JP5208342B2 - 二酸化チタン顔料を生成するための連続プロセス - Google Patents

二酸化チタン顔料を生成するための連続プロセス Download PDF

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Description

本願は、米国仮出願第60/196,684号(2000年4月12日出願、表題「Process for Producing Titanium Dioxide Pigments Possessing Improved Optical Properties Resulting from Low Temperature Processing」)および米国仮出願第60/196,856号(2000年4月12日出願、表題「Methods and Processes for Producing Titanium Dioxide Pigment Possessing Improved Physical Properties via Continuous Processing at High Rates」)および米国出願第09/705,530号(2000年11月3日出願、表題「Methods for Producing Titanium Dioxide Pigments having Improved Gloss at Low Temperatures」)の出願日の利益を主張する。これらの開示全体は、本開示に参考として援用される。
(発明の分野)
本発明は、低温での短い反応時間により特徴付けられる多段階連続的湿式処理により二酸化チタン顔料を調製するための改善されたプロセスに関する。本発明のプロセスにより調製される完成された顔料は、種々の用途(すなわち、ペイント、プラスチック被覆(被膜)など)において有用であり、そして改善された性質(例えば、光沢および/または耐久性)を有する。
(発明の背景)
二酸化チタン(TiO)顔料は、種々の用途(例えば、ペイント、プラスチック、および被覆(被膜))において有用である。一般的に、これらの用途において有用な顔料は、アルミナ、シリカ、ジルコニア、ホスフェートなどの含水酸化物の層または被覆(被膜)を有するベースTiO粒子(すなわち、鋭錐石または金紅石)を含む。
TiOを被覆(被膜)するために用いられるプロセスは顔料分野において周知である。これらの被覆(被膜)プロセスは、代表的に、所望の被覆(被膜)を形成するために、特定の含水酸化物を沈殿させることによりTiO粒子を湿式処理する工程を包含する。
TiOの湿式処理は、バッチプロセスまたは連続的な多段階プロセスのいずれかを用いて実施される。いくつかの先行技術の参考文献は、含水酸化物の被覆のための減少した処理時間および実質的な設備投資を必要としない高い生成物処理能力を含む連続処理の利点を記載する。
所望の物理的性質(すなわち、光沢および/または耐久性)を有する十分に被覆された顔料粒子を生成するために、TiOに対して実施されるpH、温度、および湿式処理時間が注意深く制御されなければならないことは、当該分野において周知である。含水酸化物の中で、シリカおよびアルミナの組み合わせが、被覆適用において優れた性質を有することが判明した。例えば、高密度のシリカ被覆を有する顔料が、光学的な性質に影響を及ぼし、そしてプラスチック、ペイント、または用いられる被覆の耐久性を改善することは周知である。
含水シリカおよびアルミナを用いてTiO粒子を被覆するための連続的な多段階プロセスは、先行技術において記載されている。代表的に、これらのプロセスは、少なくとも80℃の温度でTiO粒子の水性スラリーを調製する工程、およびその後このスラリーに可溶性のケイ酸塩およびアルミナを添加する工程を包含する。
スラリーのpHは、含水シリカ層の沈殿を開始するために、少なくとも約9.6に調整される。先行技術は、所望のシリカ被覆を有する顔料を生成するために、過剰に長い処理時間(すなわち、1時間以上)および特定のpHの範囲が必要とされることを記載する。例えば、適切な高密度シリカ被覆は、シリカの硬化を制御するために設計された一連の工程を通して、スラリーのpHが約9まで低下される場合に獲得可能である。
先行技術は、長い処理時間およびスラリーのpHが、アルミナの沈殿のために重要であることを開示する。例えば、1時間にわたるシリカの硬化工程の後、アルミナの沈殿は、アルミン酸ナトリウムのようなアルミナ化合物の添加により、スラリーのpHを約5.5〜7.5の間に下げることにより開始される。この反応は、所望の量のアルミナが沈殿する時間まで続行される。続いて、このスラリーは中和され、洗浄される。別々の仕上げ工程において、得られる顔料のフィルターケークは、公知の手段により仕上げられる。
容認可能な耐久性および/または光沢を有するペイント、プラスチック、および被覆のためのTiO顔料を調製するために、過剰に長い処理時間およびより高い処理温度(代表的には、約80℃より高い)が不必要であることが発見された。これらの温度は、過剰なエネルギーを消費し、そしてこのプロセスに有害である。従って、本発明は、含水酸化物被覆を有するTiO顔料を生成する連続プロセスの分野における利点を示す。
(発明の要旨)
