JP5199282B2 - ネガ型感光性樹脂積層体を用いたレジスト硬化物の製造方法、ネガ型感光性樹脂積層体、及びネガ型感光性樹脂積層体の使用方法 - Google Patents
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Description
フォトマスクの像を投影させた光を用いレンズを介して該ネガ型感光性樹脂層(B)を露光する露光工程と、
該ネガ型感光性樹脂層(B)の未露光部を現像除去することによって、該ネガ型感光性樹脂層(B)の硬化部からなるレジスト硬化物を形成する現像工程と
を含み、
該ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が25%以上50%以下である、レジスト硬化物の製造方法。
該基板(C)から該レジスト硬化物を除去する工程と
を含む、プリント配線板の製造方法。
少なくとも支持体(A)とi線単色露光用のネガ型感光性樹脂層(B)とを有し、
該ネガ型感光性樹脂層(B)が、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5,000〜500,000の間のバインダー用樹脂20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和化合物3〜70質量%、及び(c)光重合開始剤0.1〜20質量%を含有するi線単色露光用のネガ型感光性樹脂組成物から成り、かつ、
該ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が25%以上50%以下である、ネガ型感光性樹脂積層体。
フォトマスクの像を投影させた光を用いレンズを介して該ネガ型感光性樹脂層(B)を露光する露光工程と、
該ネガ型感光性樹脂層(B)の未露光部を現像除去することによって、該ネガ型感光性樹脂層(B)の硬化部からなるレジスト硬化物を形成する現像工程と
を含み、
該ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が25%以上50%以下である、レジスト硬化物の製造方法が提供される。
少なくとも支持体(A)とi線単色露光用のネガ型感光性樹脂層(B)とを有し、
該ネガ型感光性樹脂層(B)が、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5,000〜500,000の間のバインダー用樹脂20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和化合物3〜70質量%、及び(c)光重合開始剤0.1〜20質量%を含有するi線単色露光用のネガ型感光性樹脂組成物から成り、かつ、
該ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が25%以上50%以下である、ネガ型感光性樹脂積層体が提供される。
上記したネガ型感光性樹脂積層体を用いたプリント配線板の製造方法について、以下にさらに説明する。本発明は、上述した製造方法によって得られたレジスト硬化物が形成するレジストパターンを有する基板(C)をエッチングするか又はめっきする工程と、基板(C)からレジスト硬化物を除去する工程とを含む、プリント配線板の製造方法を提供する。本発明に係るプリント配線板の製造方法においては、基板(C)として特に金属板を用い、前述のレジスト硬化物の製造方法における現像工程により露出した金属面に、既知のエッチング法、又はめっき法のいずれかの方法によって金属の画像パターンを形成する。その後、一般的に現像で用いるアルカリ水溶液よりもさらに強いアルカリ性の水溶液により、硬化したレジストパターンを剥離除去する。剥離用のアルカリ水溶液は、特に制限はないが、1〜5質量%の水酸化ナトリウムや水酸化カリウムの水溶液が一般的に用いられる。
<ネガ型感光性樹脂組成物>
実施例及び比較例において用いたネガ型感光性樹脂組成物の組成を以下の表1及び2に示す。
<記号説明>
P−1:メタクリル酸30質量%、スチレン20質量%、ベンジルメタクリレート50質量%の3元共重合体のメチルエチルケトン溶液(固形分濃度40質量%、重量平均分子量55,000、酸当量287、ガラス転移温度102℃)
P−2:ベンジルメタクリレート80質量%、メタクリル酸20質量%の2元共重合体のメチルエチルケトン溶液(固形分濃度50質量%、重量平均分子量25,000、酸当量430、ガラス転移温度78℃)
M−2:ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの7:3(モル比)混合物
M−3:ビスフェノールAの両端に、それぞれ、平均5モルのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート(新中村化学工業(株)製NKエスエルBPE−500)
M−4:テトラエチレングリコールジメタクリレート
M−5:トリメチロールプロパントリアクリレート
A−2:4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
B−2:ロイコクリスタルバイオレット
次に、ネガ型感光性樹脂層(B)を支持体(A)上に形成する方法について説明する。
上記で得たネガ型感光性樹脂積層体に、マスクフィルムを通して、プロジェクション露光機((株)ウシオ電機製UX2003 SM−MS04、i線バンドパスフィルタ使用)により180mJ/cm2でi線単色光を照射してネガ型感光性樹脂層(B)をi線単色光で露光した。次いで、30℃の1質量%炭酸ナトリウム水溶液を約40秒間スプレーし、未露光部を溶解除去することによって現像した。その後、残存したネガ型感光性樹脂層(B)の硬化部(露光部)を、イオン交換水を用いて約20秒間スプレー水洗して、本発明に係るレジスト硬化物を得た。なお、表1に示す実施例及び比較例については、上記炭酸ナトリウム水溶液のスプレー前に、そして表2に示す実施例及び比較例については、上記露光の前に、それぞれポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離した。
(1)解像度 上記露光において、ラインとスペースが1:1であるマスクフィルムを用いて露光し、現像した。得られた硬化パターンが分離し得る最小線幅を解像度とした。
(2)密着性 上記露光において、ラインとスペースがLμm:200μm(Lμmはライン幅を表す)であるマスクフィルムを用いて露光し、現像した。得られた硬化パターンが密着し得る最小線幅を密着性とした。
(3)レジスト形状 上記露光において、ライン幅12μmであるマスクフィルムを用いた。電子顕微鏡((株)トプコン社製Sm−500)を用いて、加速電圧15kV、倍率1,000倍、チルト角60度にてレジスト形状を確認した。レジストトップとレジストボトムとにおける硬化パターン線幅の差が1μm未満であれば◎、1μm以上2μm未満であれば○、そして2μm以上であれば×とした。
ネガ型感光性樹脂組成物の成分及び評価結果を表1及び2に示す。波長365nmにおける光線透過率が本発明の範囲に入っている実施例1A〜8A及び実施例1B〜7Bにおいては、光線透過率が本発明の範囲外である比較例1A〜4A及び比較例1B〜4Bにおけるよりも、解像度、密着性及びレジスト形状を含む評価基準において、総合的に優れていることが確認された。
Claims (28)
- 少なくとも支持体(A)とネガ型感光性樹脂層(B)と基板(C)とが積層されてなるネガ型感光性樹脂積層体を形成する積層体形成工程と、
フォトマスクの像を投影させた光を用いレンズを介して前記ネガ型感光性樹脂層(B)を露光する露光工程と、
前記ネガ型感光性樹脂層(B)の未露光部を現像除去することによって、前記ネガ型感光性樹脂層(B)の硬化部からなるレジスト硬化物を形成する現像工程と
を含み、
前記ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が25%以上50%以下である、レジスト硬化物の製造方法。 - 前記光がi線単色光である、請求項1に記載のレジスト硬化物の製造方法。
- 前記積層体形成工程と前記露光工程との間に、前記ネガ型感光性樹脂層(B)から前記支持体(A)を剥離する支持体剥離工程をさらに含む、請求項1又は2に記載のレジスト硬化物の製造方法。
- 前記ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が35%以上45%以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のレジスト硬化物の製造方法。
- 前記ネガ型感光性樹脂層(B)が、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5,000〜500,000の間のバインダー用樹脂20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和化合物3〜70質量%、及び(c)光重合開始剤0.1〜20質量%を含有するネガ型感光性樹脂組成物から成る、請求項1〜4のいずれか1項に記載のレジスト硬化物の製造方法。
- 前記(c)光重合開始剤としてベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する、請求項5に記載の製造方法。
- 前記(c)光重合開始剤として2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体を含有する、請求項5又は6に記載の製造方法。
- 前記(c)光重合開始剤として、ベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種の化合物と、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体との両者を含有する、請求項5〜7のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記(b)光重合可能な不飽和化合物が、下記一般式(I):
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法によって得られたレジスト硬化物が形成するレジストパターン
を有する前記基板(C)を、エッチングするか又はめっきする工程と、
前記基板(C)から前記レジスト硬化物を除去する工程と
を含む、プリント配線板の製造方法。 - フォトマスクの像を投影させたi線単色光を用いレンズを介してネガ型感光性樹脂層を露光することによってレジスト硬化物を形成するために用いるネガ型感光性樹脂積層体であって、
