JP3516233B2 - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法に関する。
ラス基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録媒体は、磁気ディスク、光磁気
ディスク及び光ディスクを含み、例えば、磁気ディスク
は、中心に孔があけられたドーナツ状を呈し、データ記
録媒体として主表面に磁性膜が被覆されたディスクであ
る。この磁気ディスクには、磁気の強弱によりデータが
記録される。
ディスク及び光ディスクを含み、例えば、磁気ディスク
は、中心に孔があけられたドーナツ状を呈し、データ記
録媒体として主表面に磁性膜が被覆されたディスクであ
る。この磁気ディスクには、磁気の強弱によりデータが
記録される。
【０００３】上記磁気ディスク用のガラス基板は、通常
以下に述べる製造工程によって製造される。
以下に述べる製造工程によって製造される。
【０００４】図９は、従来の磁気ディスク用ガラス基板
の製造工程図である。
の製造工程図である。
【０００５】まず、厚さ１．０ｍｍのガラス素板を準備
し（工程Ｐ１）、このガラス素板から外径８４ｍｍφ、
内径２５ｍｍφのドーナツ状のガラス円盤に割断する
（工程Ｐ２）。割断方法としては、レーザ光を割断線に
沿って照射して歪みを生じさせるか、ホイールカッタで
割断線を入れた後割断する。この割断線は、ガラス円盤
の外周、内周に沿って、夫々０．５〜１．０ｍｍ外側、
内側に設定される。
し（工程Ｐ１）、このガラス素板から外径８４ｍｍφ、
内径２５ｍｍφのドーナツ状のガラス円盤に割断する
（工程Ｐ２）。割断方法としては、レーザ光を割断線に
沿って照射して歪みを生じさせるか、ホイールカッタで
割断線を入れた後割断する。この割断線は、ガラス円盤
の外周、内周に沿って、夫々０．５〜１．０ｍｍ外側、
内側に設定される。
【０００６】続く工程Ｐ３では、ガラス円盤の外周側及
び内周側の割断面を研削及び面取りにより外周側及び内
周側の寸法を調整する。研削後の平均粗さＲａは、例え
ばＲａ＝０．３〜０．４μｍ、最大粗さＲｍａｘは、Ｒ
ｍａｘ＝３〜４μｍである。この研削及び面取りとして
は、ダイヤモンド砥石を使用して、ガラス円盤１枚ずつ
に対して第１段研削として＃３２４砥石（粗）、次に第
２段研削として＃５００砥石（細）により２段研削が行
われる。面取りは、４５度の角度で０．１５ｍｍずつ行
う。
び内周側の割断面を研削及び面取りにより外周側及び内
周側の寸法を調整する。研削後の平均粗さＲａは、例え
ばＲａ＝０．３〜０．４μｍ、最大粗さＲｍａｘは、Ｒ
ｍａｘ＝３〜４μｍである。この研削及び面取りとして
は、ダイヤモンド砥石を使用して、ガラス円盤１枚ずつ
に対して第１段研削として＃３２４砥石（粗）、次に第
２段研削として＃５００砥石（細）により２段研削が行
われる。面取りは、４５度の角度で０．１５ｍｍずつ行
う。
【０００７】次いで、外周端面研磨機により、例えば３
０枚を積層した状態でガラス円盤の外周端面を研磨（ポ
リッシング）する（工程Ｐ４）と共に、内周端面研磨機
により１００枚を積層した状態でガラス円盤の内周端面
を研磨（ポリッシング）する（工程Ｐ５）。これらの研
磨は、回転する積層ガラス円盤の該当研磨面に酸化セリ
ウムスラリーを散布しながら回転ブラシを当てることに
より行う。研磨後の平均粗さＲａは、例えばＲａ＝０．
０５〜０．４μｍ、最大粗さＲｍａｘは、Ｒｍａｘ＝
０．３〜２．５μｍである。
０枚を積層した状態でガラス円盤の外周端面を研磨（ポ
リッシング）する（工程Ｐ４）と共に、内周端面研磨機
により１００枚を積層した状態でガラス円盤の内周端面
を研磨（ポリッシング）する（工程Ｐ５）。これらの研
磨は、回転する積層ガラス円盤の該当研磨面に酸化セリ
ウムスラリーを散布しながら回転ブラシを当てることに
より行う。研磨後の平均粗さＲａは、例えばＲａ＝０．
０５〜０．４μｍ、最大粗さＲｍａｘは、Ｒｍａｘ＝
０．３〜２．５μｍである。
【０００８】さらに、工程Ｐ６では、回転するガラス円
盤の主表面を２つの酸化セリウムスラリー含浸パッドで
挟むことにより研磨する。次いで、温水、又はアルカリ
洗浄水若しくは純水によりガラス円盤に付着した研磨砥
粒等を洗浄し（工程Ｐ７）、さらに、ガラス円盤を化学
強化処理により強化し（工程Ｐ８）、最後に、温水、又
はアルカリ洗浄水若しくは純水によりガラス円盤にまだ
付着している塩や異物等を再度洗浄する（工程Ｐ９）。
盤の主表面を２つの酸化セリウムスラリー含浸パッドで
挟むことにより研磨する。次いで、温水、又はアルカリ
洗浄水若しくは純水によりガラス円盤に付着した研磨砥
粒等を洗浄し（工程Ｐ７）、さらに、ガラス円盤を化学
強化処理により強化し（工程Ｐ８）、最後に、温水、又
はアルカリ洗浄水若しくは純水によりガラス円盤にまだ
付着している塩や異物等を再度洗浄する（工程Ｐ９）。
【０００９】通常、磁気ディスクの内外周端面はデータ
の記録面としては使用されないが、上記製造工程中の工
程Ｐ３〜Ｐ５で、ガラス円盤の内外周端面に研削及び研
磨が施されるのは、工程Ｐ２で割断されたガラス円盤の
内外周側の割断面にはクラックや凹凸が必然的に残って
おり、このクラックがガラス円盤破損の原因になるこ
と、また、凹凸の窪みに該ガラス円盤の製造工程中に発
生する研磨砥粒等がたまったり、磁気ディスクとして高
速回転使用中に異物等が飛び出し、記録面に影響を与え
ることがあるからである。
の記録面としては使用されないが、上記製造工程中の工
程Ｐ３〜Ｐ５で、ガラス円盤の内外周端面に研削及び研
磨が施されるのは、工程Ｐ２で割断されたガラス円盤の
内外周側の割断面にはクラックや凹凸が必然的に残って
おり、このクラックがガラス円盤破損の原因になるこ
と、また、凹凸の窪みに該ガラス円盤の製造工程中に発
生する研磨砥粒等がたまったり、磁気ディスクとして高
速回転使用中に異物等が飛び出し、記録面に影響を与え
ることがあるからである。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法では、以下に
述べる問題がある。 （１）工程Ｐ３〜Ｐ５の研削及び面取り工程や研磨工程
に時間を要するばかりでなく、コストがかかり、加えて
ガラス円盤間の表面粗さのばらつきや、場所による表面
粗さのばらつきが生じる。 （２）ガラス円盤のセットを内周端面研磨機及び外周端
面研磨機毎に行わなければならないため、多くのオペレ
ータを必要とし、コストがかかる。 （３）内周端面研磨機で、例えば１００枚、外周端面研
磨機で、例えば３０枚のガラス円盤を加工能率向上のた
めに重ねて研磨するので、ガラス円盤の主表面同士が擦
れて傷がつく。 （４）工程Ｐ３〜Ｐ５の研削及び面取り工程や研磨工程
を経ても、例えば深さ１〜６０μｍのこまかいクラック
が残留する場合があり、ガラスの強度が低下する。さら
に、ガラス円盤の内外周端面にクラック等の傷が存在す
ると、化学強化処理を行ってもその強化度が十分に上が
らない。 （５）工程Ｐ３の研削加工時に発生する大粒のガラス粉
がガラス円盤の主表面に付着、固着して傷がつく。 （６）特に、工程Ｐ５では、回転するブラシを積層する
ガラス円盤に均等に当たらないことから生じる研磨ムラ
が生じ、ガラス円盤間に研磨の程度にばらつきが生じる
という問題が生じていた。
来の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法では、以下に
述べる問題がある。 （１）工程Ｐ３〜Ｐ５の研削及び面取り工程や研磨工程
に時間を要するばかりでなく、コストがかかり、加えて
ガラス円盤間の表面粗さのばらつきや、場所による表面
粗さのばらつきが生じる。 （２）ガラス円盤のセットを内周端面研磨機及び外周端
面研磨機毎に行わなければならないため、多くのオペレ
ータを必要とし、コストがかかる。 （３）内周端面研磨機で、例えば１００枚、外周端面研
磨機で、例えば３０枚のガラス円盤を加工能率向上のた
めに重ねて研磨するので、ガラス円盤の主表面同士が擦
れて傷がつく。 （４）工程Ｐ３〜Ｐ５の研削及び面取り工程や研磨工程
を経ても、例えば深さ１〜６０μｍのこまかいクラック
が残留する場合があり、ガラスの強度が低下する。さら
に、ガラス円盤の内外周端面にクラック等の傷が存在す
ると、化学強化処理を行ってもその強化度が十分に上が
らない。 （５）工程Ｐ３の研削加工時に発生する大粒のガラス粉
がガラス円盤の主表面に付着、固着して傷がつく。 （６）特に、工程Ｐ５では、回転するブラシを積層する
ガラス円盤に均等に当たらないことから生じる研磨ムラ
が生じ、ガラス円盤間に研磨の程度にばらつきが生じる
という問題が生じていた。
【００１１】本発明の目的は、情報記録媒体用ガラス基
板の内外周端面を低コストで容易に滑らかにすることが
できる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する
ことにある。
板の内外周端面を低コストで容易に滑らかにすることが
できる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する
ことにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の製造方法は、ドーナツ状の情報記録
媒体用ガラス円盤の外周端面及び内周端面の少なくとも
一方を発散光化されたレーザ光の照射によりガラスの軟
化点以上の温度に溶融加熱して滑面化する滑面化処理工
程を有することを特徴とする。
に、請求項１記載の製造方法は、ドーナツ状の情報記録
媒体用ガラス円盤の外周端面及び内周端面の少なくとも
一方を発散光化されたレーザ光の照射によりガラスの軟
化点以上の温度に溶融加熱して滑面化する滑面化処理工
程を有することを特徴とする。
【００１３】請求項１記載の製造方法によれば、ドーナ
ツ状の情報記録媒体用ガラス円盤の外周端面及び内周端
面の少なくとも一方を発散光化されたレーザ光の照射に