本発明は、以下の工程を包含する、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスを提供する:a)約75℃未満の温度および約3.0〜約9.0のpHにて二酸化チタンベース粒子の水性スラリーを調製する工程;b)このスラリー中でシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成するために、スラリーのpHを約2.4〜約10.5の範囲に、そしてスラリーの温度を約75℃未満に維持しながらシリカ化合物を添加する工程;ならびにc)二酸化チタン顔料を形成するために、スラリーのpHを約5.5〜約7.5の範囲に、そしてスラリーの温度を約75℃未満に維持しながらアルミナ化合物を添加する工程。
1つの実施形態において、本発明は、以下の工程を包含する、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスを提供する:a)約75℃未満の温度および約3.0〜約8.0のpHにて二酸化チタンベース粒子の水性スラリーを調製する工程;b)このスラリー中でシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成するために、スラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、少なくとも3段階においてスラリーのpHを維持する(第1段階においては、スラリーのpHを約10に維持し、第2段階においては、pHを約9.4に維持し、そして第3段階においては、pHを約4.9に維持する)ことにより、ベースの二酸化チタン粒子を被覆するためにシリカ化合物を添加する工程;ならびにc)二酸化チタン顔料を形成するために、スラリーのpHを約5.5〜約7.5の範囲に、そしてスラリーの温度を約75℃未満に維持しながらアルミナ化合物を添加する工程。
別の実施形態において、本発明は、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスを提供し、このプロセスは、以下の工程を包含する:a)約75℃未満の温度および約3.0〜約8.0のpHで、二酸化チタンベース粒子の水性スラリーを調製する工程;b)スラリー中でシリカで被覆ベース二酸化チタン粒子を形成するように、スラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、少なくとも3つの段階でスラリーのpHを調整することによって、ベース二酸化チタン粒子を被覆するために、シリカ化合物を添加する工程であって、第1の段階においてpHは約9.6に維持され、第2の段階においてpHは約8.9に維持され、そして第3の段階においてpHは約2.7に維持される、工程;ならびにc)二酸化チタン顔料を形成するように、スラリーのpHを約5.5〜約7.5の範囲に維持し、そしてスラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、アルミナ化合物を添加する工程。
別の実施形態において、本発明は、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスを提供し、このプロセスは、以下の工程を包含する:a)約75℃未満の温度および約3.0〜約8.0のpHで、二酸化チタンベース粒子の水性スラリーを調製する工程;b)スラリー中でシリカで被覆(コーティング)されたベース二酸化チタン粒子を形成するように、スラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、少なくとも3つの段階でスラリーのpHを調整することによって、ベース二酸化チタン粒子を被覆(コーティング)するために、シリカ化合物を添加する工程であって、第1の段階においてpHは約9.5に維持され、第2の段階においてpHは約9.2に維持され、そして第3の段階においてpHは約6.1に維持される、工程;ならびにc)そして二酸化チタン顔料を形成するように、スラリーのpHを約5.5〜約7.5の範囲に維持し、スラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、アルミナ化合物を添加する工程。
なお別の実施形態において、本発明は、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスを提供し、このプロセスは、以下の工程を包含する:a)約75℃未満の温度および約2.0〜約9.0のpHで、粉砕されていない二酸化チタンベース粒子の水性スラリーを調製する工程;b)スラリー中でシリカで被覆(コーティング)されたベース二酸化チタン粒子を形成するように、スラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、少なくとも3つの段階でスラリーのpHを維持することによって、ベース二酸化チタン粒子を被覆(コーティング)するために、シリカ化合物を添加する工程であって、第1の段階においてpHは約9.4に維持され、第2の段階においてpHは約9.1に維持され、そして第3の段階においてpHは約5.0に維持される、工程;ならびにc)二酸化チタン顔料を形成するように、スラリーのpHを約5.5〜約7.5の範囲に維持し、そしてスラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、アルミナ化合物を添加する工程。
