JP5213423B2 - 液体吐出ヘッド及びその製造寸法管理方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 29
- 238000007726 management method Methods 0.000 claims description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 206010025421 Macule Diseases 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
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- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1635—Manufacturing processes dividing the wafer into individual chips
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
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Description
図1〜図6は本発明の第1の実施例を説明するための図である。
図16(a)は第2の実施例によるノズルの平面図を示しており、図16(b)は図16(a)中の一点鎖線で示した面で切断されたノズル基板の模式的断面図である。オリフィス6はインクの吐出方向に向かうに従って穴が細くなるようなテーパーを有している。
図18(a)は第3の実施例によるノズルの平面図を示しており、図18(b)は図18(a)中の一点鎖線で示した面で切断されたノズル基板の模式的断面図である。図19(a)は本実施例でノズル基板を切り分けるスクライブライン2の周辺の拡大図、同図(b)は同図(a)中の一点鎖線で切断されて露出した複数のダミーパターンの断面露出部を示す図である。
4 チップ(ノズルチップ)
5 ノズル
6 オリフィス
7 流路
9 ノズル形成部材
17 液体吐出ヘッド
20 基板(シリコン基板)
26、26A、26B ダミーパターン
Claims (12)
- 液体を吐出するための液体吐出ヘッドであって、基板と、該基板の主面に、前記液体の流路と前記液体を吐出するためのオリフィスとからなるノズルを形成するノズル形成部材と、を有する液体吐出ヘッドにおいて、
前記流路と前記オリフィスとを含む前記ノズルと略同一寸法の構成を有するダミーパターンを有し、該ダミーパターンが、前記ノズル形成部材の端面に該ダミーパターンの断面が露出する形で形成されていることを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 複数の前記ダミーパターンを有し、該複数のダミーパターンは前記ノズル形成部材の端面に該各ダミーパターンの断面が露出する形で列状に形成されており、
前記複数のダミーパターンの配列方向と前記ノズル形成部材の端面とが互いに非平行に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド。 - 前記オリフィスは前記液体の吐出方向に穴が細くなるようなテーパーを有することを特徴とする請求項1または2に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記ノズル形成部材は前記基板の主面に樹脂を積層して形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッド。
- 液体を吐出するための液体吐出ヘッドの製造寸法管理方法であって、
前記液体吐出ヘッドは、基板と、該基板の主面に、前記液体の流路と前記液体を吐出するためのオリフィスとからなるノズルを形成するノズル形成部材と、を有し、前記流路と前記オリフィスとを含む前記ノズルと略同一寸法の構成を有するダミーパターンが、前記ノズル形成部材の端面に該ダミーパターンの断面が露出する形で形成されており、
前記ダミーパターンの断面露出部分の寸法を測定することで、前記ノズルの製造寸法を管理することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造寸法管理方法。 - 複数の前記ダミーパターンを有し、該複数のダミーパターンは前記ノズル形成部材の端面に該各ダミーパターンの断面が露出する形で列状に形成されており、前記ダミーパターンの断面露出部分の少なくとも一部が、前記ノズル形成部材を切断することによって露出する液体吐出ヘッドの製造寸法管理方法であって、
複数の前記ダミーパターンの断面露出部分の中から寸法測定を行うダミーパターンを選定することを特徴とする請求項5に記載の液体吐出ヘッドの製造寸法管理方法。 - 前記ノズル形成部材を切断する位置によって前記ダミーパターンの断面露出部分の形状が異なる液体吐出ヘッドの場合には、
前記ノズル形成部材の切断位置のバラツキに応じて、複数の前記ダミーパターンの断面露出部分の中から寸法測定を行うダミーパターンを選定することを特徴とする請求項6に記載の液体吐出ヘッドの製造寸法管理方法。 - 複数の前記ダミーパターンを有し、該複数のダミーパターンは前記ノズル形成部材の端面に該各ダミーパターンの断面が露出する形で列状に形成されており、
前記複数のダミーパターンの配列方向と前記ノズル形成部材の端面とが互いに非平行に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の液体吐出ヘッドの製造寸法管理方法。 - 基板上に液体を吐出するための複数のノズルからなるノズル群を形成し、所定の位置で切断することにより、液体吐出ヘッドの構成部品であるノズルチップを作製するためのノズル基板であって、
前記ノズルは、前記液体の流路と前記液体を吐出するためのオリフィスとを有しており、前記所定の切断位置に前記流路と前記オリフィスとを含む前記ノズルと略同一寸法の構成を有するダミーパターンが形成されており、切断することにより、前記ダミーパターンが前記ノズルチップの端面に露出することを特徴とするノズル基板。 - 複数の前記ダミーパターンを有し、該複数のダミーパターンは前記ノズルチップの端面に該各ダミーパターンの断面が露出する形で列状に形成されており、
前記複数のダミーパターンの配列方向と前記ノズルチップの端面とが互いに非平行に配置されていることを特徴とする請求項9に記載のノズル基板。 - 前記オリフィスは前記液体の吐出方向に穴が細くなるようなテーパーを有することを特徴とする請求項9または10に記載のノズル基板。
- 前記ノズルチップは前記基板の主面に樹脂を積層して形成されることを特徴とする請求項9乃至11のいずれか1項に記載のノズル基板。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007315820A JP5213423B2 (ja) | 2007-12-06 | 2007-12-06 | 液体吐出ヘッド及びその製造寸法管理方法 |
US12/326,481 US8100505B2 (en) | 2007-12-06 | 2008-12-02 | Liquid ejecting head and manufacturing dimension control method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007315820A JP5213423B2 (ja) | 2007-12-06 | 2007-12-06 | 液体吐出ヘッド及びその製造寸法管理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009137157A JP2009137157A (ja) | 2009-06-25 |