よりガラスの軟化点以上の温度に溶融加熱して滑面化す
るので、レーザ光がガラス円盤の主表面に照射されてそ
の面を溶融するのを確実に防止しつつ、ガラス円盤の外
周端面及び内周端面の少なくとも一方のエッジが丸くな
り、もって従来の方法における研磨工程を省くことがで
きることはもとより、研削工程において面取りを省くこ
とができる。
ツ状の情報記録媒体用ガラス円盤の外周端面及び内周端
面の少なくとも一方を発散光化されたレーザ光の照射に
よりガラスの軟化点以上の温度に溶融加熱して滑面化す
るので、レーザ光がガラス円盤の主表面に照射されてそ
の面を溶融するのを確実に防止しつつ、ガラス円盤の外
周端面及び内周端面の少なくとも一方のエッジが丸くな
り、もって従来の方法における研磨工程を省くことがで
きることはもとより、研削工程において面取りを省くこ
とができる。
【００１４】上記目的を達成するために、請求項２記載
の製造方法は、ドーナツ状の情報記録媒体用ガラス円盤
の外周端面及び内周端面の少なくとも一方をレーザ光照
射によりガラスの軟化点以上の温度に溶融加熱して滑面
化する滑面化処理工程を有し、前記滑面化処理の前又は
前記滑面化処理時に、前記ガラス円盤の全部又は一部を
抵抗加熱ヒータにより加熱することを特徴とする。
の製造方法は、ドーナツ状の情報記録媒体用ガラス円盤
の外周端面及び内周端面の少なくとも一方をレーザ光照
射によりガラスの軟化点以上の温度に溶融加熱して滑面
化する滑面化処理工程を有し、前記滑面化処理の前又は
前記滑面化処理時に、前記ガラス円盤の全部又は一部を
抵抗加熱ヒータにより加熱することを特徴とする。
【００１５】請求項３記載の製造方法は、請求項１又は
２記載の製造方法において、前記滑面化処理工程に先だ
ってガラス母材から前記ガラス円盤を円形に加工する加
工工程を有することを特徴とする。
２記載の製造方法において、前記滑面化処理工程に先だ
ってガラス母材から前記ガラス円盤を円形に加工する加
工工程を有することを特徴とする。
【００１６】本発明の情報記録媒体用ガラス基板のガラ
ス母材から円形に加工する方法としては、ガラス素板か
ら所定形状よりも若干大きな外径と所定形状よりも若干
小さな内径を有するドーナツ状の円を描くようにガラス
表面にカッターラインを入れ、その後カッターラインに
沿ってガラス素板を割断する円形加工法を採用すること
ができる。また、溶融ガラスを型枠内に流し込んで円形
に加工し、その後内周端面加工を施してドーナツ状にす
る円形加工法、又は溶融ガラスから直接内外周端面を有
するドーナツ状円盤となるように円形加工する方法を採
用することができる。
ス母材から円形に加工する方法としては、ガラス素板か
ら所定形状よりも若干大きな外径と所定形状よりも若干
小さな内径を有するドーナツ状の円を描くようにガラス
表面にカッターラインを入れ、その後カッターラインに
沿ってガラス素板を割断する円形加工法を採用すること
ができる。また、溶融ガラスを型枠内に流し込んで円形
に加工し、その後内周端面加工を施してドーナツ状にす
る円形加工法、又は溶融ガラスから直接内外周端面を有
するドーナツ状円盤となるように円形加工する方法を採
用することができる。
【００１７】請求項４記載の製造方法は、請求項３記載
の製造方法において、前記円形に加工されたガラス円盤
の外周端面及び内周端面を砥石を用いて研削する研削工
程を有することを特徴とする。
の製造方法において、前記円形に加工されたガラス円盤
の外周端面及び内周端面を砥石を用いて研削する研削工
程を有することを特徴とする。
【００１８】本発明の研削は、通常＃３００〜＃６００
番程度の粗さのダイヤモンド砥粒を円盤回転砥石の端面
に貼り付け、その砥石を回転させながらガラス円盤の内
外周端面に押し当てて研削し、内径及び外径の寸法を所
定寸法にする。
番程度の粗さのダイヤモンド砥粒を円盤回転砥石の端面
に貼り付け、その砥石を回転させながらガラス円盤の内
外周端面に押し当てて研削し、内径及び外径の寸法を所
定寸法にする。
【００１９】請求項５記載の製造方法は、請求項４記載
の製造方法において、前記研削工程の後で前記ガラス円
盤の外周端面及び／又は内周端面を所定形状に面取り加
工する面取り加工工程を有することを特徴とする。
の製造方法において、前記研削工程の後で前記ガラス円
盤の外周端面及び／又は内周端面を所定形状に面取り加
工する面取り加工工程を有することを特徴とする。
【００２０】本発明の面取り加工は、通常、＃５００〜
＃６００程度のダイヤモンド砥粒を用いる研磨が用いら
れる。この面取り加工により、ガラスの端面部分は、研
削により生じる凹凸の程度が小さくなり、ガラス粉や空
気中に浮遊する異物、研削砥粒が凹部に嵌り込んで、後
の洗浄などの工程を受けても除去されないということが
一層ないようにする。この面取り加工は、内周端面、外
周端面、又は両端面について行う。
＃６００程度のダイヤモンド砥粒を用いる研磨が用いら
れる。この面取り加工により、ガラスの端面部分は、研
削により生じる凹凸の程度が小さくなり、ガラス粉や空
気中に浮遊する異物、研削砥粒が凹部に嵌り込んで、後
の洗浄などの工程を受けても除去されないということが
一層ないようにする。この面取り加工は、内周端面、外
周端面、又は両端面について行う。
【００２１】請求項６記載の製造方法は、請求項１乃至
５のいずれか１項に記載の製造方法において、前記滑面
化処理工程で前記外周端面及び前記内周端面の双方を溶
融加熱することを特徴とする。
５のいずれか１項に記載の製造方法において、前記滑面
化処理工程で前記外周端面及び前記内周端面の双方を溶
融加熱することを特徴とする。
【００２２】本発明のレーザ光照射は、ガラス素板から
分離するときに生じるガラスの割断面、ダイヤモンド砥
粒を用いて研削されたガラスの研削面、ガラスの研削の
後、さらに所定形状に面取り加工された面に施される。
とりわけ研削面は、微小な凹凸が１０００倍程度の走査
型顕微鏡で観察すると多数存在し、凹部に研削粉、空気
中の浮遊塵埃、研削ガラス粉などが固着し易く、固着し
た異物は、その後ガラスが受ける記録面の研削や研磨の
工程、硝酸カリウムを含む溶融塩を用いる化学強化処
理、洗浄工程を経ると、脱落分離させることが容易でな
い。本発明のガラス円盤の端面のレーザ光照射による滑
面化処理は、ガラス円盤の内外周端面の全部又は一部を
加熱溶融によりガラスの流動を起こさせて滑らかにする
ので、ガラスを異物の付着や固着を生じることなく平滑
化することができる。
分離するときに生じるガラスの割断面、ダイヤモンド砥
粒を用いて研削されたガラスの研削面、ガラスの研削の
後、さらに所定形状に面取り加工された面に施される。
とりわけ研削面は、微小な凹凸が１０００倍程度の走査
型顕微鏡で観察すると多数存在し、凹部に研削粉、空気
中の浮遊塵埃、研削ガラス粉などが固着し易く、固着し
た異物は、その後ガラスが受ける記録面の研削や研磨の
工程、硝酸カリウムを含む溶融塩を用いる化学強化処
理、洗浄工程を経ると、脱落分離させることが容易でな
い。本発明のガラス円盤の端面のレーザ光照射による滑
面化処理は、ガラス円盤の内外周端面の全部又は一部を
加熱溶融によりガラスの流動を起こさせて滑らかにする
ので、ガラスを異物の付着や固着を生じることなく平滑
化することができる。
【００２３】請求項７記載の製造方法は、請求項６記載
の製造方法において、前記滑面化処理工程で、前記レー
ザ光を単一のレーザ発振器から出射し、当該出射したレ
ーザ光を前記内周端面及び前記外周端面に交互に照射す
ることを特徴とする。
の製造方法において、前記滑面化処理工程で、前記レー
ザ光を単一のレーザ発振器から出射し、当該出射したレ
ーザ光を前記内周端面及び前記外周端面に交互に照射す
ることを特徴とする。
【００２４】請求項８記載の製造方法は、請求項７記載
の製造方法において、前記滑面化処理工程で、前記レー
ザ光を単一のレーザ発振器から出射すると共に当該レー
ザ光を２つに分割し、当該分割されたレーザ光を前記内
周端面及び前記外周端面の双方に同時に照射することを
特徴とする。
の製造方法において、前記滑面化処理工程で、前記レー
ザ光を単一のレーザ発振器から出射すると共に当該レー
ザ光を２つに分割し、当該分割されたレーザ光を前記内
周端面及び前記外周端面の双方に同時に照射することを
特徴とする。
【００２５】請求項９記載の製造方法は、請求項６記載
の製造方法において、前記滑面化処理工程で、前記レー
ザ光を２つのレーザ発振器から夫々出射し、前記レーザ
発振器の一方から出射されたレーザ光を前記内周端面に
照射し、前記レーザ発振器の他方から発振されたレーザ
光を前記外周端面に照射することを特徴とする。
の製造方法において、前記滑面化処理工程で、前記レー
ザ光を２つのレーザ発振器から夫々出射し、前記レーザ
発振器の一方から出射されたレーザ光を前記内周端面に
照射し、前記レーザ発振器の他方から発振されたレーザ
光を前記外周端面に照射することを特徴とする。
【００２６】請求項１０記載の製造方法は、請求項１乃
至９のいずれか１項に記載の製造方法において、前記滑
面化処理工程で前記レーザ光に対する前記内周端面の相
対速度が０．０２〜５．０ｍ／分となるように前記ガラ
ス円盤を回転させることを特徴とする。
至９のいずれか１項に記載の製造方法において、前記滑
面化処理工程で前記レーザ光に対する前記内周端面の相
対速度が０．０２〜５．０ｍ／分となるように前記ガラ
ス円盤を回転させることを特徴とする。
【００２７】ガラスを１回転させて滑面化処理を完了さ
せる場合（即ち、ワンショット溶融）の場合は、周速を
０．２〜１．０ｍ／分とするのが好ましく、多数回の回
転を通してガラスを溶融滑面化する場合は、０．４〜５
ｍ／分とするのがよい。
せる場合（即ち、ワンショット溶融）の場合は、周速を
０．２〜１．０ｍ／分とするのが好ましく、多数回の回
転を通してガラスを溶融滑面化する場合は、０．４〜５
ｍ／分とするのがよい。
【００２８】請求項１１記載の製造方法は、請求項１０