1つの例示的な実施形態において、本発明は、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスを提供し、このプロセスは、以下の工程を包含する:a)約75℃未満の温度および約2.0〜約9.0のpHで、湿式粉砕された二酸化チタンベース粒子の水性スラリーを調製する工程;b)スラリー中でシリカでコーティングされたべース二酸化チタン粒子を形成するように、スラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、少なくとも3つの段階でスラリーのpHを維持することによって、ベース二酸化チタン粒子を被覆(コーティング)するために、シリカ化合物を添加する工程であって、第1の段階においてpHは約9.1に維持され、第2の段階においてpHは約8.6に維持され、そして第3の段階においてpHは約5.4に維持される、工程;ならびにc)二酸化チタン顔料を形成するように、スラリーのpHを約5.4〜約7.5の範囲に維持し、そしてスラリーの温度を約75℃未満に維持する間に、アルミナ化合物を添加する工程。
別の例示的な実施形態において、本発明は、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスを提供し、このプロセスは、以下の工程を包含する:a)約75℃未満の温度および約3.0〜約8.0のpHで、二酸化チタンベース粒子の水性スラリーを調製する工程;b)スラリー中でシリカで被覆(コーティング)されたベース二酸化チタン粒子を形成するように、スラリーの温度を約75℃未満に維持しながら、少なくとも3つの段階でスラリーのpHを維持することによって、ベース二酸化チタン粒子を被覆(コーティング)するために、シリカ化合物を添加する工程であって、第1の段階においてpHは約10.0に維持され、第2の段階においてpHは約9.4に維持され、そして第3の段階においてpHは約4.9に維持される、工程;ならびにc)二酸化チタン顔料を形成するように、スラリーのpHを約5.5〜約7.5の範囲に維持し、そしてスラリーの温度を約75℃未満に維持する間に、アルミナ化合物を添加する工程。
本発明の顔料は、他の連続プロセスより少ない全体の熱エネルギーを利用して、最小量の時間で調製され得る。本発明の顔料は、優れた光沢の可能性およびペンキ、プラスチックまたは被覆(コーティング)との適合性を有する。
他の利点およびさらなる利点ならびに実施形態と共に、本発明のより優れた理解のために、参照が、実施例と関連して考慮される以下の説明に対してなされ、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲において示される。
(発明の詳細な説明)
ここで、本発明は、好ましい実施形態と結びつけて説明される。これらの実施形態は、本発明の理解を補助するために提供され、そしていずれの様式においても本発明を限定するように意図されず、そしてそのように解釈されない。本開示を読む際に当業者に明らかとなる全ての代替物、改変および等価物は、本発明の精神および範囲に含まれる。
この開示は、TiO顔料生成に関する入門書ではなく、TiO生成の分野における当業者に公知の基本的概念は、詳細に示されていない。チタニア顔料を生成するための酸化反応のための適切な添加物および反応器を選択するような概念は、当業者によって容易に決定され得、そして先行技術において一般に記載されている。従って、これらの問題に関して当業者に公知の適切な教科書および参考文献に対して注意が向けられる。
本発明のプロセスに関して、TiO顔料ベースが利用され得る。このようなベースは、「塩化物」プロセスまたは「硫酸塩」プロセスのいずれかによって、商業的に製造されるものを含み得る。本発明において有用なTiOベース顔料粒子は、好ましくは、実質的にルチル結晶構造を有するべきである。例えば、塩化物プロセスによって作製されるこのようなベースは、約0.1〜約0.5ミクロンの範囲の粒子サイズを有する。代表的には、塩化物プロセスを介して作製されるベースは、例えば、塩化アルミニウムのような塩化物プロセスの間に添加される少量の酸化アルミニウムを含む。このアルミニウム化合物は、当該分野で代表的に公知であるようなチタン化合物に基づいて、約0.1〜約1.5パーセントの量で、TiO顔料ベース中に存在し得る。
本発明は、チタン鉱石が硫酸中に溶解されて、硫酸チタン水溶液が調製される、スルフェートプロセスから得られたTiOベースを含む。この硫酸チタン水溶液は、水酸化チタンへと加水分解され、その後、か焼されてベースTiOが生成される。これらの両方のプロセスは当該分野で周知である。
本発明のプロセスにおいて有用なベースTiO顔料は、湿式粉砕されても、乾燥粉砕されても、粉砕されなくてもよく、そして必要に応じて処理前に水性分類(hydroclassify)されてもよく、これにより、実質的に均質な粒子サイズの顔料基材を提供する。
