JP5233621B2 - 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法。 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法。 Download PDFInfo
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Description
(1)発泡樹脂製の研磨パッドを用い、
研磨材を含有する研磨液を供給しながら円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
研磨面を形成し、かつ、空孔径が20μm超の空孔を有する発泡樹脂からなり、厚さが400μm以下である第1の発泡樹脂層と、研磨パッドを固定するための定盤と前記第1の発泡樹脂層との間に設けられ、かつ、空孔径が20μm以下の発泡樹脂からなり、厚さが50〜250μmである第2の発泡樹脂層とを備えるとともに、第1の発泡樹脂層と第2の発泡樹脂層との合計厚が550μm以下で、JIS K6253で規定されるM法で測定された国際ゴム硬さが40IRHD以上である研磨パッドを用い、研磨面をドレッシング処理した後、研磨を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(2)第2の発泡樹脂層の200μmでの圧縮率が3%以下であることを特徴とする上記(1)記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(3)ドレッシング処理により、開孔面積率が8%以上で、かつ、開孔平均円相当径が10μm以上になるように調整することを特徴とする上記(1)または(2)記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(4)ドレッシング処理をして研磨パッドの表層を削り取った後に純水を供給しながらブラシ洗浄することを特徴とする上記(1)、(2)または(3)記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
(5)上記(1)、(2)、(3)または(4)記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
また、仕上げ研磨量を大きくできるので表面のキズや異物などの欠陥を除去しやすくなる。
図2は、本発明で用いられる研磨パッドではないが、このような2層の発泡樹脂層を有する市販の研磨パッドの断面を撮影した電子顕微鏡写真である。
最下層はポリエチレンテレフタレート(PET)などの樹脂からなるシートやフィルム、不織布、織布であり(図中に「PET層」と表記)、このPET層を介して研磨パッドが研磨装置(図示せず)の定盤にたとえば両面テープなどを用いて接合される。
PET層の上には下層とNAP層からなる2層の発泡樹脂層が形成され、その発泡樹脂層の表層における孔はまったくまたはほとんど開孔していない。
下層は、空孔径が20μm以下、好ましくは15μm以下の低発泡の樹脂からなり、その厚さは50〜250μm、好ましくは100〜250μmである。下層の厚さが50μm未満ではダブオフ1が悪くなり、250μmを超えるとダブオフ2が悪くなる。
NAP層の空孔は通常図2と同様の細い筒状の形状のものが典型的であるが、そのような球状ではない空孔の空孔径は空孔の最長径とされる。
尚、研磨パッド表層の開孔面積率と平均円相当径は、処理面のレーザー顕微鏡画像(キーエンス社製 カラー3Dレーザー顕微鏡 VK-9700、VK-9710)を撮り、画像解析装置(キーエンス社製 解析アプリケーション VK-H1A1)を用いて算出した。
フロート法で成形されたシリケートガラス板を、外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmのガラス基板が得られるようなドーナツ状円形ガラス板(中央に円孔を有する円形ガラス板)に加工した。
このドーナツ状円形ガラス板の内外周の端面を、面取り幅0.15mm、面取り角度45°となるように面取り加工を行い、その後ガラス板上下面のラッピングを酸化アルミニウム砥粒を用いて行い、砥粒を洗浄除去した。
表1のパッド層厚およびパッド硬度を有する発泡ポリウレタン製研磨パッドを用意した。下層としては、200μm厚み時の圧縮率が3%以下のものを使用した。圧縮率は、日本工業規格(JIS L 1021)に従い、ショパー型厚さ測定器(加圧面直径1cmの円形)を使用して求めた。具体的には、初荷重で30秒間加圧したあとの厚さt0を測定し、次に最終加圧のもとで5分間放置後の厚さt1を測定し、圧縮率%=(t0-t1)/t0x100にて算出した。このときの初荷重は100g/cm2、最終圧力は1120g/cm2である(特開2008−36786号公報参照)。また、NAP層及び下層の厚みは、断面のSEM観察像(キーエンス社製 3Dリアルサーフェイスビュー顕微鏡 VE‐9800)より求めた。
ドレッシング処理された研磨パッドが貼り付けられた研磨機を用い、研磨パッドを水洗した後、被験体の研磨を行った。研磨液には、コロイダルシリカスラリー(一次粒子の平均粒子径20〜30nm、シリカ粒子濃度48質量%)を原料とし、研磨用組成物中のシリカ濃度は15質量%となるよう純水で調整し、pHは4〜5となるようクエン酸とクエン酸ナトリウムで調整した。研磨機には浜井産業社製16B型両面研磨機を使用し、研磨圧力12kPa、キャリア周速40m/分、研磨液供給速度120ml/分にて、5分間、10分間、20分間研磨した。研磨量のコントロールは研磨時間にて行った。次いで、研磨後の被験体を、酸性洗剤溶液への浸漬、ベルクリン及びアルカリ洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液への浸漬した状態での超音波洗浄、純水浸漬状態での超音波洗浄、を順次行い、IPA蒸気にて乾燥した。
Claims (5)
- 発泡樹脂製の研磨パッドを用い、
研磨材を含有する研磨液を供給しながら円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
研磨面を形成し、かつ、空孔径が20μm超の空孔を有する発泡樹脂からなり、厚さが400μm以下である第1の発泡樹脂層と、研磨パッドを固定するための定盤と前記第1の発泡樹脂層との間に設けられ、かつ、空孔径が20μm以下の発泡樹脂からなり、厚さが50〜250μmである第2の発泡樹脂層とを備えるとともに、第1の発泡樹脂層と第2の発泡樹脂層との合計厚が550μm以下で、JIS K6253で規定されるM法で測定された国際ゴム硬さが40IRHD以上である研磨パッドを用い、研磨面をドレッシング処理した後、研磨を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 第2の発泡樹脂層の200μmでの圧縮率が3%以下であることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- ドレッシング処理により、開孔面積率が8%以上で、かつ、開孔平均円相当径が10μm以上になるように調整することを特徴とする請求項1または2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- ドレッシング処理をして研磨パッドの表層を削り取った後に純水を供給しながらブラシ洗浄することを特徴とする請求項1、2または3記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1、2、3または4記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
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