JP5118235B2 - リソグラフィ装置および液体除去方法 - Google Patents
リソグラフィ装置および液体除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5118235B2 JP5118235B2 JP2011132836A JP2011132836A JP5118235B2 JP 5118235 B2 JP5118235 B2 JP 5118235B2 JP 2011132836 A JP2011132836 A JP 2011132836A JP 2011132836 A JP2011132836 A JP 2011132836A JP 5118235 B2 JP5118235 B2 JP 5118235B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- gap
- liquid
- substrate table
- extractor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 161
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 38
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 19
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 39
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
Claims (6)
- 基板を支持する基板テーブルであって、基板と自身がその間にギャップ(100)を規定する、基板テーブルと、
液体除去デバイスであって、低圧源に接続可能で細長い抽出部(210)を形成する出口、および、前記抽出部(210)の両側に延在し前記基板テーブルの上面および前記基板と実質的に平行である流れ制限表面(250)を含む液体除去デバイス(200)と、
使用時には、前記基板の前記上面および/または前記基板テーブルおよびギャップ(100)から液体を抽出する間に、前記ギャップ(100)に沿って前記出口に向かうガスの流れを生成するように、前記抽出部(210)が前記ギャップ(100)上に位置する場合に、前記流れ制限表面(250)と前記基板および/または前記基板テーブルとの間の前記抽出部(210)の周囲雰囲気からの気体流抵抗が前記ギャップ(100)沿いより大きくなるように、前記基板テーブルと前記液体除去デバイス(200)とを相対的に動かすコントローラと、を含み、
前記流れ制限表面(250)は、同一平面上にあり、前記液体除去デバイス(200)の下側にある2つの突起によって形成されている、
液浸リソグラフィ装置。 - 前記流れ制限表面(250)と前記基板および/または基板テーブルの間の前記気体流抵抗が、前記ギャップ(100)沿いより少なくとも25%大きい、
請求項1に記載の液浸リソグラフィ装置。 - 前記流れ制限表面(250)と前記基板および/または基板テーブルの間の前記気体流抵抗が、前記ギャップ(100)沿いより少なくとも50%大きい、
請求項2に記載の液浸リソグラフィ装置。 - 前記流れ制限表面(250)と前記基板および/または基板テーブルの間の前記気体流抵抗が、前記ギャップ(100)沿いより少なくとも75%大きい、
請求項3に記載の液浸リソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記抽出部(210)が全ての前記基板を通り越すように、且つ、前記抽出部(210)が最初に通り越している前記ギャップ(100)の任意の局所的部分の接線(101)が、平面にて、前記局所的部分の上方に位置した前記抽出部(210)の局所的部分の接線(211)に対して約35°と約90°の間の角度をなすように、前記基板テーブルおよび前記液体除去デバイスとを相対的に動かす、
請求項1から4の何れか一項に記載の液浸リソグラフィ装置。 - 基板と基板テーブルの間のギャップ(100)から液体を除去する方法であって、
低圧源に接続可能で細長い抽出部(210)を形成する出口、および、前記抽出部(210)の両側に延在し前記基板テーブルの上面および前記基板と実質的に平行である流れ制限表面(250)を持つ液体除去デバイス(200)を提供し、
前記ギャップ(100)に沿って前記出口へ、および前記出口に隣接する前記ギャップ(100)内の液体へのガス流を生成するように、前記抽出部(210)が前記ギャップ(100)上に位置する場合に、前記流れ制限表面(250)と前記基板および/または前記基板テーブルとの間の前記抽出部(210)の周囲雰囲気からの気体流抵抗が前記ギャップ(100)沿いより大きくなるように、前記ギャップ(100)に対して前記液体除去デバイス(200)を配向し動かすこと、を含み、
前記流れ制限表面(250)は、同一平面上にあり、前記液体除去デバイス(200)の下側にある2つの突起によって形成されている、
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/708,686 | 2007-02-21 | ||
US11/708,686 US7692765B2 (en) | 2007-02-21 | 2007-02-21 | Lithographic apparatus and method of removing liquid |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008032818A Division JP4767981B2 (ja) | 2007-02-21 | 2008-02-14 | リソグラフィ装置および液体除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011249815A JP2011249815A (ja) | 2011-12-08 |
JP5118235B2 true JP5118235B2 (ja) | 2013-01-16 |
Family
ID=39706350
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008032818A Expired - Fee Related JP4767981B2 (ja) | 2007-02-21 | 2008-02-14 | リソグラフィ装置および液体除去方法 |
JP2011132836A Expired - Fee Related JP5118235B2 (ja) | 2007-02-21 | 2011-06-15 | リソグラフィ装置および液体除去方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008032818A Expired - Fee Related JP4767981B2 (ja) | 2007-02-21 | 2008-02-14 | リソグラフィ装置および液体除去方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7692765B2 (ja) |
JP (2) | JP4767981B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8144305B2 (en) * | 2006-05-18 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7692765B2 (en) | 2007-02-21 | 2010-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method of removing liquid |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4509852A (en) | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
WO1999049504A1 (fr) | 1998-03-26 | 1999-09-30 | Nikon Corporation | Procede et systeme d'exposition par projection |
JP3953460B2 (ja) * | 2002-11-12 | 2007-08-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ投影装置 |
EP1429188B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-06-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
EP2495613B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-07-31 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
EP1420300B1 (en) | 2002-11-12 | 2015-07-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101259095B1 (ko) * | 2003-08-21 | 2013-04-30 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
US7394521B2 (en) | 2003-12-23 | 2008-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2006120889A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法及びその方法に用いられる半導体ウェハホルダ |
US7446850B2 (en) * | 2004-12-03 | 2008-11-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7468779B2 (en) * | 2005-06-28 | 2008-12-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8144305B2 (en) * | 2006-05-18 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7826030B2 (en) * | 2006-09-07 | 2010-11-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR100806795B1 (ko) * | 2006-09-12 | 2008-02-27 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 오토 포커스 시스템 |
US9632425B2 (en) * | 2006-12-07 | 2017-04-25 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus, a dryer and a method of removing liquid from a surface |
US7692765B2 (en) | 2007-02-21 | 2010-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method of removing liquid |
-
2007
- 2007-02-21 US US11/708,686 patent/US7692765B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-02-14 JP JP2008032818A patent/JP4767981B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-02-19 US US12/709,278 patent/US8675172B2/en active Active
-
2011
- 2011-06-15 JP JP2011132836A patent/JP5118235B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4767981B2 (ja) | 2011-09-07 |
US20080198344A1 (en) | 2008-08-21 |
JP2011249815A (ja) | 2011-12-08 |
US8675172B2 (en) | 2014-03-18 |
JP2008205465A (ja) | 2008-09-04 |
US7692765B2 (en) | 2010-04-06 |
US20100208224A1 (en) | 2010-08-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5744793B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5193350B2 (ja) | リソグラフィ投影装置及びデバイス製造方法 | |
JP5235926B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP4347282B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5063641B2 (ja) | 液浸リソグラフィ装置、乾燥デバイス、液浸メトロロジー装置及びデバイス製造方法 | |
JP4848003B2 (ja) | 傾斜したシャワーヘッドを備える液浸リソグラフィシステムおよび液浸リソグラフィ方法 | |
JP5161197B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4954139B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2009164622A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2008078648A (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5412399B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4860681B2 (ja) | 液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5118235B2 (ja) | リソグラフィ装置および液体除去方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120221 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120502 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120830 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120906 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121005 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121018 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |