JP5241088B2 - 非接触走行方式のエレベータ - Google Patents
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Description
図1は本発明の第1の実施形態に係る非接触案内装置をエレベータの乗りかごに適用した場合の斜視図である。
図4は非接触案内を行うための制御装置の構成を示すブロック図である。
次に、乗りかご4がガイドレール2a,2bに接触した状態から浮上し、非接触案内状態(非接触にて案内走行可能な状態)に移行するときの動きについて説明する。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。
なお、基本的な回路構成については上記第2の実施形態の図11と同様であるため、ここでは、ゲイン係数のかけ方の違いについて説明する。
次に、本発明の第4の実施形態について説明する。
次に、本発明の第5の実施形態について説明する。
なお、基本的な回路構成については上記第4の実施形態の図16と同様であるため、ここでは、制御ゲインの切替え方の違いについて説明する。
Claims (20)
- 昇降路内に上下方向に敷設されたガイドレールと、
このガイドレールに沿って昇降動作する乗りかごと、
この乗りかごの上記ガイドレールとの対向部に設置され、磁気力の作用により上記乗りかごを上記ガイドレールから浮上させて非接触で走行案内する案内装置と、
上記乗りかごのかごドアを正面として見た場合に、そのかごドアの左右方向をx軸、前後方向をy軸、上下方向をz軸とし、このx,y,z軸に対する回転方向をθ,ξ,ψとした場合に、上記z軸を除く5つの運動軸の中の少なくとも2軸以上の運動軸に関して磁気力を発生させるように上記案内装置を制御するものであり、
案内開始時には、上記各運動軸のうちの一部に対してのみ制御を行い、案内開始から所定の時間が経過した後、他の運動軸に対して制御を行う制御装置と
を具備したことを特徴とする非接触走行方式のエレベータ。 - 昇降路内に上下方向に敷設されたガイドレールと、
このガイドレールに沿って昇降動作する乗りかごと、
この乗りかごの上記ガイドレールとの対向部に設置され、磁気力の作用により上記乗りかごを上記ガイドレールから浮上させて非接触で走行案内する案内装置と、
上記乗りかごの少なくとも2軸以上の運動軸に関して磁気力を発生させるように上記案内装置を制御するものであり、
上記各運動軸毎に設定された制御ゲインを有し、
上記各運動軸のうちの特定の運動軸に関しては、案内開始から案内に必要となる磁気力を発生させるための制御ゲインにより制御を行い、他の運動軸に関しては、案内開始時には案内に必要となる磁気力を発生させるための制御ゲインよりも低く設定された制御ゲインにより制御を行い、案内開始から所定の時間が経過した後、上記各運動軸を所定の制御ゲインにより制御する制御装置と
を具備したことを特徴とする非接触走行方式のエレベータ。 - 上記制御装置は、上記各運動軸に関する制御ゲインの値を調整するためのゲイン係数を有し、
案内開始時には、上記各運動軸のうち一部または全部の制御ゲインのゲイン係数を変更し、所定の時間が経過した後に、上記各運動軸の制御ゲインのゲイン係数を所定の値に設定して制御を行うことを特徴とする請求項2記載の非接触走行方式のエレベータ。 - 上記制御装置は、
案内開始時には、上記各運動軸のうちの特定の運動軸のゲイン係数を、他の運動軸のゲイン係数よりも大きくし、所定の時間が経過した後、上記特定の運動軸のゲイン係数と上記他の運動軸のゲイン係数との相対差を小さくすることを特徴とする請求項3記載の非接触走行方式のエレベータ。 - 昇降路内に上下方向に敷設されたガイドレールと、
このガイドレールに沿って昇降動作する乗りかごと、
この乗りかごの上記ガイドレールとの対向部に設置され、磁気力の作用により上記乗りかごを上記ガイドレールから浮上させて非接触で走行案内する案内装置と、
上記乗りかごの少なくとも2軸以上の運動軸に関して磁気力を発生させるように上記案内装置を制御するものであり、
上記各運動軸毎に設定された制御ゲインを有し、
上記各運動軸に関する案内位置が所定の範囲内にあるときには、通常状態で案内するための制御ゲインにより制御を行い、案内位置が所定の範囲外にあるときには、一部または全部の運動軸の制御ゲインを、通常状態で案内するための制御ゲインとは異なる制御ゲインで制御する制御装置と
を具備したことを特徴とする非接触走行方式のエレベータ。 - 上記制御装置は、上記各運動軸に関する制御ゲインの値を調整するためのゲイン係数を有し、