本明細書中で使用される場合、粉砕されていないベースTiOは、当該分野で認識される用語であり、そして湿式粉砕されていないTiO顔料を含む。粉砕されていないベースTiO顔料は、塩化物プロセスにおける反応器またはスルフェートプロセスにおけるか焼炉からの粗TiO放出生成物を含み、ここで、これは生成され、これは、放出生成物を実質的にすりつぶすか、破砕するかまたは粉砕する、何の事前の介在加工工程にも供されていない。乾燥粉砕ベースTiOは、当該分野で認識される用語であり、そして適切な乾燥粉砕プロセスまたはローリングプロセス(例えば、Raymond粉砕、Sahout ConreurまたはFitzpatrickローリングなど)由来の乾燥した粉砕またはローリングされたTiO放出生成物を含む。湿式粉砕は、当該分野で認識された用語であり、そして湿ったベースTiO放出生成物を粉砕することを含む。いくつかの湿式粉砕プロセスは、サンド粉砕、ジルコンビーズ粉砕などを含む。
本発明のプロセスは、ベース酸化チタン顔料の水性スラリーの形成を含む。二酸化チタン顔料のスラリーは、当該分野で公知の方法によって作製され得る。代表的には、ベース顔料濃度は、スラリー1リットルあたり、約100グラム〜約500グラムの範囲にわたる。このスラリーは、当該分野で公知の任意の手段によって約60℃〜約75℃の間の温度まで加熱される。好ましくは、このスラリーは、プロセス反応器システムへと連続様式で供給される蒸気注入によって、約65℃〜約75℃未満までの間の温度まで加熱される。
スラリーのpHは、当該分野で公知の方法によって調整され得る。例えば、pHの調整は、適切な酸または適切な塩基を添加することによって達成される。適切な塩基としては、水溶性アルカリ塩基(例えば、アンモニア)、水酸化ナトリウムまたは他の適切なアルカリ化合物が挙げられる。適切な酸としては、水溶性の酸(例えば、塩酸、硫酸、硝酸など)が挙げられる。最初のスラリー(シリカ化合物の添加前)のpHは、約2と約11との間に調整され得る。最初のスラリーの好ましいpHは、約2と約9との間、最も好ましくは約3と約8との間である。
最初のスラリーの形成後、スラリーを約75℃未満の温度で維持しながら、シリカ化合物が添加される。本発明の目的のために、このプロセスの作動条件下で二酸化チタン顔料上への沈着のためにシリカを提供し得る任意の水溶性シリカ化合物が用いられ得る。本発明における使用のために適切なシリカ化合物としては、水溶性アルカリ金属シリケートが挙げられるがこれに限定されない。好ましい水溶性アルカリ金属シリケートとしては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムなどが挙げられる。最も好ましくは、シリカ化合物はSiOを提供するケイ酸ナトリウム水溶液である。
シリカ化合物は代表的に、湿式処理が行われる反応容器に直接添加されるか、またはプロセスにインラインで添加され得る。好ましくは、シリカは、TiO顔料の重量に基づいて、約1重量%〜約10重量%、より好ましくは約1.5重量%〜約5.5重量%、そして最も好ましくは約2.5%〜約3.5%の量で添加される。
シリカの添加後、このスラリーは、代表的には約10.5〜約2.4のpH範囲で硬化される。好ましくは、このスラリーは、少なくとも3つの段階で硬化され、例えば、第一段階でpHが約10.2から約10.0へと下げられ、第二段階でpHが約9.4まで下げられ、次いで第三段階で約4.9まで下げられる。別の好ましいpH範囲は、第一段階でpHを約10から約9.6へと下げ、第二段階でpHを約8.9まで下げ、次いで第三段階でpHを約2.7まで下げることを含む。別の好ましいpH範囲は、第一段階で約9.7から約9.5へとpHを下げ、第二段階でpHを約9.2へと下げ、次いで第三段階でpHを約6.1へと下げることを含む。別の好ましいpH範囲は、第一段階でpHを約9.6から約9.4へと下げ、第二段階でpHを約9.1へと下げ、次いで第三段階でpHを約5.0へと下げることを含む。別の好ましいpH範囲は、第一段階でpHを約9.5から約9.1へと下げ、第二段階でpHを約8.6へと下げ、次いで第三段階でpHを約5.4へと下げることを含む。本発明は、同様のpHプロフィールをも意図する。
各段階での滞留時間はまた変動し得る。好ましくは、滞留時間は、好ましくは約15分間の最短期間に維持される。例えば、充分量のシリカ化合物は10分間かけて添加され、次いでスラリーがさらなる期間(好ましくは5分間)保持された後、酸の各添加によってpHを低下させる。あるいは、シリカ化合物は、1分未満で添加され、次いでスラリーが約15分間保持された後、酸の添加によってpHを低下させる。
1つの意図される好ましい実施形態では、本発明は、最初のシリカ沈澱容器におけるスラリーのpHが約9.6と約9.8との間である、連続プロセスを提供する。このスラリーを硬化させ、ここで、滞留時間は好ましくは約10分間と約20分間との間であり、その後、このスラリーを第二のシリカ沈澱タンクに移す。第二のタンクでは、pHを約9.2と9.5との間に低下させ、そして維持する。第二のタンクにおける滞留時間は、約10分間と約20分間との間であり、その後、このスラリーを第三のシリカ沈澱タンクに移す。第三のシリカ沈澱タンクでは、さらなる酸を添加して、pHを約2.4〜約6.6の範囲に維持する。
シリカ添加後、スラリーを約75℃未満の温度に維持しながら、アルミナ化合物が添加される。アルミナ化合物は、含水アルミナ化合物(例えば、水溶性アルカリ金属アルミネートなど)を含む。いくつかの水溶性アルカリ金属アルミネートは、アルミン酸ナトリウムまたはアルミン酸カリウムを含むがこれらに限定されない。いくつかの他のアルミナ化合物としては、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウムなどが挙げられる。最も好ましくは、水溶性アルミナ化合物は、Alを提供するアルミン酸ナトリウムである。
