワーク洗浄乾燥方法 |
| CN102725826A (zh) * | 2010-04-30 | 2012-10-10 | 应用材料公司 | 具有流体喷射器的圆盘刷清洁器模组 |
-
1994
- 1994-07-14 JP JP16182994A patent/JPH0831783A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1126505A2 (de) * | 2000-02-17 | 2001-08-22 | CONTRADE Mikrostruktur Technologie GmbH | Verfahren und Vorrichtung für die nasschemische Reinigung und Ätzung von scheibenförmigen Einzelsubstraten |
| EP1126505A3 (de) * | 2000-02-17 | 2005-01-26 | CONTRADE Mikrostruktur Technologie GmbH | Verfahren und Vorrichtung für die nasschemische Reinigung und Ätzung von scheibenförmigen Einzelsubstraten |
| WO2005057650A1 (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-23 | Sunyang Tech Co., Ltd. | A water jet singulation apparatus for semiconductor manufacture and singulation method thereof |
| JP2006186296A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Apic Yamada Corp | ワーク支持枠体、ワーク洗浄乾燥装置及び切断装置 |
| JP4580806B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2010-11-17 | アピックヤマダ株式会社 | ワーク支持枠体、ワーク洗浄乾燥装置及び切断装置 |
| JP2007311631A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体 |
| JP2010056312A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ダイシング装置及びワーク洗浄乾燥方法 |
| CN102725826A (zh) * | 2010-04-30 | 2012-10-10 | 应用材料公司 | 具有流体喷射器的圆盘刷清洁器模组 |
| JP2013526054A (ja) * | 2010-04-30 | 2013-06-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 流体ジェットを伴うディスクブラシ洗浄装置モジュール |
| US9646859B2 (en) | 2010-04-30 | 2017-05-09 | Applied Materials, Inc. | Disk-brush cleaner module with fluid jet |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011002 |