JP5231280B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
Description
パターン形成された放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系と、
投影系と基板の間の空間に液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉込め構造と
を含み、
閉込め構造が緩衝面を有し、緩衝面が使用時に、基板及び基板を保持するように構成された基板テーブルの上面を実質的に含む平面にごく近接して配置されて、流動抵抗を有する通路を画定し、緩衝面が凹みを含み、この凹みが使用時には通常液体で満たされていて、基板と基板テーブルの間のすき間が緩衝面の下を移動したときにこのすき間を急速に満たすことができるようになっている
装置が提供される。
リソグラフィ投影装置の投影系と基板との間の空間に、このリソグラフィ投影装置の液体閉込め構造を使用して液体を閉じ込めるステップであって、閉込め構造が緩衝面を有し、緩衝面が、基板及び基板を保持した基板テーブルの上面を実質的に含む平面にごく近接して配置されて、流動抵抗を有する通路を画定するステップと、
基板と基板テーブルの間のすき間が緩衝面の下を移動したときにこのすき間を急速に満たすことができるように、緩衝面の凹みに液体を供給するステップと、
パターン形成された放射ビームを、投影系を使用して前記空間の中の液体を通して基板上に投影するステップと
を含むデバイス製造方法が提供される。
−放射ビームPB(例えばUV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照明系(照明器)ILと、
−パターン形成装置(例えばマスク)MAを支持するように構築された支持構造(例えばマスク・テーブル)MTであって、パターン形成装置をある種のパラメータに従って正確に配置するように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造MTと、
−基板(例えばレジストでコーティングされたウェーハ)Wを保持するように構築された基板テーブル(例えばウェーハ・テーブル)WTであって、基板をある種のパラメータに従って正確に配置するように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブルWTと、
−パターン形成装置MAによって放射ビームPBに付与されたパターンを、基板Wの(例えば1つ又は複数のダイを含む)標的部分Cの表面に投影するように構成された投影系(例えば屈折投影レンズ系)PLと
を備えている。
BD ビーム送達系
IL 照明系(照明器)
AM 可調整構成要素
IN インテグレータ
CO コンデンサ
PB 投影ビーム
MA パターン形成装置(マスク又はレクチル)
M1 マスク位置調整用マーク
M2 マスク位置調整用マーク
IF 位置センサ
MT 支持構造(マスク・テーブル)
PM 第1の位置決め装置
PL 投影系(レンズ)
W 基板(ウェーハ)
P1 基板位置調整用マーク
P2 基板位置調整用マーク
IH 給液系
WT 基板テーブル(ウェーハ・テーブル)
PW 第2の位置決め装置
C 標的部分
IN 入口
OUT 出口
WEG 基板と基板テーブルの間のすき間
BP バール・プレート
D 緩衝域
10 リザーバ
12 シール部材
14 第1の出口
15 入口
21 ガス供給通路
22 ガス抜取り通路
23 2相抜取り通路
30 凹み
31 チャネル
31 鋭い縁
32 メニスカス
Claims (7)
- パターン形成装置からのパターン形成された放射ビームを液体を通して基板上に投影するリソグラフィ投影装置であって、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板上に投影する投影系と、
前記投影系と前記基板の間の空間に前記液体を少なくとも部分的に閉じ込める液体閉込め構造と、を備え、
前記液体閉込め構造が緩衝面を有し、該緩衝面が使用時に、前記基板及び前記基板を保持するように構成された基板テーブルの上面を実質的に含む平面にごく近接して配置されて、流動抵抗を有する通路を画定し、
前記緩衝面が、前記空間から実質的に放射状に延びている複数の凹みを備える、装置。 - 前記凹みの端が1つの円の上にある、請求項1に記載の装置。
- 前記緩衝面の外縁に鋭い縁が形成されており、該鋭い縁が、前記液体に対して90°未満の接触角を有する材料から形成されている、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記液体閉込め構造が、前記基板の走査露光中に前記空間に液体を供給する液体入口と、前記基板の前記走査露光中に前記空間から液体を除去する液体出口とを備える、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の装置。
- リソグラフィ投影装置の投影系と基板との間の空間に、前記リソグラフィ投影装置の液体閉込め構造を使用して液体を閉じ込めるステップであって、前記液体閉込め構造が緩衝面を有し、該緩衝面が、前記基板及び前記基板を保持した基板テーブルの上面を実質的に含む平面にごく近接して配置されて、流動抵抗を有する通路を画定する、ステップと、
パターン形成された放射ビームを、前記投影系を使用して前記空間の中の液体を通して前記基板上に投影するステップと、を含み、
前記緩衝面が、前記空間から実質的に放射状に延びている複数の凹みを備える、デバイス製造方法。 - 前記パターン形成された放射ビームの投影中に前記空間に液体を供給するステップと、
前記パターン形成された放射ビームの投影中に前記空間から液体を除去するステップと、を含む、請求項5に記載の方法。 - 放射ビームを調整する照明系と、
前記放射ビームにパターンを付与するように構成されたパターン形成装置を保持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板上に投影する投影系と、
前記投影系と前記基板の間の空間に液体を少なくとも部分的に閉じ込める液体閉込め構造と、を備え、
前記液体閉込め構造が緩衝面を有し、該緩衝面が使用時に、前記基板及び前記基板テーブルの上面を実質的に含む平面にごく近接して配置されて、流動抵抗を有する通路を画定し、
前記緩衝面が、前記空間から実質的に放射状に延びている複数の凹みを備える、リソグラフィ投影装置。
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