JP5213423B2 true JP5213423B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=40721187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007315820A Expired - Fee Related JP5213423B2 (ja) | 2007-12-06 | 2007-12-06 | 液体吐出ヘッド及びその製造寸法管理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8100505B2 (ja) |
JP (1) | JP5213423B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5183357B2 (ja) * | 2008-08-21 | 2013-04-17 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
WO2011121972A1 (en) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head manufacturing method |
JP5814644B2 (ja) * | 2010-08-27 | 2015-11-17 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド |
JP6100009B2 (ja) | 2012-02-28 | 2017-03-22 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよび記録装置 |
JP6015043B2 (ja) * | 2012-03-19 | 2016-10-26 | 株式会社リコー | ノズル板の製造方法 |
JP5979959B2 (ja) | 2012-04-27 | 2016-08-31 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、および記録装置 |
JP5930853B2 (ja) | 2012-06-05 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置 |
JP2014028471A (ja) | 2012-07-31 | 2014-02-13 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
JP6562694B2 (ja) | 2014-05-30 | 2019-08-21 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置、および液体吐出ヘッドと液体収納容器の電気接続方法 |
JP6579780B2 (ja) | 2014-05-30 | 2019-09-25 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよび支持部材 |
JP6519225B2 (ja) * | 2015-02-25 | 2019-05-29 | セイコーエプソン株式会社 | ダミー部材及び液体噴射装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3486192A (en) * | 1967-03-24 | 1969-12-30 | Union Carbide Corp | Apparatus for extrusion of thermoplastics |
JP2980128B2 (ja) * | 1988-12-20 | 1999-11-22 | 株式会社リコー | 液体墳射記録ヘッド |
JPH0529179U (ja) * | 1991-09-26 | 1993-04-16 | 沖電気工業株式会社 | 多層プリント配線板 |
JP3343875B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2002-11-11 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP4342749B2 (ja) * | 2000-08-04 | 2009-10-14 | 株式会社リコー | 液滴吐出ヘッド、インクカートリッジ及びインクジェット記録装置 |
JP2003039673A (ja) * | 2001-05-24 | 2003-02-13 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法、インクジェット記録装置、並びにインクジェット記録ヘッドの駆動方法 |
JP3603828B2 (ja) * | 2001-05-28 | 2004-12-22 | 富士ゼロックス株式会社 | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法並びにインクジェット式記録装置 |
US20030081079A1 (en) * | 2001-09-20 | 2003-05-01 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink jet recording head, method for manufacturing the same and ink jet recording apparatus |
JP4419754B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2010-02-24 | ブラザー工業株式会社 | インクジェットヘッド |
US7837299B2 (en) * | 2005-11-24 | 2010-11-23 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid ejecting head and method of manufacturing the same, image forming apparatus, liquid drop ejecting device, and recording method |
JP2007144706A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Ricoh Co Ltd | 液滴吐出装置及び画像形成装置 |
JP2007253373A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 |
-
2007
- 2007-12-06 JP JP2007315820A patent/JP5213423B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-12-02 US US12/326,481 patent/US8100505B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8100505B2 (en) | 2012-01-24 |
US20090147050A1 (en) | 2009-06-11 |
JP2009137157A (ja) | 2009-06-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101201 |
|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |