JP5217301B2 - 化合物半導体装置とその製造方法 - Google Patents
化合物半導体装置とその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5217301B2 JP5217301B2 JP2007220821A JP2007220821A JP5217301B2 JP 5217301 B2 JP5217301 B2 JP 5217301B2 JP 2007220821 A JP2007220821 A JP 2007220821A JP 2007220821 A JP2007220821 A JP 2007220821A JP 5217301 B2 JP5217301 B2 JP 5217301B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- gate electrode
- mesa
- recess
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 50
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 7
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000005360 phosphosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66446—Unipolar field-effect transistors with an active layer made of a group 13/15 material, e.g. group 13/15 velocity modulation transistor [VMT], group 13/15 negative resistance FET [NERFET]
- H01L29/66462—Unipolar field-effect transistors with an active layer made of a group 13/15 material, e.g. group 13/15 velocity modulation transistor [VMT], group 13/15 negative resistance FET [NERFET] with a heterojunction interface channel or gate, e.g. HFET, HIGFET, SISFET, HJFET, HEMT
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02538—Group 13/15 materials
- H01L21/02543—Phosphides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02587—Structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0603—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions
- H01L29/0642—Isolation within the component, i.e. internal isolation
- H01L29/0649—Dielectric regions, e.g. SiO2 regions, air gaps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/1025—Channel region of field-effect devices
- H01L29/1029—Channel region of field-effect devices of field-effect transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/778—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/778—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface
- H01L29/7786—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface with direct single heterostructure, i.e. with wide bandgap layer formed on top of active layer, e.g. direct single heterostructure MIS-like HEMT
- H01L29/7787—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface with direct single heterostructure, i.e. with wide bandgap layer formed on top of active layer, e.g. direct single heterostructure MIS-like HEMT with wide bandgap charge-carrier supplying layer, e.g. direct single heterostructure MODFET
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
InP基板と、
前記InP基板上方にエピタキシャル積層で形成されたメサであって、チャネル層、該チャネル層上方のキャリア供給層、該キャリア供給層上方のコンタクト用キャップ層を含み、エッチングで画定された側面を有するメサと、
前記キャップ層上に形成された一対のオーミック電極である、ソース電極とドレイン電極と、
前記一対のオーミック電極の間で前記キャップ層を除去して形成されたリセスと、
前記リセスから離れる方向に前記キャップ層のエッジから後退して、前記キャップ層上に形成された絶縁膜と、
前記リセス内のソース−ドレイン方向の選択された位置に配置され、前記ソース−ドレイン方向と交差する方向に沿って前記メサを横断し、側面より外側まで延在するゲート電極と、
前記チャネル層の前記ゲート電極と対向する側面部を除去して形成されたエアギャップと、
を有する化合物半導体装置
が提供される。
(A)InP基板上方に、MOCVDにより、下方からチャネル層、キャリア供給層、コンタクト用キャップ層を含むエピタキシャル積層を成長し、前記キャップ層、前記キャリア供給層、前記チャネル層をエッチングして、エッチングで画定された側面を有するメサを形成する工程と、
(B)前記キャップ層上に一対のオーミック電極である、ソース電極とドレイン電極とを形成する工程と、