少なくとも支持体(A)とi線単色露光用のネガ型感光性樹脂層(B)とを有し、
前記ネガ型感光性樹脂層(B)が、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5,000〜500,000の間のバインダー用樹脂20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和化合物3〜70質量%、及び(c)光重合開始剤0.1〜20質量%を含有するi線単色露光用のネガ型感光性樹脂組成物から成り、かつ、
前記ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が25%以上50%以下である、ネガ型感光性樹脂積層体。 - 前記ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が35%以上45%以下である、請求項11に記載のネガ型感光性樹脂積層体。
- 前記(a)バインダー用樹脂のガラス転移温度が100℃以上である、請求項11又は12に記載のネガ型感光性樹脂積層体。
- 前記(a)バインダー用樹脂の重量平均分子量が10,000〜40,000の間である、請求項11〜13のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂積層体。
- 前記(c)光重合開始剤としてベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する、請求項11〜14のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂積層体。
- 前記(c)光重合開始剤として2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体を含有する、請求項11〜15のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂積層体。
- 前記(c)光重合開始剤として、ベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種の化合物と、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体との両者を含有する、請求項11〜16のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂積層体。
- 前記(b)光重合可能な不飽和化合物が、下記一般式(I)
- 前記ネガ型感光性樹脂層(B)上にさらに保護層を有する、請求項11〜18のいずれか1項に記載のネガ型感光性樹脂積層体。
- フォトマスクの像を投影させたi線単色光を用いレンズを介してネガ型感光性樹脂層を露光することによってレジスト硬化物を形成するに際し、少なくとも支持体(A)とi線単色露光用のネガ型感光性樹脂層(B)とを有するネガ型感光性樹脂積層体であって、前記ネガ型感光性樹脂層(B)が、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5,000〜500,000の間のバインダー用樹脂20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和化合物3〜70質量%、及び(c)光重合開始剤0.1〜20質量%を含有するi線単色露光用のネガ型感光性樹脂組成物から成り、かつ、前記ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が25%以上50%以下であるネガ型感光性樹脂積層体を使用する、ネガ型感光性樹脂積層体の使用方法。
- 前記ネガ型感光性樹脂層(B)の波長365nmにおける光線透過率が35%以上45%以下である、請求項20に記載の使用方法。
- 前記(a)バインダー用樹脂のガラス転移温度が100℃以上である、請求項20又は21に記載の使用方法。
- 前記(a)バインダー用樹脂の重量平均分子量が10,000〜40,000の間である、請求項20〜22のいずれか1項に記載の使用方法。
- 前記(c)光重合開始剤としてベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する、請求項20〜23のいずれか1項に記載の使用方法。
- 前記(c)光重合開始剤として2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体を含有する、請求項20〜24のいずれか1項に記載の使用方法。
- 前記(c)光重合開始剤として、ベンゾフェノン及びベンゾフェノン誘導体から成る群より選ばれる少なくとも1種の化合物と、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体との両者を含有する、請求項20〜25のいずれか1項に記載の使用方法。
- 前記(b)光重合可能な不飽和化合物が、下記一般式(I)
- 前記ネガ型感光性樹脂層(B)上にさらに保護層を有する、請求項20〜27のいずれか1項に記載の使用方法。
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