記載の製造方法において、前記内周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度に対する前記外周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度の比が１より大きいことを特徴とす
る。
記載の製造方法において、前記内周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度に対する前記外周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度の比が１より大きいことを特徴とす
る。
【００２９】請求項１２記載の製造方法は、請求項１１
記載の製造方法において、前記内周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度に対する前記外周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度の比が２〜５であることを特徴とす
る。
記載の製造方法において、前記内周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度に対する前記外周端面への前記レーザ
光のエネルギ密度の比が２〜５であることを特徴とす
る。
【００３０】請求項１３記載の製造方法は、請求項１乃
至１２のいずれか１項に記載の製造方法において、前記
滑面化処理工程の後で前記ガラス円盤の主表面を研削且
つ研磨することを特徴とする。
至１２のいずれか１項に記載の製造方法において、前記
滑面化処理工程の後で前記ガラス円盤の主表面を研削且
つ研磨することを特徴とする。
【００３１】情報記録媒体用ガラス基板の主表面は、情
報の記録面、読み出し面として用いられるので、記録面
は平滑な面に仕上げられる。とりわけ、磁気記録媒体用
のガラス基板としては、ガラス円盤の主表面はダイヤモ
ンド固定砥粒により研削で厚みを所定厚みに調整され、
その後の酸化セリウム部粉末を含有する懸濁液を用いる
精密研磨により平滑にされる。このような砥粒や研磨用
の微粉末を用いる加工処理を受けても、本発明の溶融加
熱を伴う滑面化処理が施されたガラス円盤の端面は、そ
れらの残滓や研削や研磨により生じるガラス微粉が残
留、付着又は固着することが著しく抑制される。
報の記録面、読み出し面として用いられるので、記録面
は平滑な面に仕上げられる。とりわけ、磁気記録媒体用
のガラス基板としては、ガラス円盤の主表面はダイヤモ
ンド固定砥粒により研削で厚みを所定厚みに調整され、
その後の酸化セリウム部粉末を含有する懸濁液を用いる
精密研磨により平滑にされる。このような砥粒や研磨用
の微粉末を用いる加工処理を受けても、本発明の溶融加
熱を伴う滑面化処理が施されたガラス円盤の端面は、そ
れらの残滓や研削や研磨により生じるガラス微粉が残
留、付着又は固着することが著しく抑制される。
【００３２】請求項１４記載の製造方法は、請求項１３
記載の製造方法において、前記ガラス円盤は、母ガラス
がアルカリ酸化物成分としてＬｉ2Ｏ及びＮａ2Ｏのいず
れか一方を含有するシリケートガラスから成り、前記滑
面化処理されたガラス円盤の表面層のアルカリ成分を前
記アルカリ酸化物成分より大きなイオン半径を有するア
ルカリ成分に置換するガラスの化学強化処理工程をさら
に有することを特徴とする。
記載の製造方法において、前記ガラス円盤は、母ガラス
がアルカリ酸化物成分としてＬｉ2Ｏ及びＮａ2Ｏのいず
れか一方を含有するシリケートガラスから成り、前記滑
面化処理されたガラス円盤の表面層のアルカリ成分を前
記アルカリ酸化物成分より大きなイオン半径を有するア
ルカリ成分に置換するガラスの化学強化処理工程をさら
に有することを特徴とする。
【００３３】請求項１４記載の製造方法によれば、ガラ
ス円盤は、母ガラスがアルカリ酸化物成分としてＬｉ2
Ｏ及びＮａ2Ｏのいずれか一方を含有するシリケートガ
ラスから成り、滑面化処理されたガラス円盤の表面層を
アルカリ成分をアルカリ酸化物成分より大きなイオン半
径を有するアルカリ成分に置換するので、ガラス円盤の
強度を向上させることができる。
ス円盤は、母ガラスがアルカリ酸化物成分としてＬｉ2
Ｏ及びＮａ2Ｏのいずれか一方を含有するシリケートガ
ラスから成り、滑面化処理されたガラス円盤の表面層を
アルカリ成分をアルカリ酸化物成分より大きなイオン半
径を有するアルカリ成分に置換するので、ガラス円盤の
強度を向上させることができる。
【００３４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を図面を参照して
説明する。
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を図面を参照して
説明する。
【００３５】図１は、本発明の実施の形態に係る情報記
録媒体用ガラス基板の製造工程図である。
録媒体用ガラス基板の製造工程図である。
【００３６】まず、厚さ１．０ｍｍのガラス素板を準備
する（工程Ｐ１１）。このガラス素板は、母ガラスが、
アルカリ等の化学的耐久性や剛性を有するシリケートガ
ラスや、シリケートガラスを熱処理により結晶化した結
晶化ガラスから成る。
する（工程Ｐ１１）。このガラス素板は、母ガラスが、
アルカリ等の化学的耐久性や剛性を有するシリケートガ
ラスや、シリケートガラスを熱処理により結晶化した結
晶化ガラスから成る。
【００３７】シリケートガラスとしては、例えば、建築
用の窓ガラスに用いられるソーダライムシリケートガラ
ス、アルミノシリケートガラス、硼珪酸シリケートガラ
ス、易化学強化ガラス等が例示できる。易化学強化ガラ
スは、硝酸カリウム溶融塩にガラスを接触させてガラス
中のリチウム成分やナトリウム成分をイオン半径がより
大きなカリウムイオンに交換したり、またガラスを硝酸
ナトリウム溶融塩に接触させてガラス中のリチウムイオ
ンをイオン半径がより大きなナトリウムイオンに交換す
ることにより、表面層（約５０〜２００μｍ）に圧縮応
力を形成したものである。このようなガラスとしては、
主成分として質量％でＳｉＯ2：６０〜６５％、Ａｌ2Ｏ
3：１０〜２０％、ＭｇＯ：０〜５％、ＣａＯ：０〜５
％、Ｌｉ2Ｏ：２〜１０％、Ｎａ2Ｏ：５〜１５％を含有
するものが例示できる。また、結晶化ガラスは、ＳｉＯ
2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、Ｐ2Ｏ3、ＺｒＯ、Ｃｅ
Ｏ2、ＴｉＯ2、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選択された成分を主
成分とするものである。
用の窓ガラスに用いられるソーダライムシリケートガラ
ス、アルミノシリケートガラス、硼珪酸シリケートガラ
ス、易化学強化ガラス等が例示できる。易化学強化ガラ
スは、硝酸カリウム溶融塩にガラスを接触させてガラス
中のリチウム成分やナトリウム成分をイオン半径がより
大きなカリウムイオンに交換したり、またガラスを硝酸
ナトリウム溶融塩に接触させてガラス中のリチウムイオ
ンをイオン半径がより大きなナトリウムイオンに交換す
ることにより、表面層（約５０〜２００μｍ）に圧縮応
力を形成したものである。このようなガラスとしては、
主成分として質量％でＳｉＯ2：６０〜６５％、Ａｌ2Ｏ
3：１０〜２０％、ＭｇＯ：０〜５％、ＣａＯ：０〜５
％、Ｌｉ2Ｏ：２〜１０％、Ｎａ2Ｏ：５〜１５％を含有
するものが例示できる。また、結晶化ガラスは、ＳｉＯ
2、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、Ｐ2Ｏ3、ＺｒＯ、Ｃｅ
Ｏ2、ＴｉＯ2、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選択された成分を主
成分とするものである。
【００３８】また、結晶化ガラスとしては、特にその組
成が限定されていないが、例えば質量％でＳｉＯ2：７
０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3：２〜８％、Ｋ2Ｏ：１〜７％、
Ｌｉ2Ｏ：５〜１５％、Ｐ2Ｏ5：１〜５％を含有する結
晶化ガラスは、レーザ光照射熱割れを生じることなく端
面の滑面化処理をすることができる。
成が限定されていないが、例えば質量％でＳｉＯ2：７
０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3：２〜８％、Ｋ2Ｏ：１〜７％、
Ｌｉ2Ｏ：５〜１５％、Ｐ2Ｏ5：１〜５％を含有する結
晶化ガラスは、レーザ光照射熱割れを生じることなく端
面の滑面化処理をすることができる。
【００３９】上記ガラス素板は、フロートガラス製造
法、ダウンドロー製造法などにより板状に成形される。
法、ダウンドロー製造法などにより板状に成形される。
【００４０】このガラス素板から外径８４ｍｍφ、内径
２５ｍｍφのドーナツ状ガラス円盤を割断する（工程Ｐ
１２）。割断方法としては、レーザ光を割断線に沿って
照射して歪みを生じさせるか、ホイールカッタで割断線
を入れた後割断する。この割断線は、ガラス円盤の外
周、内周に沿って、夫々０．５〜１．０ｍｍ外側、内側
に設定される。
２５ｍｍφのドーナツ状ガラス円盤を割断する（工程Ｐ
１２）。割断方法としては、レーザ光を割断線に沿って
照射して歪みを生じさせるか、ホイールカッタで割断線
を入れた後割断する。この割断線は、ガラス円盤の外
周、内周に沿って、夫々０．５〜１．０ｍｍ外側、内側
に設定される。
【００４１】続く工程Ｐ１３では、ガラス円盤の外周側
及び内周側の割断面を研削及び面取りにより外周側及び
内周側の寸法を調整する。研削後の表面粗さＲａは、例
えばＲａ＝０．３〜０．４μｍ、Ｒｍａｘ＝３〜４μｍ
である。この研削としては、ダイヤモンド砥石を使用し
て、ガラス円盤１枚ずつに対して第１段研削として＃３