(C)前記ソース電極、ドレイン電極を覆って、前記キャップ層上に絶縁膜を形成し、前記一対のオーミック電極の間で前記絶縁膜をドライエッチングして、ソース−ドレイン方向と交差する方向に延在するリセス形成用開口を形成する工程と、
(D)前記リセス形成用開口を介して、前記キャップ層を選択的にウェットエッチングし、前記キャップ層の全厚を除去すると共に、前記ソース−ドレイン方向に前記リセス形成用開口より幅広のリセスを形成すると共に、前記リセス上方に前記絶縁膜が張り出す庇部を残す工程と、
(E)少なくとも前記リセス上方に張り出す前記絶縁膜の庇部をエッチング除去する工程と、
(F)前記リセス内のソース−ドレイン方向の選択された位置に配置され、前記メサを前記ソース−ドレイン方向と交差する方向に横断し、前記メサの側面より外側まで到達し、メサ側面を露出するゲート電極用開口を有するレジストパターンを形成する工程と、
(G)前記ゲート電極用開口から前記メサ側面に露出した前記チャネル層の側面部をウェットエッチングでサイドエッチングし、エアギャップ部を形成する工程と、
(H)前記ゲート電極形成用開口内に露出した半導体表面、前記レジストパターン上にゲート電極形成用金属層を形成し、リフトオフして前記半導体表面上から前記メサの側面より外側まで延在するゲート電極を形成する工程と、
を含む化合物半導体装置の製造方法
が提供される。
図1Aに戻り、レジストパターンRP1をエッチングマスクとし、燐酸と過酸化水素水の混合液でエピタキシャル積層をチャネル層13まで、ウェットエッチングする。メサの側面がエッチングで画定される。途中のInPエッチストッパ層15は、塩酸とリン酸の混合液で除去できる。その後、レジストパターンRP1は除去する。
その後、レジストパターンRP4は除去する。
InP基板と、
前記InP基板上方にエピタキシャル積層で形成されたメサであって、チャネル層、該チャネル層上方のキャリア供給層、該キャリア供給層上方のコンタクト用キャップ層を含むメサと、
前記キャップ層上に形成された一対のオーミック電極である、ソース電極とドレイン電極と、
前記一対のオーミック電極の間で前記キャップ層を除去して形成され、前記キャリア供給層を露出するリセスと、
前記リセスから離れる方向に前記キャップ層のエッジから後退して、前記キャップ層上に形成された絶縁膜と、
前記リセスのキャリア供給層上から前記メサ外に延在するゲート電極と、
前記チャネル層の前記ゲート電極と対向する側部を除去して形成されたエアギャップと、
を有する化合物半導体装置。
前記ゲート電極が、前記リセス内で前記ドレイン電極から離れ、前記ソース電極に近付けて配置されている付記1記載の化合物半導体装置。
前記ゲート電極が、前記チャネル層端部上方より外側で広げられた幅を有する付記1または2記載の化合物半導体装置。
少なくとも前記ソース電極側の前記キャップ層が、前記ゲート電極の広げられた幅を有する部分近傍で切り欠きを形成している付記3記載の化合物半導体装置。
前記リセスの半導体表面を覆って、前記メサ上に形成された他の絶縁膜を有し、前記他の絶縁膜が前記ゲート電極下面と前記キャリア供給層の間では除去されている付記1〜4のいずれか1項記載の化合物半導体装置。
前記チャネル層がi−InGaAs層、前記キャリア供給層がInAlAs層、前記キャップ層がn‐InGaAs層、前記絶縁膜がSiN膜である付記1〜5のいずれか1項記載の化合物半導体装置。
(A)InP基板上方に、MOCVDにより、下方からチャネル層、キャリア供給層、コンタクト用キャップ層を含むエピタキシャル積層を成長し、前記キャップ層、前記キャリア供給層、前記チャネル層をエッチングしてメサを形成する工程と、
(B)前記キャップ層上に一対のオーミック電極である、ソース電極とドレイン電極とを形成する工程と、
(C)前記ソース電極、ドレイン電極を覆って、前記キャップ層上に絶縁膜を形成し、前記一対のオーミック電極の間で前記絶縁膜をドライエッチングしてリセス形成用開口を形成する工程と、
(D)前記リセス形成用開口を介して、前記キャップ層を選択的にウェットエッチングし、前記リセス形成用開口より幅広のリセスを形成すると共に、前記キャリア供給層を露出する工程と、
(E)少なくとも前記リセス上方に張り出す前記絶縁膜の庇状部分をエッチング除去する工程と、
(F)前記メサを横断し、前記メサ外の段差部上に到達するゲート電極用開口を有するレジストパターンを形成する工程と、
(G)前記ゲート電極用開口から前記メサ側面に露出した前記チャネル層の側部をウェットエッチングでサイドエッチングし、エアギャップ部を形成する工程と、
(H)前記ゲート電極形成用開口内に露出した半導体表面、前記レジストパターン上にゲート電極形成用金属層を形成し、リフトオフして前記キャリア供給層上から前記メサ外に延在するゲート電極を形成する工程と、
を含む化合物半導体装置の製造方法。
前記工程(D)はリン酸、過酸化水素水、水の混合液を用い、前記工程(G)はクエン酸、過酸化水素水、水の混合液を用いる付記7記載の化合物半導体の製造方法。
(I)前記工程(E)と(F)の間に、前記リセスの表面を覆って、前記メサ上に他の絶縁膜を形成する工程と、
(J)前記工程(F)と(G)の間に、前記ゲート電極用開口から露出した前記他の絶縁膜をエッチング、除去する工程と、
をさらに含む付記7又は8記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記ゲート電極用開口が、前記リセス内で前記ドレイン電極から離れ、前記ソース電極に近付けて配置されている付記7〜9のいずれか1項記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記ゲート電極用開口が、前記チャネル層端部上方より外側で広げられた幅を有する付記7〜10のいずれか1項記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記リセス形成用開口が、ソース電極側で、前記ゲート電極の広げられた幅を有する部分を取り囲むように張り出した開口部を有する付記11記載の化合物半導体装置の製造方法。
12 (InAlAs)バッファ層、
13 (InGaAs)チャネル層
14 キャリア供給層
14a i−InAlAsスペーサ層、
14b プレーナドープ、
14c i−InAlAsバリア層
15 (InP)エッチストッパ層
16 n−InGaAsキャップ層、
19 オーミック電極、
21 (SiN)絶縁膜
22 (SiN)絶縁膜
RP レジストパターン、
AP 開口、
RC リセス、
MS メサ、
AG エアギャップ
Claims (10)
- InP基板と、
前記InP基板上方にエピタキシャル積層で形成されたメサであって、チャネル層、該チャネル層上方のキャリア供給層、該キャリア供給層上方のコンタクト用キャップ層を含み、エッチングで画定された側面を有するメサと、
前記キャップ層上に形成された一対のオーミック電極である、ソース電極とドレイン電極と、
前記一対のオーミック電極の間で前記キャップ層を除去して形成されたリセスと、