上記各運動軸に関する案内位置が所定の範囲内にあるときには、ゲイン係数を所定の値に設定し、案内位置が所定の範囲外にあるときには、一部または全部の運動軸のゲイン係数を変更して制御することを特徴とする請求項5記載の非接触走行方式のエレベータ。 - 上記各制御ゲインにおける各々のゲイン係数のうち、少なくとも1つの運動軸に関するゲイン係数が、他のゲイン係数とは異なることを特徴とする請求項6記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 上記制御装置は、あるゲイン係数から別のゲイン係数に変化させる際に、移行時間を設けて、その間に徐々に変化させることを特徴とする請求項3、4、6または7記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 上記制御装置は、あるゲイン係数から別のゲイン係数に上記移行時間の間に線形的に変化させることを特徴とする請求項8記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 上記制御装置は、あるゲイン係数から別のゲイン係数に上記移行時間の間にローパスフィルタを介して変化させることを特徴とする請求項8記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 昇降路内に上下方向に敷設されたガイドレールと、
このガイドレールに沿って昇降動作する乗りかごと、
この乗りかごの上記ガイドレールとの対向部に設置され、磁気力の作用により上記乗りかごを上記ガイドレールから浮上させて非接触で走行案内する案内装置と、
上記乗りかごの少なくとも2軸以上の運動軸に関して磁気力を発生させるように上記案内装置を制御するものであり、
上記各運動軸毎に設定された少なくとも2種類の制御ゲインを有し、
上記各運動軸の状態に応じて上記各制御ゲインを切り替えて制御する制御装置と
を具備したことを特徴とする非接触走行方式のエレベータ。 - 上記制御装置は、
上記各運動軸毎に設定された第1の制御ゲインと第2の制御ゲインを有し、
案内開始時には、上記各運動軸の一部または全部を上記第2の制御ゲインを用いて制御し、所定の時間が経過した後、上記各運動軸の全てに関して上記第1の制御ゲインを用いて制御することを特徴とする請求項11記載の非接触走行方式のエレベータ。 - 上記制御装置は、
上記各運動軸毎に設定された第1の制御ゲインと第2の制御ゲインを有し、
上記各運動軸に関する案内位置が所定の範囲内にあるときは、上記第1の制御ゲインを用いて制御を行い、案内位置が所定の範囲外にあるときには、上記各運動軸の一部または全部を上記第2の制御ゲインを用いて制御することを特徴とする請求項11記載の非接触走行方式のエレベータ。 - 上記第2の制御ゲインの少なくとも1つは、上記第1の制御ゲインよりも大きく設定されていることを特徴とする請求項12または13記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 上記制御装置は、ある制御ゲインから別の制御ゲインに変化させる際に、移行時間を設けて、その間に徐々に変化させることを特徴とする請求項11、12、13または14記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 上記制御装置は、ある制御ゲインから別の制御ゲインに上記移行時間の間に線形的に変化させることを特徴とする請求項15記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 上記制御装置は、ある制御ゲインから別の制御ゲインに上記移行時間の間にローパスフィルタを介して変化させることを特徴とすることを特徴とする請求項15記載の非接触走行方式のエレベータ。
- 上記案内装置は、電磁石を有する磁石ユニットからなり、
上記制御装置は、上記電磁石に励磁する電流を制御することで、上記乗りかごを上記ガイドレールに接触させることなく走行案内することを特徴とする請求項1乃至17のいずれか1つに記載の非接触走行方式のエレベータ。 - 上記案内装置は、電磁石および永久磁石を有する磁石ユニットを有し、
上記制御装置は、上記電磁石に励磁する電流を制御することで、上記乗りかごを上記ガイドレールに接触させることなく走行案内することを特徴とする請求項1乃至17のいずれか1つに記載の非接触走行方式のエレベータ。 - 上記制御装置は、
上記乗りかごを上記ガイドレールに接触させることなく走行案内すると共に、上記乗りかごに作用する外力の有無に関わらず、上記電磁石に励磁する電流の定常値を零に収束させることを特徴とする請求項19記載の非接触走行方式のエレベータ。
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