２４砥石（粗）で行い、次に第２段研削として＃５００
砥石（細）で第２段研削が行われる。
及び内周側の割断面を研削及び面取りにより外周側及び
内周側の寸法を調整する。研削後の表面粗さＲａは、例
えばＲａ＝０．３〜０．４μｍ、Ｒｍａｘ＝３〜４μｍ
である。この研削としては、ダイヤモンド砥石を使用し
て、ガラス円盤１枚ずつに対して第１段研削として＃３
２４砥石（粗）で行い、次に第２段研削として＃５００
砥石（細）で第２段研削が行われる。
【００４２】次に、後述するレーザ光照射装置によりガ
ラス円盤の内周端面及び外周端面の双方にレーザ光を照
射してガラスの軟化点以上の温度、例えば７５０℃以
上、例えば１０００℃近傍に加熱することにより内外周
端面を溶融により滑面化する（工程Ｐ１４）。これによ
り、内外周端面上に傷や微細なクラックのない圧縮層を
形成することができ、もってガラス円盤の機械的強度を
向上させることができる。
ラス円盤の内周端面及び外周端面の双方にレーザ光を照
射してガラスの軟化点以上の温度、例えば７５０℃以
上、例えば１０００℃近傍に加熱することにより内外周
端面を溶融により滑面化する（工程Ｐ１４）。これによ
り、内外周端面上に傷や微細なクラックのない圧縮層を
形成することができ、もってガラス円盤の機械的強度を
向上させることができる。
【００４３】その後、情報記録膜が被覆されるガラス円
盤の主表面（情報記録面）をダイヤモンド砥石を用いる
研削及び酸化セリウムの懸濁液を用いる精密研磨により
ガラス円盤の厚みを所定の厚みにすると共に、その表面
を滑面化する（工程Ｐ１５）。そして、研磨砥粒などを
除去するための洗浄を行う（工程Ｐ１６）。
盤の主表面（情報記録面）をダイヤモンド砥石を用いる
研削及び酸化セリウムの懸濁液を用いる精密研磨により
ガラス円盤の厚みを所定の厚みにすると共に、その表面
を滑面化する（工程Ｐ１５）。そして、研磨砥粒などを
除去するための洗浄を行う（工程Ｐ１６）。
【００４４】次いで、上記ガラス円盤を化学強化処理に
よりさらに強化し、高速回転使用時の強度をより確実に
確保する（工程Ｐ１７）。この化学強化処理は、ガラス
円盤を強化するためにガラス円盤表面層中のアルカリ成
分をイオン半径がより大きいものに置き換えるものであ
る。具体的には、ガラス円盤を４００〜４５０℃硝酸カ
リウム（ＫＮＯ3）と硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）の場
合、溶融塩に２〜５時間ガラス円盤を浸漬することによ
り、ガラス円盤表面層中のナトリウムイオンをカリウム
イオンに、リチウムイオンをナトリウムイオン上に置換
することによりガラス円盤を強化することができる。
よりさらに強化し、高速回転使用時の強度をより確実に
確保する（工程Ｐ１７）。この化学強化処理は、ガラス
円盤を強化するためにガラス円盤表面層中のアルカリ成
分をイオン半径がより大きいものに置き換えるものであ
る。具体的には、ガラス円盤を４００〜４５０℃硝酸カ
リウム（ＫＮＯ3）と硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）の場
合、溶融塩に２〜５時間ガラス円盤を浸漬することによ
り、ガラス円盤表面層中のナトリウムイオンをカリウム
イオンに、リチウムイオンをナトリウムイオン上に置換
することによりガラス円盤を強化することができる。
【００４５】次いで、化学強化処理が実施されたガラス
円盤を温水、又はアルカリ洗浄水若しくは純水により、
ガラス円盤に付着した塩や異物等を洗浄する（工程Ｐ１
８）。
円盤を温水、又はアルカリ洗浄水若しくは純水により、
ガラス円盤に付着した塩や異物等を洗浄する（工程Ｐ１
８）。
【００４６】図２は、図１の工程Ｐ１４で使用されるレ
ーザ光照射装置の一例の部分断面図である。
ーザ光照射装置の一例の部分断面図である。
【００４７】図２において、ディスク状の水平ワークテ
ーブル１１は垂直軸１２に接続しており、図示しないモ
ータによって鉛直軸１２の回りに回転する。ワークテー
ブル１１の上面上には、環状の２つの座１３を介して磁
気ディスク用ガラス円盤１４が載置され、ワークテーブ
ル１１と共に回転する。このガラス円盤１４は、上記工
程Ｐ１１〜Ｐ１３において、ガラス素板から割断される
と共に、その内外周端面１５，１６が研削されたもので
ある。
ーブル１１は垂直軸１２に接続しており、図示しないモ
ータによって鉛直軸１２の回りに回転する。ワークテー
ブル１１の上面上には、環状の２つの座１３を介して磁
気ディスク用ガラス円盤１４が載置され、ワークテーブ
ル１１と共に回転する。このガラス円盤１４は、上記工
程Ｐ１１〜Ｐ１３において、ガラス素板から割断される
と共に、その内外周端面１５，１６が研削されたもので
ある。
【００４８】また、ワークテーブル１１の上面には、ワ
ークテーブル１１と同軸的に環状の溝１７が形成されて
いる。溝１７の側壁及び底壁には断熱材１８が配され、
その中にはガラス円盤１４を加熱するための電気ヒータ
１９が嵌め込まれている。この電気ヒータ１９は、ガラ
ス円盤１４をガラスを予熱するためのものである。
ークテーブル１１と同軸的に環状の溝１７が形成されて
いる。溝１７の側壁及び底壁には断熱材１８が配され、
その中にはガラス円盤１４を加熱するための電気ヒータ
１９が嵌め込まれている。この電気ヒータ１９は、ガラ
ス円盤１４をガラスを予熱するためのものである。
【００４９】本レーザ光照射装置は、単一のレーザ発振
器２０を有している。レーザ発振器２０は、水平方向に
レーザ光を出射発振し、この出射されたレーザ光はコリ
メータ２１によって平行なレーザ光２２となる。レーザ
光２２は、ガルバノスキャンミラー２３によって、水平
方向のレーザ光２４と、鉛直方向下方のレーザ光２５と
に交互に振り分けられる。レーザ光２４は、２つの静止
ミラー２６，２７によりガラス円盤１４の内周端面１５
に照射され、レーザ光２５は、１つの静止ミラー２８に
よりガラス円盤１４の外周端面１６に照射される。
器２０を有している。レーザ発振器２０は、水平方向に
レーザ光を出射発振し、この出射されたレーザ光はコリ
メータ２１によって平行なレーザ光２２となる。レーザ
光２２は、ガルバノスキャンミラー２３によって、水平
方向のレーザ光２４と、鉛直方向下方のレーザ光２５と
に交互に振り分けられる。レーザ光２４は、２つの静止
ミラー２６，２７によりガラス円盤１４の内周端面１５
に照射され、レーザ光２５は、１つの静止ミラー２８に
よりガラス円盤１４の外周端面１６に照射される。
【００５０】図２のレーザ光照射装置において、ワーク
テーブル１の回転速度は、ガラス円盤１４の内周端面１
９の周速が０．０２〜５．０ｍｍ／分になるように設定
される。
テーブル１の回転速度は、ガラス円盤１４の内周端面１
９の周速が０．０２〜５．０ｍｍ／分になるように設定
される。
【００５１】レーザ発振器２０としては、ＹＡＧレーザ
でも炭酸ガスレーザでもよいが、特に炭酸ガスレーザが
吸収率の点から好ましい。
でも炭酸ガスレーザでもよいが、特に炭酸ガスレーザが
吸収率の点から好ましい。
【００５２】レーザ光２０の波長はその主波長が２５０
〜２０，０００ｎｍであるのがよく、より好ましくは９
００〜１２，０００ｎｍであるのがよい。
〜２０，０００ｎｍであるのがよく、より好ましくは９
００〜１２，０００ｎｍであるのがよい。
【００５３】また、レーザ発振器２０から出射されるレ
ーザ光２４，２５のエネルギ密度は、エネルギ密度を高
くしてもガラス表面の熔解速度は上昇を期待できず、一
方、エネルギ密度が低い場合はガラスの温度を十分に上
昇させることができないので、エネルギ密度は、１〜２
０Ｗ／ｍｍ2であるのが好ましく、より好ましくは、１
〜１０Ｗ／ｍｍ2であるのがよい。
ーザ光２４，２５のエネルギ密度は、エネルギ密度を高
くしてもガラス表面の熔解速度は上昇を期待できず、一
方、エネルギ密度が低い場合はガラスの温度を十分に上
昇させることができないので、エネルギ密度は、１〜２
０Ｗ／ｍｍ2であるのが好ましく、より好ましくは、１
〜１０Ｗ／ｍｍ2であるのがよい。
【００５４】従って、レーザ光２４，２５のパワーとし
ては、０．７〜１００Ｗであるのが好ましい。さらに、
レーザ光２４のエネルギ密度に対するレーザ光２５のエ
ネルギ密度の比が１より大きいのが望ましく、ガラス円
盤の内径に対する外径の比に等しいのが好ましい。これ
により、ガラス円盤の内外周端面の単位長さ当たりのレ
ーザ光照射量を内外周端面で等しくすることができる。
具体的には、表１に示すような磁気ディスク公称サイズ
に対する外径／内径比は２．８〜４．０であることか
ら、上記エネルギ密度の比は２〜５であるのが好まし
い。
ては、０．７〜１００Ｗであるのが好ましい。さらに、
レーザ光２４のエネルギ密度に対するレーザ光２５のエ
ネルギ密度の比が１より大きいのが望ましく、ガラス円
盤の内径に対する外径の比に等しいのが好ましい。これ
により、ガラス円盤の内外周端面の単位長さ当たりのレ
ーザ光照射量を内外周端面で等しくすることができる。
具体的には、表１に示すような磁気ディスク公称サイズ
に対する外径／内径比は２．８〜４．０であることか
ら、上記エネルギ密度の比は２〜５であるのが好まし
い。
【００５５】
【表１】
【００５６】上記エネルギ密度の比は、ガルバノスキャ
ンミラー２３の各位置の停止時間を調整することにより
実現することができる。
ンミラー２３の各位置の停止時間を調整することにより
実現することができる。
【００５７】上記レーザ光照射装置において、ガルバノ
スキャンミラー２３に代えて、図３に示すようなモータ
３０によって回転される半円板状ミラー（チョッパ）３
１によってレーザ光２２をレーザ光２４，２５に交互に
振り分けてもよく、図示しない静止ハーフミラーを用い
てレーザ光２２を２つのレーザ光２４，２５に分光する
ことにより、レーザ光２４をガラス円盤１４の内周端面
１５に、レーザ光２５をガラス円盤１４の外周端面１６
に同時に照射してもよい。ハーフミラーによりレーザ光
の分光を行う場合はレーザ光２４のパワーに対するレー
ザ光２５のパワーの比の変更はハーフミラーの反射率を
変えることにより実現することができる。
スキャンミラー２３に代えて、図３に示すようなモータ
３０によって回転される半円板状ミラー（チョッパ）３
１によってレーザ光２２をレーザ光２４，２５に交互に
振り分けてもよく、図示しない静止ハーフミラーを用い
てレーザ光２２を２つのレーザ光２４，２５に分光する
ことにより、レーザ光２４をガラス円盤１４の内周端面
１５に、レーザ光２５をガラス円盤１４の外周端面１６
に同時に照射してもよい。ハーフミラーによりレーザ光
の分光を行う場合はレーザ光２４のパワーに対するレー
ザ光２５のパワーの比の変更はハーフミラーの反射率を
変えることにより実現することができる。
【００５８】また、ミラー２７，２８は図４に示すよう
に凸面状であるのが好ましい。これにより、ガラス円盤
１４の内外周端面１５，１６へのレーザ光２４，２５を
発散光２９とすることができ、レーザ光２４，２５がガ
ラス円盤１４の主表面に照射されるのを防止してその面
が溶融するのを確実に防止することができる。この場合
の発散光の開き角度は、例えば１〜３度が好ましい。こ
のレーザ光２４，２５の発散光化は、凸面状のミラー２
７，２８を用いずに、レーザ光をコリメータ２１により
平行化を完全に行わないで発散光化することにより実現
してもよいことは言うまでもない。
に凸面状であるのが好ましい。これにより、ガラス円盤
１４の内外周端面１５，１６へのレーザ光２４，２５を
発散光２９とすることができ、レーザ光２４，２５がガ
ラス円盤１４の主表面に照射されるのを防止してその面
が溶融するのを確実に防止することができる。この場合
の発散光の開き角度は、例えば１〜３度が好ましい。こ
のレーザ光２４，２５の発散光化は、凸面状のミラー２
７，２８を用いずに、レーザ光をコリメータ２１により
平行化を完全に行わないで発散光化することにより実現
してもよいことは言うまでもない。
【００５９】図５は、図１の工程Ｐ１４で使用されるレ
ーザ光照射装置の変形例の部分断面図である。
ーザ光照射装置の変形例の部分断面図である。
【００６０】図５において、ドーナツ状の水平ワークテ
ーブル４１は、椀状部４２を介して垂直軸４３に接続し
ており、図示しないモータによって鉛直軸の回りに回転
する。ワークテーブル４１上の上面上には、環状の２つ
の座４４を介して磁気ディスク用ガラス円盤４６が載置
され、ワークテーブル４１と共に回転する。
ーブル４１は、椀状部４２を介して垂直軸４３に接続し
ており、図示しないモータによって鉛直軸の回りに回転
する。ワークテーブル４１上の上面上には、環状の２つ
の座４４を介して磁気ディスク用ガラス円盤４６が載置
され、ワークテーブル４１と共に回転する。
【００６１】このガラス円盤４６は、図２におけるガラ
ス円盤１４と同様に作製されたものであり、内周端面４
７及び外周端面４８を有する。また、ワークテーブル４
１の上面には、図２におけるワークテーブル１１と同様
にヒータ並びにそれに付随する溝や断熱材が設けられて
いるが、本図ではそれらを省略している。
ス円盤１４と同様に作製されたものであり、内周端面４
７及び外周端面４８を有する。また、ワークテーブル４
１の上面には、図２におけるワークテーブル１１と同様
にヒータ並びにそれに付随する溝や断熱材が設けられて
いるが、本図ではそれらを省略している。
【００６２】本レーザ光照射装置は、ガラス円盤４６の
外周端面４８用のレーザ発振器５０と、同内周端面４７
用のレーザ発振器５１とを備える。レーザ発振器５０か
ら出射されたレーザ光は、コリメータ５２を介して平行
レーザ光５３となり、ミラー５４を介してガラス円盤４
６の外周端面４８に照射される。一方、レーザ発振器５
１から出射されたレーザ光はコリメータ５５で平行なレ
ーザ光５６となり、ガラス円盤４６と同レベルに配置さ
れたガルバノスキャンミラー５７により、ガラス円盤４
６の上方と下方とに交互に振り分けられる。これらの振
り分けられたレーザ光６０，６１は、夫々ミラー５８，
５９を介してガラス円盤４６の内周端面４７に交互に照
射される。なお、椀形部４２には、レーザ光６１の障害
にならないように適宜に開口部６２が設けられている。
この開口部６２の位置は、ガルバノスキャナミラー５７
の動作速度及びワークテーブル４１の回転速度との関係
から計算設定することができる。
外周端面４８用のレーザ発振器５０と、同内周端面４７
用のレーザ発振器５１とを備える。レーザ発振器５０か
ら出射されたレーザ光は、コリメータ５２を介して平行
レーザ光５３となり、ミラー５４を介してガラス円盤４
６の外周端面４８に照射される。一方、レーザ発振器５
１から出射されたレーザ光はコリメータ５５で平行なレ
ーザ光５６となり、ガラス円盤４６と同レベルに配置さ
れたガルバノスキャンミラー５７により、ガラス円盤４
６の上方と下方とに交互に振り分けられる。これらの振
り分けられたレーザ光６０，６１は、夫々ミラー５８，
５９を介してガラス円盤４６の内周端面４７に交互に照
射される。なお、椀形部４２には、レーザ光６１の障害
にならないように適宜に開口部６２が設けられている。
この開口部６２の位置は、ガルバノスキャナミラー５７
の動作速度及びワークテーブル４１の回転速度との関係
から計算設定することができる。
【００６３】上記レーザ光照射装置において、ガルバノ
スキャンミラー５７に代えて、モータによって回動する
半円板状ミラーや静止ハーフミラーを用いてもよいこと
は、図２のレーザ光照射装置と同様であり、また、レー
ザ光６２，６１のエネルギ密度に対するレーザ光５３の
エネルギ密度の比の設定、ミラー５４，５７，５８の凸
面状化等についても図２のレーザ光照射装置と同様であ
ることは言うまでもない。
スキャンミラー５７に代えて、モータによって回動する
半円板状ミラーや静止ハーフミラーを用いてもよいこと
は、図２のレーザ光照射装置と同様であり、また、レー
ザ光６２，６１のエネルギ密度に対するレーザ光５３の
エネルギ密度の比の設定、ミラー５４，５７，５８の凸
面状化等についても図２のレーザ光照射装置と同様であ
ることは言うまでもない。
【００６４】上記実施の形態においては、ガラス円盤１
４，４６の内外周端面の双方がレーザ光照射されている
が、レーザ光照射されるのが内外周端面のいずれか一方
のみであってもよい。
４，４６の内外周端面の双方がレーザ光照射されている
が、レーザ光照射されるのが内外周端面のいずれか一方
のみであってもよい。
【００６５】また、上記実施の形態においては、ガラス
円盤１４，４６のサイズは、外径８４ｍｍ、内径２５ｍ
ｍ、厚さ１．０ｍｍとしているが、これら外径、内径、
厚さはこれらの寸法以外の全ての寸法を含むことは言う
までもない。
円盤１４，４６のサイズは、外径８４ｍｍ、内径２５ｍ
ｍ、厚さ１．０ｍｍとしているが、これら外径、内径、
厚さはこれらの寸法以外の全ての寸法を含むことは言う
までもない。
【００６６】図１の製造工程によれば、レーザ光照射前
は、ガラス円盤１４，４６の内外周端面に図６（ａ）に
示すようにダイヤモンド砥石の粗さ相当分が残っている
が、レーザ光照射後は、該周面が滑らかになっていると
共に、エッジが丸くなっている（図６（ｂ））。つま
り、従来の方法における研磨工程Ｐ４，Ｐ５を省くこと
ができることはもとより、研削工程Ｐ３において面取り
を省くことができる。
は、ガラス円盤１４，４６の内外周端面に図６（ａ）に
示すようにダイヤモンド砥石の粗さ相当分が残っている
が、レーザ光照射後は、該周面が滑らかになっていると
共に、エッジが丸くなっている（図６（ｂ））。つま
り、従来の方法における研磨工程Ｐ４，Ｐ５を省くこと
ができることはもとより、研削工程Ｐ３において面取り
を省くことができる。
【００６７】本発明のレーザ光照射によるガラスの流動
又は溶融を伴う滑面化処理工程による内外周端面の滑面
化は、ガラスの凸部と同時に凹部についてもガラスの溶
融、流動が生じるものと考えられる。凸部のガラスは、
凹部に流動し、迅速に表面の滑面化が行われる。滑面化
が研削砥粒や酸化セリウムなどの金属酸化物微粒子を用
いることなく行われる本発明は、ガラス円盤と接触する
ものはレーザ光線のみであるので、即ちドライ状態で行
われるので、ガラスの滑面化処理工程でガラスが汚れ
ず、異物の付着も生じない。また、ガラス円盤の内外周
端面にレーザ光のエネルギを集中させることにより、短
時間で滑面化処理を行うことができる。
又は溶融を伴う滑面化処理工程による内外周端面の滑面
化は、ガラスの凸部と同時に凹部についてもガラスの溶
融、流動が生じるものと考えられる。凸部のガラスは、
凹部に流動し、迅速に表面の滑面化が行われる。滑面化
が研削砥粒や酸化セリウムなどの金属酸化物微粒子を用
いることなく行われる本発明は、ガラス円盤と接触する
ものはレーザ光線のみであるので、即ちドライ状態で行
われるので、ガラスの滑面化処理工程でガラスが汚れ
ず、異物の付着も生じない。また、ガラス円盤の内外周
端面にレーザ光のエネルギを集中させることにより、短
時間で滑面化処理を行うことができる。
【００６８】これに対して、従来技術の研削と研磨を組
み合わせた滑面化処理工程による内外周端面の滑面化
は、凸部を上から順番に削っていき、その研削面が凹部
の底のレベルまで行う必要があり、これを工業的な加工
の生産性を確保しながら行うには、研削速度が大きい粗
い砥粒を用いるのがよいが、滑面化するには限界があ
る。そのため研削スピードと滑面化をバランスよく行う
ために、通常異なる大きさの砥粒による研削を多段に組
み合わせることが行われるが、設備を複数設置しなけれ
ばならないという設備コストや、加工処理時間が長くな
るなどの問題がある。本発明の滑面化は、上記従来の技
術が有する欠点をもたない特徴がある。
み合わせた滑面化処理工程による内外周端面の滑面化
は、凸部を上から順番に削っていき、その研削面が凹部
の底のレベルまで行う必要があり、これを工業的な加工
の生産性を確保しながら行うには、研削速度が大きい粗
い砥粒を用いるのがよいが、滑面化するには限界があ
る。そのため研削スピードと滑面化をバランスよく行う
ために、通常異なる大きさの砥粒による研削を多段に組
み合わせることが行われるが、設備を複数設置しなけれ
ばならないという設備コストや、加工処理時間が長くな
るなどの問題がある。本発明の滑面化は、上記従来の技
術が有する欠点をもたない特徴がある。
【００６９】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００７０】本実施例においては、表２に示すサンプル
について以下の実験を行った。
について以下の実験を行った。
【００７１】
【表２】
【００７２】（実施例１）
外径８４ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ０．８ｍｍの磁気記
録媒体用ガラス基板のサンプルを下記の工程１）から順
次工程８）を経ることにより作製した。
録媒体用ガラス基板のサンプルを下記の工程１）から順
次工程８）を経ることにより作製した。
【００７３】工程１）ガラス素板の準備
主成分として、質量％で、ＳｉＯ2：６３．３％、Ａｌ2
Ｏ3：１６．３％、Ｋ2Ｏ：０．４％、ＭｇＯ：１．９
％、ＣａＯ：３．８％、Ｌｉ2Ｏ3：３．７％、Ｎａ
2Ｏ：１０．６％のアルミニウムのシリケートガラスを
フロートガラス製造方法で板状に成形したものをガラス
素板とした。
Ｏ3：１６．３％、Ｋ2Ｏ：０．４％、ＭｇＯ：１．９
％、ＣａＯ：３．８％、Ｌｉ2Ｏ3：３．７％、Ｎａ
2Ｏ：１０．６％のアルミニウムのシリケートガラスを
フロートガラス製造方法で板状に成形したものをガラス
素板とした。
【００７４】工程２）ガラス円盤の割断
上記外径より若干大きい寸法に、また上記内径より若干
小さな寸法にダイヤモンドカッタで割断線をガラス素板
表面に入れ、外力を加えて割断線に沿ってガラス円盤に
割断し、５００枚のガラス円盤を作製した。
小さな寸法にダイヤモンドカッタで割断線をガラス素板
表面に入れ、外力を加えて割断線に沿ってガラス円盤に
割断し、５００枚のガラス円盤を作製した。
【００７５】工程３Ａ）内外周端面の研削・研磨
固定治具によりガラス円盤を固定し、＃３２４粗さのダ
イヤモンド砥粒を固着した回転砥粒をガラス端面に当て
つけて、所定の内径及び外径寸法になるまで研削した。
イヤモンド砥粒を固着した回転砥粒をガラス端面に当て
つけて、所定の内径及び外径寸法になるまで研削した。
【００７６】工程３Ｂ）内外周端面の第２段研削
固定治具によりガラス円盤を固定し、＃５００粗さのダ
イヤモンド砥粒を固着した回転砥石をガラス端面に当て
つけて、端面の粗さをさらに細かくし、その後水洗いに
よりガラス円盤を洗浄した。
イヤモンド砥粒を固着した回転砥石をガラス端面に当て
つけて、端面の粗さをさらに細かくし、その後水洗いに
よりガラス円盤を洗浄した。
【００７７】工程３Ｃ）内外周端面の精密研磨
内周端面及び外周端面を研削したガラス円盤を１００枚
重ねて固定し、図７に示すように、積層ガラス円盤１の
内周端面２及び外周端面３に回転する樹脂製の円筒状回
転ブラシ４，５を押し当てると共に、酸化セリウムの微
粉末を含有する懸濁液を供給管６，７により供給して、
内外周端面（いずれも端面及びエッジ部）の精密研磨を
行い、その後水洗いによりガラス円盤を洗浄した。
重ねて固定し、図７に示すように、積層ガラス円盤１の
内周端面２及び外周端面３に回転する樹脂製の円筒状回
転ブラシ４，５を押し当てると共に、酸化セリウムの微
粉末を含有する懸濁液を供給管６，７により供給して、
内外周端面（いずれも端面及びエッジ部）の精密研磨を
行い、その後水洗いによりガラス円盤を洗浄した。
【００７８】工程４）内外周端面レーザ光照射
次に、内周及び外周の精密研磨を行ったガラス円盤の端
面について１枚ずつレーザ光照射により滑面化処理を行
った。滑面化処理条件は、図２に示すレーザ光照射装置
により下記の条件で行った。 （１）レーザ発振器 炭酸ガスレーザ（最大定格４０
Ｗ） （２）照射レーザビーム径 直径３ｍｍの円 （３）レーザパワー密度 ４Ｗ／ｍｍ2 （４）レーザ光照射方法 端面各部に１回の走査（レン
ズにより発散光に調整） （５）ガラス円盤の外周速度 ０．５ｍｍ／分 （６）ガラスの加熱 半径方向中央部を約２００℃にニ
クロム電熱ヒータにより加熱 工程５）主表面（情報記録面）の研削・研磨 ガラス円盤の外径よりも若干大きな内径の穴を複数有す
る樹脂製のキャリア内にレーザ光照射したガラス円盤を
セットし、ガラス円盤を＃５００粗さのダイヤモンド砥
粒を固着させた上定盤及び下定盤で挟んで押圧し、定盤
を回転させながらガラス円盤の主表面を湿式研削した。
さらに、ダイヤモンド砥石に代えて定盤に樹脂パッドを
固着した定盤を有する研磨機を用いて、＃１０００粗さ
の酸化セリウム微粉末をガラス円盤の主表面に供給しな
がら研削の後段として精密研磨を行った。
面について１枚ずつレーザ光照射により滑面化処理を行
った。滑面化処理条件は、図２に示すレーザ光照射装置
により下記の条件で行った。 （１）レーザ発振器 炭酸ガスレーザ（最大定格４０
Ｗ） （２）照射レーザビーム径 直径３ｍｍの円 （３）レーザパワー密度 ４Ｗ／ｍｍ2 （４）レーザ光照射方法 端面各部に１回の走査（レン
ズにより発散光に調整） （５）ガラス円盤の外周速度 ０．５ｍｍ／分 （６）ガラスの加熱 半径方向中央部を約２００℃にニ
クロム電熱ヒータにより加熱 工程５）主表面（情報記録面）の研削・研磨 ガラス円盤の外径よりも若干大きな内径の穴を複数有す
る樹脂製のキャリア内にレーザ光照射したガラス円盤を
セットし、ガラス円盤を＃５００粗さのダイヤモンド砥
粒を固着させた上定盤及び下定盤で挟んで押圧し、定盤
を回転させながらガラス円盤の主表面を湿式研削した。
さらに、ダイヤモンド砥石に代えて定盤に樹脂パッドを
固着した定盤を有する研磨機を用いて、＃１０００粗さ
の酸化セリウム微粉末をガラス円盤の主表面に供給しな
がら研削の後段として精密研磨を行った。
【００７９】工程６）水洗
その後、研磨砥粒等を除去するためにガラス円盤を水洗
いにより洗浄した。
いにより洗浄した。
【００８０】工程７）化学強化処理
ガラス円盤を４５０℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩
に３時間浸漬してガラス表面近傍にカリウムイオンのナ
トリウムイオン及びリチウムイオンとの置換に基づく圧
縮層を形成する化学強化処理を行った。
に３時間浸漬してガラス表面近傍にカリウムイオンのナ
トリウムイオン及びリチウムイオンとの置換に基づく圧
縮層を形成する化学強化処理を行った。
【００８１】工程８）水洗
溶融塩で汚れたガラス円盤を水洗いにより洗浄した。
【００８２】このようにして、磁気記録媒体用ガラス基
板の実施例サンプル１を得た。５００枚の実施例サンプ
ル１について、内外周端面について触診式粗さ計で端面
の粗さをチャートに記録し、ＪＩＳに規定する方法に準
じて平均粗さＲａ及び最大粗さＲｍａｘを算出した。そ
の結果を表２の実施例サンプル１の欄に示す。
板の実施例サンプル１を得た。５００枚の実施例サンプ
ル１について、内外周端面について触診式粗さ計で端面
の粗さをチャートに記録し、ＪＩＳに規定する方法に準
じて平均粗さＲａ及び最大粗さＲｍａｘを算出した。そ
の結果を表２の実施例サンプル１の欄に示す。
【００８３】平均粗さＲａは、０．０３〜０．０６μｍ
と小さく、且つその値のバラツキの範囲は小さいもので
あった。得られた平均粗さ及びその範囲は、磁気抵抗式
ヘッド（ＭＲヘッド又はＧＭＲヘッド）を用いる高密度
記録対応の磁気記録媒体用ガラス基板に好ましいものと
して要求される値である０．１μｍを越えないレベルに
あった。さらに、最大粗さＲｍａｘは０．２〜０．５μ
ｍであり、Ｒｍａｘの最大の値が１μｍを越えるもので
はなく、高密度記録に対応できる特性を備えるものであ
った。
と小さく、且つその値のバラツキの範囲は小さいもので
あった。得られた平均粗さ及びその範囲は、磁気抵抗式
ヘッド（ＭＲヘッド又はＧＭＲヘッド）を用いる高密度
記録対応の磁気記録媒体用ガラス基板に好ましいものと
して要求される値である０．１μｍを越えないレベルに
あった。さらに、最大粗さＲｍａｘは０．２〜０．５μ
ｍであり、Ｒｍａｘの最大の値が１μｍを越えるもので
はなく、高密度記録に対応できる特性を備えるものであ
った。
【００８４】磁気記録媒体用ガラス基板は、複数の加工
工程を経て製造され、工程を経るたびに、通常水、アル
カリ水、酸性水、洗浄水などにより洗浄が行われる。し
かしながら、洗浄によっても端面のとりわけ凹部に固着
する異物（研削又は研磨により生ずるガラス屑の残滓、
砥粒の残滓、空気中の塵埃、設備機械から生じる金属摩
耗粉など）を完全に除去することは容易ではない。これ
らの付着物は、情報記録メディアとしてハードディスク
内に装填され高速回転されて使用されるときに、遠心力
を受けて情報記録メディアの表面から飛び出し、情報記
録面に付着してしまう確率を高める。このことは、磁気
ヘッドのクラッシュの発生に至る危険性を高める。
工程を経て製造され、工程を経るたびに、通常水、アル
カリ水、酸性水、洗浄水などにより洗浄が行われる。し
かしながら、洗浄によっても端面のとりわけ凹部に固着
する異物（研削又は研磨により生ずるガラス屑の残滓、
砥粒の残滓、空気中の塵埃、設備機械から生じる金属摩
耗粉など）を完全に除去することは容易ではない。これ
らの付着物は、情報記録メディアとしてハードディスク
内に装填され高速回転されて使用されるときに、遠心力
を受けて情報記録メディアの表面から飛び出し、情報記
録面に付着してしまう確率を高める。このことは、磁気
ヘッドのクラッシュの発生に至る危険性を高める。
【００８５】このような危険性を小さくするためには、
洗浄を強力に行うと共に、洗浄し易く付着が生じにくい
ように端面の凹凸の粗さを小さくすることの両者から通
常対応がとられる。表２に示す実施例サンプル１は、作
製したすべてのガラス基板について、平均粗さＲａが
０．０６μｍ以下であり、最大粗さＲｍａｘが０．５μ
ｍ以下であり、良好な端面加工が行われたと言える。
洗浄を強力に行うと共に、洗浄し易く付着が生じにくい
ように端面の凹凸の粗さを小さくすることの両者から通
常対応がとられる。表２に示す実施例サンプル１は、作
製したすべてのガラス基板について、平均粗さＲａが
０．０６μｍ以下であり、最大粗さＲｍａｘが０．５μ
ｍ以下であり、良好な端面加工が行われたと言える。
【００８６】実施例２
上記の工程３Ｃの精密研磨を行わなかったことを除い
て、実施例１と同じようにして、５００枚の情報記録媒
体用ガラス基板の実施例サンプル２を作製した。このサ
ンプルロットの平均粗さの範囲及び最大粗さの範囲は、
表２に示すように実施例サンプル１とほぼ同じであっ
た。
て、実施例１と同じようにして、５００枚の情報記録媒
体用ガラス基板の実施例サンプル２を作製した。このサ
ンプルロットの平均粗さの範囲及び最大粗さの範囲は、
表２に示すように実施例サンプル１とほぼ同じであっ
た。
【００８７】実施例３
上記の工程３Ｂの第２段研削及び工程３Ｃの精密研磨を
行わなかったことを除いて、実施例１と同じようにし
て、５００枚の情報記録媒体用ガラス基板のサンプル３
を作製した。このサンプルロットの平均粗さの範囲及び
最大粗さの範囲は、表２に示すように実施例サンプル１
より若干大きい値にシフトしていたが満足のできるもの
であった。
行わなかったことを除いて、実施例１と同じようにし
て、５００枚の情報記録媒体用ガラス基板のサンプル３
を作製した。このサンプルロットの平均粗さの範囲及び
最大粗さの範囲は、表２に示すように実施例サンプル１
より若干大きい値にシフトしていたが満足のできるもの
であった。
【００８８】実施例４
実施例１で用いたアルミノシリケートの非晶質ガラスに
代えて結晶化ガラス（質量％でＳｉＯ2：７５％、Ａｌ2
Ｏ3：３％、Ｋ2Ｏ：４％、Ｌｉ2Ｏ：１２％、ＭｇＯ：
２％、Ｐ2Ｏ5：３％、ＺｎＯ：１％）を用いたことを除
いて、実施例２と同じようにして、５００枚の情報記録
媒体用ガラス基板の実施例サンプル４を作製した。この
実施例サンプル４の平均粗さ及び最大粗さの範囲は、実
施例サンプル２と同じレベルであった。
代えて結晶化ガラス（質量％でＳｉＯ2：７５％、Ａｌ2
Ｏ3：３％、Ｋ2Ｏ：４％、Ｌｉ2Ｏ：１２％、ＭｇＯ：
２％、Ｐ2Ｏ5：３％、ＺｎＯ：１％）を用いたことを除
いて、実施例２と同じようにして、５００枚の情報記録
媒体用ガラス基板の実施例サンプル４を作製した。この
実施例サンプル４の平均粗さ及び最大粗さの範囲は、実
施例サンプル２と同じレベルであった。
【００８９】比較例１
レーザ光照射により滑面化処理を行わない情報記録媒体
用ガラス基板の比較例サンプル１を５００枚作製した。
比較例サンプル１は、工程３Ｃの精密研磨、及び工程４
のレーザ光照射を行わなかったことを除いて、実施例１
と同じようにして作製した。得られたサンプルロットの
平均粗さは０．６〜１．３μｍであって、実施例に比較
して一桁大きな粗さを有する端面しか得られなかった。
また、最大粗さについては、５．０μｍと大きなものが
含まれていた。このように最大粗さが大きいサンプルが
存在することは、上記の異物付着の可能性が高い情報記
録媒体用ガラス基板が製造ロット中に存在する可能性が
高くなることを意味し、信頼性の高い情報記録メディア
とすることができないという懸念が生じる。
用ガラス基板の比較例サンプル１を５００枚作製した。
比較例サンプル１は、工程３Ｃの精密研磨、及び工程４
のレーザ光照射を行わなかったことを除いて、実施例１
と同じようにして作製した。得られたサンプルロットの
平均粗さは０．６〜１．３μｍであって、実施例に比較
して一桁大きな粗さを有する端面しか得られなかった。
また、最大粗さについては、５．０μｍと大きなものが
含まれていた。このように最大粗さが大きいサンプルが
存在することは、上記の異物付着の可能性が高い情報記
録媒体用ガラス基板が製造ロット中に存在する可能性が
高くなることを意味し、信頼性の高い情報記録メディア
とすることができないという懸念が生じる。
【００９０】比較例２
比較例サンプル１で得られたサンプルロットの平均粗さ
及び最大粗さを小さくするために、比較例１で実施した
湿式処理工程を工程３Ａ）の第１段研削、及び工程３
Ｂ）の第２段研削に引き続いて工程３Ｃ）の精密研磨を
追加したことを除いて、比較例１と同じようにして比較
サンプル２を作製した。得られた５００枚の比較サンプ
ル２の平均粗さは、表２に示すように、比較例１に比べ
て小さくなった。平均粗さは、０．０５μｍと小さいサ
ンプルも得られたが、平均粗さ０．４μｍのサンプルも
あり、平均粗さの数値は、１０倍以上の広い範囲でばら
ついていた。また、最大粗さについても、２．５μｍと
いう大きな数値を有するものが含まれていた。
及び最大粗さを小さくするために、比較例１で実施した
湿式処理工程を工程３Ａ）の第１段研削、及び工程３
Ｂ）の第２段研削に引き続いて工程３Ｃ）の精密研磨を
追加したことを除いて、比較例１と同じようにして比較
サンプル２を作製した。得られた５００枚の比較サンプ
ル２の平均粗さは、表２に示すように、比較例１に比べ
て小さくなった。平均粗さは、０．０５μｍと小さいサ
ンプルも得られたが、平均粗さ０．４μｍのサンプルも
あり、平均粗さの数値は、１０倍以上の広い範囲でばら
ついていた。また、最大粗さについても、２．５μｍと
いう大きな数値を有するものが含まれていた。
【００９１】以上のことから、実施例で得られたサンプ
ルロットは平均粗さ及び最大粗さについて、その範囲が
狭いものであったが、比較例により得られるサンプルロ
ットは平均粗さ及び最大粗さは、広い範囲で分布してい
ることが分かった。
ルロットは平均粗さ及び最大粗さについて、その範囲が
狭いものであったが、比較例により得られるサンプルロ
ットは平均粗さ及び最大粗さは、広い範囲で分布してい
ることが分かった。
【００９２】本発明の実施例３によれば、レーザ光照射
を行う前の湿式処理は、外径及び内径寸法を所定寸法に
調整する第１段研削のみで、平均粗さと最大粗さについ
てその値を小さく且つ範囲が小さいものとすることがで
きる。即ち、工程数の削減が可能であった。
を行う前の湿式処理は、外径及び内径寸法を所定寸法に
調整する第１段研削のみで、平均粗さと最大粗さについ
てその値を小さく且つ範囲が小さいものとすることがで
きる。即ち、工程数の削減が可能であった。
【００９３】図８は、実施例２及び比較例２において得
られた５００枚のサンプルロットの平均粗さＲａについ
ての頻度の分布を示すグラフである。実施例サンプル２
は、狭い範囲に粗さが分布しているのに対し、比較例サ
ンプル２は、粗さが約８倍にばらついている。比較例サ
ンプル２のような分布を有する磁気記録媒体用ガラス基
板を用いて作製されるハードディスクドライブは、粗さ
の大きなものによる上記のような不具合が生じる確率が
より大きなものと予想される。
られた５００枚のサンプルロットの平均粗さＲａについ
ての頻度の分布を示すグラフである。実施例サンプル２
は、狭い範囲に粗さが分布しているのに対し、比較例サ
ンプル２は、粗さが約８倍にばらついている。比較例サ
ンプル２のような分布を有する磁気記録媒体用ガラス基
板を用いて作製されるハードディスクドライブは、粗さ
の大きなものによる上記のような不具合が生じる確率が
より大きなものと予想される。
【００９４】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１記
載の製造方法によれば、ドーナツ状の情報記録媒体用ガ
ラス円盤の外周端面及び内周端面の少なくとも一方を発
散光化されたレーザ光の光照射によりガラスの軟化点以
上の温度に溶融加熱して滑面化するので、レーザ光がガ
ラス円盤の主表面に照射されてその面を溶融するのを確
実に防止しつつ、ガラス円盤の外周端面及び内周端面の
少なくとも一方のエッジが丸くなり、もって従来の方法
における研磨工程を省くことができることはもとより、
研削工程において面取りを省くことができる。
載の製造方法によれば、ドーナツ状の情報記録媒体用ガ
ラス円盤の外周端面及び内周端面の少なくとも一方を発
散光化されたレーザ光の光照射によりガラスの軟化点以
上の温度に溶融加熱して滑面化するので、レーザ光がガ
ラス円盤の主表面に照射されてその面を溶融するのを確
実に防止しつつ、ガラス円盤の外周端面及び内周端面の
少なくとも一方のエッジが丸くなり、もって従来の方法
における研磨工程を省くことができることはもとより、
研削工程において面取りを省くことができる。
【００９５】請求項６記載の製造方法によれば、滑面化
処理工程で外周端面及び内周端面の双方を溶融加熱する
ので、作業効率を向上させることができる。
処理工程で外周端面及び内周端面の双方を溶融加熱する
ので、作業効率を向上させることができる。
【００９６】請求項１１記載の製造方法によれば、内周
端面へのレーザ光のエネルギ密度に対する外周端面への
前記レーザ光のエネルギ密度の比が１より大きいので、
内周端面と外周端面の単位面積当たりのエネルギ密度の
差を小さくすることができ、もって平滑度の差を小さく
することができる。
端面へのレーザ光のエネルギ密度に対する外周端面への
前記レーザ光のエネルギ密度の比が１より大きいので、
内周端面と外周端面の単位面積当たりのエネルギ密度の
差を小さくすることができ、もって平滑度の差を小さく
することができる。
【００９７】請求項１２記載の製造方法によれば、内周
端面へのレーザ光のエネルギ密度に対する外周端面への
レーザ光のエネルギ密度の比が２〜５であるので、内周
端面と外周端面の単位面積当たりのエネルギ密度の差を