前記リセスから離れる方向に前記キャップ層のエッジから後退して、前記キャップ層上に形成された絶縁膜と、
前記リセス内のソース−ドレイン方向の選択された位置に配置され、前記ソース−ドレイン方向と交差する方向に沿って前記メサを横断し、側面より外側まで延在するゲート電極と、
前記チャネル層の前記ゲート電極と対向する側面部を除去して形成されたエアギャップと、
を有する化合物半導体装置。 - 前記ゲート電極が、前記リセス内で前記ドレイン電極から離れ、前記ソース電極に近付けて配置されている請求項1記載の化合物半導体装置。
- 前記ゲート電極が、前記メサのエッジ近傍で、前記メサのエッジ間の領域におけるソース−ドレイン方向の幅と比べ、前記ソース−ドレイン方向に広げられた幅を有する請求項1または2記載の化合物半導体装置。
- 少なくとも前記ソース電極側の前記キャップ層が、前記ゲート電極の広げられた幅と対応する切り欠きを形成している請求項3記載の化合物半導体装置。
- 前記リセスの半導体表面を覆って、前記メサ上に形成された他の絶縁膜を有し、前記他の絶縁膜が前記ゲート電極下面と前記半導体表面の間では除去されている請求項1〜4のいずれか1項記載の化合物半導体装置。
- (A)InP基板上方に、MOCVDにより、下方からチャネル層、キャリア供給層、コンタクト用キャップ層を含むエピタキシャル積層を成長し、前記キャップ層、前記キャリア供給層、前記チャネル層をエッチングして、エッチングで画定された側面を有するメサを形成する工程と、
(B)前記キャップ層上に一対のオーミック電極である、ソース電極とドレイン電極とを形成する工程と、
(C)前記ソース電極、ドレイン電極を覆って、前記キャップ層上に絶縁膜を形成し、前記一対のオーミック電極の間で前記絶縁膜をドライエッチングして、ソース−ドレイン方向と交差する方向に延在するリセス形成用開口を形成する工程と、
(D)前記リセス形成用開口を介して、前記キャップ層を選択的にウェットエッチングし、前記キャップ層の全厚を除去すると共に、前記ソース−ドレイン方向に前記リセス形成用開口より幅広のリセスを形成すると共に、前記リセス上方に前記絶縁膜が張り出す庇部を残す工程と、
(E)少なくとも前記リセス上方に張り出す前記絶縁膜の庇部をエッチング除去する工程と、
(F)前記リセス内のソース−ドレイン方向の選択された位置に配置され、前記メサを前記ソース−ドレイン方向と交差する方向に横断し、前記メサの側面より外側まで到達し、メサ側面を露出するゲート電極用開口を有するレジストパターンを形成する工程と、
(G)前記ゲート電極用開口から前記メサ側面に露出した前記チャネル層の側面部をウェットエッチングでサイドエッチングし、エアギャップ部を形成する工程と、
(H)前記ゲート電極形成用開口内に露出した半導体表面、前記レジストパターン上にゲート電極形成用金属層を形成し、リフトオフして前記半導体表面上から前記メサの側面より外側まで延在するゲート電極を形成する工程と、
を含む化合物半導体装置の製造方法。 - 前記工程(D)はリン酸、過酸化水素水、水の混合液を用い、前記工程(G)はクエン酸、過酸化水素水、水の混合液を用いる請求項6記載の化合物半導体装置の製造方法。
- (I)前記工程(E)と(F)の間に、前記リセスの表面を覆って、前記メサ上に他の絶縁膜を形成する工程、
を更に含み、
前記工程(F)は、前記他の絶縁膜上に前記ゲート電極用開口を有するレジストパターンを形成し、
(J)前記工程(F)と(G)の間に、前記ゲート電極用開口内に露出した前記他の絶縁膜をエッチング、除去する工程、
をさらに含む請求項6又は7記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート電極用開口が、前記リセス内で前記ドレイン電極から離れ、前記ソース電極に近付けて配置されている請求項6〜8のいずれか1項記載の化合物半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート電極用開口が、前記メサのエッジ近傍で、前記メサのエッジ間の領域におけるソース−ドレイン方向の幅と比べ、前記ソース−ドレイン方向に広げられた幅を有する請求項6〜9のいずれか1項記載の化合物半導体装置の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007220821A JP5217301B2 (ja) | 2007-08-28 | 2007-08-28 | 化合物半導体装置とその製造方法 |
US12/180,116 US20090057719A1 (en) | 2007-08-28 | 2008-07-25 | Compound semiconductor device with mesa structure |
US14/066,730 US8916459B2 (en) | 2007-08-28 | 2013-10-30 | Compound semiconductor device with mesa structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007220821A JP5217301B2 (ja) | 2007-08-28 | 2007-08-28 | 化合物半導体装置とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009054831A JP2009054831A (ja) | 2009-03-12 |
JP5217301B2 true JP5217301B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=40406011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007220821A Active JP5217301B2 (ja) | 2007-08-28 | 2007-08-28 | 化合物半導体装置とその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20090057719A1 (ja) |
JP (1) | JP5217301B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4794655B2 (ja) * | 2009-06-09 | 2011-10-19 | シャープ株式会社 | 電界効果トランジスタ |
US8936976B2 (en) * | 2009-12-23 | 2015-01-20 | Intel Corporation | Conductivity improvements for III-V semiconductor devices |
JP2013131650A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-07-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