好ましくは、アルミナ化合物は、スラリーに対して添加されて、二酸化チタンベース顔料の重量に基づいて、約1重量%アルミナと約3重量%アルミナとの間に等価なAlが提供される。最も好ましくは、Alは、二酸化チタンベース顔料の重量に基づいて、約1.6%アルミナ〜約1.9%アルミナの間に等価である。
代表的に、アルミナ化合物は、pHを7未満に維持するために酸または塩基のいずれかを同時に添加しながら、約10分〜約20分の間にわたって、このスラリーに添加される。あるいは、このアルミナ化合物は、pHを7未満に維持するために酸または塩基のいずれかを同時に添加しながら、1分未満で添加される。好ましくは、pHは、約5.5と約6.5との間に維持され、そしてこのスラリーは、フィルタ供給タンクへと流出されるかまたは洗浄のためのフィルタに直接流出される前に、約15分間保持される。
得られたシリカおよびアルミナで被覆された二酸化チタン顔料は、この顔料に接着した可溶性塩を実質的に含まないように洗浄され、乾燥され、次いで当該分野で公知の流体エネルギー粉砕技術を使用する最終粉砕に供される。好ましくは、洗浄されそして乾燥された顔料は、所望の粒子サイズ分布を作製するための当業者に公知の強度で、蒸気微紛化機(steam micronizer)中で微紛化される。
必要に応じて、有機化合物(例えば、トリメチロールプロパン(TMP)、トリメチロールエタン(TME)、ペンタエリスリトール、Tamol 1254、Tamol 963のようなポリオール)、ならびに有機リン酸およびシランのような疎水性有機物質、空気微紛化または蒸気微紛化の間にこの顔料に添加され得る。最も好ましい実施形態において、TMPは、二酸化チタン顔料の重量にへ基づいて、約0.2%〜0.8%の量で添加され得る。
本発明の二酸化チタン顔料は、連続プロセスによって生成され得る。代表的に、連続プロセスは、シリカ化合物およびアルミナ化合物、pH調節剤および他の添加物のための別々の添加点を備えるカスケード処理タンクを備える連続供給パイプラインを含む。連続プロセスは、二酸化チタン顔料上へのシリカおよびアルミナの沈着のための、約120分未満、好ましくは約5分〜約60分、そしてより好ましくは約10分〜約45分の滞留時間を含む。
本発明の方法によって生成される被覆顔料は、良好な分散性、光沢および/または耐久力を有する。分散性は、当該分野で公知の方法によって決定される。例えば、本発明の被覆二酸化チタン顔料は、プラスチックまたはペイント中に混合され、そしてこの顔料粒子の分布が測定され得る。ペイントまたはプラスチック全体にわたる顔料の均一な分布は、良好な分散性を示すが、凝集物の形成は、この顔料の乏しい分散性を示す。当該分野で公知の、分散性を決定するいくつかの方法としては、着色力、Hegmanゲージなどが挙げられる。
光沢は、当該分野で公知の方法によって決定される。好ましくは、光沢は、顔料をペイントに組み込み、そして光沢計で光沢を測定することによって決定される。本発明の顔料の耐久性は、当該分野で公知の方法によって決定され得る。耐久性を測定するいくつかの方法としては、二酸化チタン顔料の光触媒活性の測定、二酸化チタン顔料の酸溶解度、自然な暴露および耐候性試験機試験が挙げられる。
ここで一般に本発明を記載したが、本発明は、実施例についての以下の参照を介してより容易に理解され得る。この実施例は、例示の目的で提供され、特記されない限り、本発明を限定するように意図されない。
(実施例)
以下の実施例は、約75℃未満の温度、特定のpHプロフィールで生成される二酸化チタン顔料が、商業的に容認可能な光沢および/または耐久性を有することを実証する。
(実施例1)
約0.2μmと約0.5μmとの間の範囲の粒子サイズまで湿式粉砕した二酸化チタンベースを使用した。好ましくは、このベースの約20%未満は、直径0.5μmより小さかった。この材料を、約1.27の比重(密度)を有するまで希釈し、一方、1000gのTiOを、各表面処理実験に使用した。8リットルの電槽中、攪拌下でスラリーを70〜72℃まで加熱し、次いで、この実験全体にわたってこの温度に維持した。
各実験を、スラリーの初期pHを除いて同一の条件を使用して行った。2.8%のSiO(TiOの重量に基づいて)を、ケイ酸ナトリウムの溶液(約380g/lのSiO)として20分にわたって添加した。このスラリーを、攪拌しながらさらに5分間寝かせ、次いでスラリーのpHおよびBrookfield粘度(センチポイズ、すなわちcps)の測定を行った。
ケイ酸ナトリウムの添加後、スラリーのpHを、HCl(約20%濃縮)を用いて15〜30分かけて約6.5±0.2のpHに調整した。次いで、このスラリーを、攪拌しながらさらに10分間寝かせた。少量のスラリー(20g未満のTiO)を引き出し、直ちに脱水し、そして酸溶解度、BET表面積、および透過型電子顕微鏡検査(TEM)についての試験のために、対流式オーブン中で乾燥した。
処理の容易さ(粘度の増加に起因する)およびシリカ被覆の質に対する、スラリーの初期pH(ケイ酸ナトリウムの添加前)の影響を、表1に示す。表1では、ケイ酸ナトリウムの添加後のスラリーの粘度、ならびにシリカ被覆顔料の酸溶解度およびBET表面積を要約する。これは、スラリーのより低い初期pH(好ましくは、いずれのNaOHも使用することなく)が、処理の容易さ(最も低い粘度)、Sio被覆の質(最も低い酸溶解度および表面積)の、可能な最良の組み合わせを与えることを示す。
Figure 0005208342
(実施例2)
同じ二酸化チタンベースおよび同じ実験装置を使用した。各実験において、1000gのTiOを使用した。スラリーを、1.27の比重を有するまで希釈し、次いで、8リットルの電槽中、攪拌しながら70〜72℃まで加熱し、そしてこの実験を通してこの温度を維持した。
各実験を、SiOが沈殿する最終pHを除いて、同一の条件を使用して行った。NaOH(濃縮物の約50重量%)の添加で、このスラリーの初期pHは7.0〜7.4であり、攪拌しながらさらに10分間寝かせた。2.8%のSiO(TiOの重量に基づいて)を、ケイ酸ナトリウムの溶液(約380g/lのSiO)として20分にわたって添加した。次いで、このスラリーを、攪拌しながらさらに5分間寝かせた。
1つの実験において、ケイ酸ナトリウムの添加後、このスラリーのpHを、HCl(濃縮物の約20重量%)を用いて、15分間かけて約5.0のpHに調整した。別の実験において、ケイ酸ナトリウムの添加後、このスラリーのpHを、HClを用いて15分間かけて、約5.0のpHに調整した。
次いで、スラリーをさらに5分間撹拌しながらエージングした。少量のこの「SiOのみ」の顔料(20g未満のTiO)を取り出し、すぐに脱水し、そして酸可溶性、BET表面領域および透過型電子顕微鏡(TEM)についての試験のために対流オーブン中で乾燥した。
次いで、2.0%Al(TiOの重量に基づく)を、HClの同時添加でスラリーのpHを6.5に維持しながら、10分間の期間にわたってアルミン酸ナトリウム(約370g/l Al)の溶液として添加した。このスラリーを、さらに10分間撹拌しながらエージングした。
最後に、スラリーのpHを、HClを用いて5.3±0.2に調整し、その後撹拌しながらさらに60分間エージングした。次いで、得られた顔料を洗浄し、そして実質的に塩がなくなるまでろ過した。
顔料を、0.4%トリメチロールプロパン(TMP)(TiO重量に基づく)とブレンドし、次いで約100℃で36時間にわたって乾燥させ、8つのメッシュスクリーンを通して粉砕し、そして約2.5の蒸気:TiO比で、8インチの実験室マイクロナイザーを使用して蒸気微粉化した。次いで、顔料を40%PVCで、アクリルベースペンキに調製し、そして20°の光沢を測定した。
SiO添加段階後に採取したサンプルに対応するSiO被覆の質と共に、SiOが沈殿した終点pH、および仕上げ顔料についての40%のアクリル光沢を表2に要約する。ここで、良好な光沢可能性を有する合理的に良好なSiO被覆を達成したことを示す。
(実施例3)
同じ実験装置および同じ初回調製物を用いて、同じ二酸化チタンベースを、実施例2におけるように使用した。各実験を、SiOが沈殿したpH順序を除いて同一の条件を使用して行なった。
実施例2と同じSiO添加およびエージングの同一の手順に従って、スラリーpHを、HClの添加を用いて、3段階で調整した。1つの実験において、pHを、第1段階で1分間にわたって約10.2から10.0へと低下させ、これには約15分のエージングが続き、第2段階で1分にわたって10.0から9.4へと低下させ、これには約15分のエージングが続き、次いで第3段階で1分にわたって9.4から4.9へと低下させ、これには約15分のエージングが続いた。同じ添加時間およびエージング時間を用いる別の実験において、pHを、第1段階で10.0から9.6へと、第2段階で9.6から8.9へと、次いで第3段階で8.9から2.7へと低下させた。
SiOの沈澱後、顔料を、Alで処理し、次いで洗浄し、ろ過し、TMPとブレンドし、乾燥、蒸気微粉化が続き、そして実施例2と正確に同じ様式で、40%PVC試験に調製した。
SiO添加段階後に採取したサンプルに対応するSiO被覆の質と共に、SiOが沈澱したpHの順序、および仕上げ顔料についての40%のアクリル光沢を以下の表2に要約する。ここで、改善したSiO被覆の質(より低い酸可溶性値)およびおよそ等しい良好な光沢可能性を、SiOが3段階にわたり、かつ、低いpHで沈殿した状態で、達成したことを示す。
Figure 0005208342
(実施例4)
同じスラリー濃度および温度を用いて、同じ実験装置を、実施例2のように使用した。二酸化チタンベースを、最初のpHにおける調整なしで使用した。
1つの実験において、塩化物プロセス由来の二酸化チタンを、湿式粉砕なしで使用した。別の実験において、塩化物プロセス由来の二酸化チタンベースを、実施例1とまさに同じ様式で湿式粉砕した。実施例2と同じSiO添加およびエージングの手順後、スラリーpHを、実施例3と同様の様式で、HClの添加を用いて調整した。
第1の実験において、pHを、第1段階で1分間にわたって約9.6から9.4へと低下させ、これには約15分のエージングが続き、第2段階で1分にわたって9.4から9.1へと低下させ、これには約15分のエージングが続き、次いで第3段階で1分にわたって9.1から5.0へと低下させ、これには約15分のエージングが続いた。第2の実験において、pH調整の順序は、それぞれ第1段階で約9.5から9.1へ、第2段階で9.1から8.6へ、そして第3段階で8.6から5.4への順序であった。
SiOの沈殿後、顔料を、Alで処理し、次いで洗浄し、ろ過し、TMPとブレンドし、乾燥、蒸気微粉化が続き、そして実施例2と正確に同じ様式で、40%PVC試験に調製した。
以下の表3において、塩化物プロセス由来の粉砕されないベースを使用して製造された仕上げ製品は、湿式粉砕されたベースを使用するものよりわずかに優れた質のSiO被覆および光沢可能性を生じたことを示す。
Figure 0005208342
(実施例5)
実施例2と同じスラリー濃度および温度の、同じ二酸化チタンベースを使用した。湿式処理を、マルチタンク連続フローシステムを使用して実施し、ここで、SiO処理は4つのタンクを使用し、一方でAl処理は1つのタンクを使用した。流速を正確に制御して、各処理タンク内のスラリーに対して、約15分間の滞留時間を与えた。
1つの実験において、初期スラリーpHを、第1のタンクにNaOHを添加して、7.1に調整した。約3.5%のSiOを第2のタンクに添加した後に、引き続く3つの連続したタンクにHClを同時に添加して、それぞれ9.5、9.2、および6.1のスラリーpHを与えた。SiOの添加後に、スラリー粘度が顕著に増加した。このことは、スラリーの一定の混合を維持するために必要とされる撹拌器のr.p.m.が増加したことによって、明示された。
次のタンクに流入する場合に、約2.7%のAlを添加し、同時にHClを添加して、pHを6.2に維持した。最後のタンクにおいて、HClを添加して、スラリーpHを6.7に調整し、次いで、洗浄および濾過のために排出した。
得られた顔料をTMPとブレンドし、続いて乾燥し、水蒸気により微粉化し、そして実施例2と全く同じ様式で、40%PVC試験のために調製した。
別の実験において、初期スラリーpHは、第1のタンクにNaOHを添加せずに、約2.3であった。後に、約4.0%のSiOを第2のタンクに添加し、HClを3つの連続したタンクに同時に添加して、それぞれ9.5、9.2、および6.1のスラリーpHを与えた。このスラリーを、湿式処理全体にわたって一貫して低い粘度に維持し、そして撹拌器に対して、r.p.m.の調節を必要としなかった。
同様に、次のタンクに流入する場合に、約3.3%のAlを添加し、HClを同時に添加して、pHを6.5に維持した。最後のタンクにおいて、HClを添加して、スラリーpHを6.2に調整し、次いで洗浄および濾過のために排出した。再度、得られた顔料をTMPとブレンドし、続いて乾燥し、水蒸気によって微粉化し、そして実施例2においてと全く同じ様式で、40%PVC試験のために調製した。
表4において、ケイ酸ナトリウムをベース顔料に直接添加することにより(初期pH調整なしで)、有意に低いスラリー粘度が与えられ、従って、プロセス設備による流れの取り扱いに対して顕著な利点が与えられることが示される。このプロセスから得られた仕上げ製品(PP01〜06)は、初期pHを7.1に調整したスラリー(PP01〜05)と比較して、SiO被覆および光沢の潜在力の品質の観点で等しいことが示された。
Figure 0005208342
(実施例6)
(二酸化チタン顔料生成)
約0.1〜約0.5μmの範囲の粒子サイズを有する二酸化チタンベースを用いる。好ましくは、塩基(ベース)の約20%未満が0.5μm粒子サイズである。この物質を水と混合して、1ミリリットルあたり約1.3グラムの比重(密度)を有するスラリーを生成する。意図される連続プロセスを、好ましくは3つのシリカ処理タンク、および少なくとも1つのアルミナ処理タンクを用いてシミュレートする。各処理タンクにおいてスラリー流速は変化する。好ましくは、このスラリー流速は、約60℃〜約75℃の温度範囲にわたって1分あたり約130〜約150ガロンである。各タンクにおける滞留時間は、少なくとも5分間、好ましくは約10分間〜約30分間である。ケイ酸ナトリウムをシリカ処理タンクに添加して、シリカ(SiO)を、TiOの重量に対して、好ましくは約2.7重量%〜約3.0重量%の重量で維持する。アルミナをアルミン酸ナトリウムとして添加して、アルミナの濃度を、TiOの重量に対して、約1重量%〜3重量%の重量で維持する。代表的に、HClおよびNaOHを利用して、処理プロセス工程の間、pHレベルを制御する。好ましいpHプロフィールは、第一のシリカ処理について10.0±0.2pH単位、第二シリカ処理タンクについて9.4±0.2pH単位、そして第三シリカ処理タンクについて5.5である。酸化アルミニウムの添加は、約6.0±0.5pH単位で連続的に制御される。各プロセスの工程における処理時間は、少なくとも5分間、好ましくは約10〜30分間を目標とする。
TiOベースの粒子をシリカおよびアルミナで処理した後、得られた被覆(コーティング)された顔料を、ろ過し、洗浄し、そして乾燥する。好ましくは、この顔料を、二酸化チタン顔料の重量に対して約0.2%〜約0.4%のトリメチルプロパン(TMP)を用いて処理する。引き続き、この処理した顔料を流体エネルギーミル(fluid energy mill)中で微粉にして完成した色素を生成する。得られた処理および微粉化された顔料は、好ましくは約0.28μmの粒子サイズを有する。
(実施例7)
(20度40%PVCアクリルのグロス(光沢)試験方法)
Synocryl 9122X樹脂を用いて40%PVCアクリルペイント中に顔料を組み入れる。100ミクロンのドクターブレードを備える自動ドローダウン(draw down)デバイスを用いて、ガラスパネル上に調製したペイントをドローダウンする。このペイントパネルをゴミのない(ダストフリーの)キャビネット中で最低5時間乾燥させ、その後GlossgardII光沢度計からの20度グロス(光沢)値を読み取る。5回まで測定値を各パネルから記録し、そして平均結果を計算する。好ましくは、顔料サンプルは、約30〜約55の40%PVC 20度グロス(光沢)値を示す。
本発明をその特定の実施形態と組み合わせて記載してきたが、さらなる改変が可能であること、本出願は、概して、本発明の原理に従う、本発明の任意のバリエーション、使用、または適合を包含することが意図されること、そして本発明が属する当該分野で公知であるかまたは習慣的な実行内であるような、そして、本明細書中で前記され、そして添付の特許請求の範囲にあるような本質的特徴に適用され得るような、本開示からのこのような逸脱を含むこと、が理解される。

Claims (18)

  1. 二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスであって、以下の工程:
    )75℃以下の温度かつ2.0〜9.0のpHで、二酸化チタンベースの粒子の水性スラリーを調製する工程、
    b)前記水性スラリーの温度を75℃以下に維持しながら、前記水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程、および、
    c)前記二酸化チタン顔料を形成するように前記水性スラリーのpHを5.5〜7.5の範囲に、かつ前記水性スラリーの温度を75℃以下に維持しながらアルミナ化合物を添加する工程、
    を包含
    前記水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程は、
    (i)第1のシリカ沈殿容器中で、前記水性スラリーのpHを9.6〜9.8の範囲に維持しながら、シリカ化合物を添加する工程と、
    (ii)前記水性スラリーを第2のシリカ沈殿容器に移し、前記水性スラリーのpHを9.2〜9.5の範囲に維持する工程と、
    (iii)前記水性スラリーを第3のシリカ沈殿容器に移し、前記水性スラリーのpHを2.4〜6.6の範囲に維持する工程と、
    を含み、
    前記第2のシリカ沈殿容器における前記水性スラリーの滞留時間は、10〜20分間の範囲である、
    プロセス。
  2. 前記スラリーは、3.0〜8.0のpHで調製される、
    請求項1に記載のプロセス。
  3. 前記スラリーは、前記シリカ化合物およびアルミナ化合物の添加の間、60℃〜74℃の温度で維持される、
    請求項1に記載のプロセス。
  4. 前記スラリーは、前記シリカ化合物およびアルミナ化合物の添加の間、70℃の温度で維持される、
    請求項1に記載のプロセス。
  5. 前記スラリーは、前記シリカ化合物およびアルミナ化合物の添加の間、65℃の温度で維持される、
    請求項1に記載のプロセス。
  6. 前記シリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子は、15分未満の滞留時間を有する、
    請求項1に記載のプロセス。
  7. 前記アルミナ化合物は、7のpHで添加される、
    請求項1に記載のプロセス。
  8. 前記アルミナ化合物は、5.5〜6.5のpHで添加される、
    請求項1に記載のプロセス。
  9. 前記スラリーは、前記アルミナ化合物の添加後30分未満の滞留時間を有する、
    請求項1に記載のプロセス。
  10. 前記スラリーは、前記アルミナ化合物の添加後15分未満の滞留時間を有する、
    請求項1に記載のプロセス。
  11. 前記シリカ化合物は、珪酸ナトリウムである、
    請求項1に記載のプロセス。
  12. 前記アルミナ化合物は、アルミン酸ナトリウムである、
    請求項1に記載のプロセス。
  13. 前記二酸化チタンベースの粒子は、アナターゼまたはルチルである、
    請求項1に記載のプロセス。
  14. 前記二酸化チタンベースの粒子は、粉砕されないかまたは湿式粉砕される、
    請求項1に記載のプロセス。
  15. 前記プロセスは、さらに以下の工程:
    d)前記二酸化チタン顔料を濾過、洗浄、および乾燥する工程;ならびに、
    e)該二酸化チタン顔料を有機化合物で微粉化および処理する工程、
    を包含する、
    請求項1に記載のプロセス。
  16. 前記有機化合物は、ポリオールである、
    請求項15に記載のプロセス。
  17. 前記ポリオールは、トリメチロールプロパンである、
    請求項16に記載のプロセス。
  18. 前記トリメチロールプロパンは、前記二酸化チタン顔料の重量に基づいて0.2%〜0.8%の量で添加される、
    請求項17に記載のプロセス。

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