ほぼ等しくすることができる。
端面へのレーザ光のエネルギ密度に対する外周端面への
レーザ光のエネルギ密度の比が２〜５であるので、内周
端面と外周端面の単位面積当たりのエネルギ密度の差を
ほぼ等しくすることができる。
【００９８】請求項１４記載の製造方法によれば、ガラ
ス円盤は、母ガラスがアルカリ酸化物成分としてＬｉ2
Ｏ及びＮａ2Ｏのいずれか一方を含有するシリケートガ
ラスから成り、滑面化処理されたガラス円盤の表面層を
アルカリ成分をアルカリ酸化物成分より大きなイオン半
径を有するアルカリ成分に置換するので、ガラス円盤の
強度を向上させることができる。
ス円盤は、母ガラスがアルカリ酸化物成分としてＬｉ2
Ｏ及びＮａ2Ｏのいずれか一方を含有するシリケートガ
ラスから成り、滑面化処理されたガラス円盤の表面層を
アルカリ成分をアルカリ酸化物成分より大きなイオン半
径を有するアルカリ成分に置換するので、ガラス円盤の
強度を向上させることができる。
【図１】本発明の実施の形態に係るガラス製情報記録媒
体用ガラス基板の製造工程図である。
体用ガラス基板の製造工程図である。
【図２】図１の工程Ｐ１４で使用されるレーザ光照射装
置の一例の部分断面図である。
置の一例の部分断面図である。
【図３】図２のレーザ光照射装置における半円状回転ミ
ラーの斜視図である。
ラーの斜視図である。
【図４】図２のレーザ光照射装置におけるミラーの変形
例の説明図である。
例の説明図である。
【図５】図１の工程Ｐ１４で使用されるレーザ光照射装
置の変形例の部分断面図である。
置の変形例の部分断面図である。
【図６】ガラス円盤の周面の粗さの説明図であり、
（ａ）は研削工程で研削された後のものを示し、（ｂ）
は処理工程でレーザ光照射された後のものを示す。
（ａ）は研削工程で研削された後のものを示し、（ｂ）
は処理工程でレーザ光照射された後のものを示す。
【図７】実施例の工程３Ｃで使用される積層ガラス円盤
の内外周端面の精密研磨装置の概要の説明図である。
の内外周端面の精密研磨装置の概要の説明図である。
【図８】実施例２及び比較例２において得られた５００
枚のサンプルロットの平均粗さＲａについての頻度の分
布を示すグラフである。
枚のサンプルロットの平均粗さＲａについての頻度の分
布を示すグラフである。
【図９】従来の磁気ディスク用ガラス円盤の製造工程図
である。
である。
１１，４１ ワークテーブル
１４，４６ ガラス円盤
２０，５０，５１ レーザ発振器
２１，５２，５５ コリメータ
２３，５７ ガルバノスキャナミラー
２６，２７，２８，５８，５７ ミラー
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｃ０３Ｃ 10/00 Ｃ０３Ｃ 10/00
19/00 19/00 Ｚ
21/00 １０１ 21/00 １０１
Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/73
(72)発明者 毛塚 昌道
大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11
号 日本板硝子株式会社内
(72)発明者 松野 賢介
大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11
号 日本板硝子株式会社内
(56)参考文献 特開 平11−221742（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−154321（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−102122（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−195707（ＪＰ，Ａ)
特開2000−36114（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−48423（ＪＰ，Ａ)
特開2000−203872（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−172220（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−116422（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−274721（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 5/62 - 5/858
C03B 29/02
Claims (14)
- 【請求項１】 ドーナツ状の情報記録媒体用ガラス円盤
の外周端面及び内周端面の少なくとも一方を発散光化さ
れたレーザ光の照射によりガラスの軟化点以上の温度に
溶融加熱して滑面化する滑面化処理工程を有することを
特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項２】 ドーナツ状の情報記録媒体用ガラス円盤
の外周端面及び内周端面の少なくとも一方をレーザ光照
射によりガラスの軟化点以上の温度に溶融加熱して滑面
化する滑面化処理工程を有し、前記滑面化処理の前又は
前記滑面化処理時に、前記ガラス円盤の全部又は一部を
抵抗加熱ヒータにより加熱することを特徴とする情報記
録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項３】 前記滑面化処理工程に先だってガラス母
材から前記ガラス円盤を円形に加工する加工工程を有す
ることを特徴とする請求項１又は２記載の製造方法。 - 【請求項４】 前記円形に加工されたガラス円盤の外周
端面及び内周端面を砥石を用いて研削する研削工程を有
することを特徴とする請求項３記載の製造方法。 - 【請求項５】 前記研削工程の後で前記ガラス円盤の外
周端面及び／又は内周端面を所定形状に面取り加工する
面取り加工工程を有することを特徴とする請求項４記載
の製造方法。 - 【請求項６】 前記滑面化処理工程で前記外周端面及び
前記内周端面の双方を溶融加熱することを特徴とする請
求項１乃至５のいずれか１項に記載の製造方法。 - 【請求項７】 前記滑面化処理工程で、前記レーザ光を
単一のレーザ発振器から出射し、当該出射したレーザ光
を前記内周端面及び前記外周端面に交互に照射すること
を特徴とする請求項６記載の情報記録媒体用ガラス基板
の製造方法。 - 【請求項８】 前記滑面化処理工程で、前記レーザ光を
単一のレーザ発振器から出射すると共に当該レーザ光を
２つに分割し、当該分割されたレーザ光を前記内周端面
及び前記外周端面の双方に同時に照射することを特徴と
する請求項７記載の製造方法。 - 【請求項９】 前記滑面化処理工程で、前記レーザ光を
２つのレーザ発振器から夫々出射し、前記レーザ発振器
の一方から出射されたレーザ光を前記内周端面に照射
し、前記レーザ発振器の他方から発振されたレーザ光を
前記外周端面に照射することを特徴とする請求項６記載
の製造方法。 - 【請求項１０】 前記滑面化処理工程で前記レーザ光に
対する前記内周端面の相対速度が０．０２〜５．０ｍ／
分となるように前記ガラス円盤を回転させることを特徴
とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の製造方
法。 - 【請求項１１】 前記内周端面への前記レーザ光のエネ
ルギ密度に対する前記外周端面への前記レーザ光のエネ
ルギ密度の比が１より大きいことを特徴とする請求項１
０項記載の製造方法。 - 【請求項１２】 前記内周端面への前記レーザ光のエネ
ルギ密度に対する前記外周端面への前記レーザ光のエネ
ルギ密度の比が２〜５であることを特徴とする請求項１
１記載の製造方法。 - 【請求項１３】 前記滑面化処理工程の後で前記ガラス
円盤の主表面を研削且つ研磨することを特徴とする請求
項１乃至１２のいずれか１項に記載の製造方法。 - 【請求項１４】 前記ガラス円盤は、母ガラスがアルカ
リ酸化物成分としてＬｉ2Ｏ及びＮａ2Ｏのいずれか一方
を含有するシリケートガラスから成り、前記主表面が研
削且つ研磨されたガラス円盤の表面層のアルカリ成分を
前記アルカリ酸化物成分より大きなイオン半径を有する
アルカリ成分に置換するガラスの化学強化処理工程をさ
らに有することを特徴とする請求項１３記載の製造方
法。
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|---|---|---|---|
| JP2000337433A JP3516233B2 (ja) | 2000-11-06 | 2000-11-06 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000337433A JP3516233B2 (ja) | 2000-11-06 | 2000-11-06 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002150546A JP2002150546A (ja) | 2002-05-24 |
| JP3516233B2 true JP3516233B2 (ja) | 2004-04-05 |
Family
ID=18812813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000337433A Expired - Lifetime JP3516233B2 (ja) | 2000-11-06 | 2000-11-06 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6845635B2 (ja) |
| JP (1) | JP3516233B2 (ja) |
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