US9768271B2 (en) * | 2013-02-22 | 2017-09-19 | Micron Technology, Inc. | Methods, devices, and systems related to forming semiconductor power devices with a handle substrate |
JP6022998B2 (ja) * | 2013-05-10 | 2016-11-09 | 日本電信電話株式会社 | 半導体装置 |
US20150372096A1 (en) * | 2014-06-20 | 2015-12-24 | Ishiang Shih | High Electron Mobility Transistors and Integrated Circuits with Improved Feature Uniformity and Reduced defects for Microwave and Millimetre Wave Applications |
CN106486366B (zh) * | 2015-08-26 | 2019-09-27 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 减薄磷化铟层的方法 |
US11309412B1 (en) * | 2017-05-17 | 2022-04-19 | Northrop Grumman Systems Corporation | Shifting the pinch-off voltage of an InP high electron mobility transistor with a metal ring |
US11145735B2 (en) * | 2019-10-11 | 2021-10-12 | Raytheon Company | Ohmic alloy contact region sealing layer |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05182991A (ja) * | 1991-11-07 | 1993-07-23 | Mitsubishi Electric Corp | ヘテロ接合fet及びその製造方法 |
JP3102947B2 (ja) * | 1992-04-13 | 2000-10-23 | 日本電信電話株式会社 | ヘテロ接合型電界効果トランジスタの素子間分離方法 |
CA2110790A1 (en) | 1992-12-08 | 1994-06-09 | Shigeru Nakajima | Compound semiconductor device and method for fabricating the same |
JPH06232179A (ja) | 1992-12-08 | 1994-08-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 化合物半導体装置およびその製造方法 |
US5364816A (en) * | 1993-01-29 | 1994-11-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Fabrication method for III-V heterostructure field-effect transistors |
JPH0750410A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Hitachi Ltd | 半導体結晶積層体及びその形成方法並びに半導体装置 |
KR0174879B1 (ko) * | 1995-11-08 | 1999-02-01 | 양승택 | 화합물 반도체 소자의 격리방법 |
US5733827A (en) * | 1995-11-13 | 1998-03-31 | Motorola, Inc. | Method of fabricating semiconductor devices with a passivated surface |
US5869364A (en) * | 1996-07-22 | 1999-02-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Single layer integrated metal process for metal semiconductor field effect transistor (MESFET) |
JPH10125901A (ja) * | 1996-10-17 | 1998-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | 電界効果トランジスタ,及びその製造方法 |
JP3377022B2 (ja) * | 1997-01-23 | 2003-02-17 | 日本電信電話株式会社 | ヘテロ接合型電界効果トランジスタの製造方法 |
US6194747B1 (en) * | 1997-09-29 | 2001-02-27 | Nec Corporation | Field effect transistor |
US6057566A (en) * | 1998-04-29 | 2000-05-02 | Motorola, Inc. | Semiconductor device |
JP3534624B2 (ja) * | 1998-05-01 | 2004-06-07 | 沖電気工業株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2003218130A (ja) * | 1998-05-01 | 2003-07-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP3419383B2 (ja) * | 2000-04-27 | 2003-06-23 | 住友電気工業株式会社 | 化合物半導体装置の製造方法 |
JP2002246590A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-08-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2003174039A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-06-20 | Murata Mfg Co Ltd | ヘテロ接合電界効果トランジスタ |
JP2003209125A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Hitachi Ltd | 化合物半導体装置とその製造方法、及び高周波モジュール |
JP3610951B2 (ja) * | 2002-01-16 | 2005-01-19 | ソニー株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
WO2003067764A1 (fr) | 2002-01-30 | 2003-08-14 | Advantest Corporation | Appareil et procede de conversion a/n |
JP4284254B2 (ja) * | 2004-09-07 | 2009-06-24 | 富士通株式会社 | 電界効果型半導体装置 |
DE102006022508A1 (de) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | United Monolithic Semiconductors Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements mit einer in einer Doppelgrabenstruktur angeordneten metallischen Gateelektrode |
JP2007311684A (ja) * | 2006-05-22 | 2007-11-29 | Mitsubishi Electric Corp | 電界効果型トランジスタ |
US7692263B2 (en) * | 2006-11-21 | 2010-04-06 | Cree, Inc. | High voltage GaN transistors |
KR100853166B1 (ko) * | 2007-01-30 | 2008-08-20 | 포항공과대학교 산학협력단 | 전계효과형 화합물 반도체 소자의 제조 방법 |
JP5186661B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-04-17 | 富士通株式会社 | 化合物半導体装置 |
US8633470B2 (en) * | 2009-12-23 | 2014-01-21 | Intel Corporation | Techniques and configurations to impart strain to integrated circuit devices |
-
2007
- 2007-08-28 JP JP2007220821A patent/JP5217301B2/ja active Active
-
2008
- 2008-07-25 US US12/180,116 patent/US20090057719A1/en not_active Abandoned
-
2013
- 2013-10-30 US US14/066,730 patent/US8916459B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009054831A (ja) | 2009-03-12 |
US20090057719A1 (en) | 2009-03-05 |
US8916459B2 (en) | 2014-12-23 |
US20140057401A1 (en) | 2014-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5217301B2 (ja) | 化合物半導体装置とその製造方法 | |
JP5186661B2 (ja) | 化合物半導体装置 | |
US8338861B2 (en) | III-nitride semiconductor device with stepped gate trench and process for its manufacture | |
JP2008270794A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
CN209199943U (zh) | 氮化镓基高电子迁移率晶体管 | |
KR20150083483A (ko) | 고전압 구동용 전계효과 트랜지스터 및 제조 방법 | |
JP5365062B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
CN110581170A (zh) | 具有Г型栅的GaN基MIS-HEMT器件及制备方法 | |
CN109841519A (zh) | 形成氮化物半导体器件的方法 | |
US20110291203A1 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
KR101243836B1 (ko) | 반도체 소자 및 그 형성 방법 | |
US8164118B2 (en) | Semiconductor device and its manufacturing method | |
JP5163095B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2007273538A (ja) | ヘテロ接合バイポーラトランジスタ及びその製造方法 | |
JP3952383B2 (ja) | 化合物電界効果半導体装置 | |
JP3326928B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
KR102659766B1 (ko) | 고전자이동도 트랜지스터 및 그 제조방법 | |
JP2002141499A (ja) | 電界効果トランジスタ及びその製造方法 | |
CN108010844B (zh) | Hemt器件及其制备方法 | |
KR102628555B1 (ko) | 고전자이동도 트랜지스터 및 그 제조방법 | |
JPH0529356A (ja) | 半導体素子およびその製造方法 | |
JPH04340231A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
WO2022204913A1 (en) | Iii nitride semiconductor devices on patterned substrates | |
JP4413472B2 (ja) | 化合物半導体装置及びその製造方法 | |
CN116613189A (zh) | 高电子迁移率晶体管及其制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120822 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120828 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130108 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130218 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5217301 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |