JP6854751B2 - パターン形成方法およびこれを用いて製造した電子デバイス - Google Patents
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Description
前記組成物として、現像液に対する溶解性の互いに異なる複数の組成物を用い、得られるパターンが多層構造を有し、
前記工程(1)が、支持体に、アルカリ溶解性組成物、アルカリ現像性感光性組成物または有機溶媒現像性感光性組成物からなる下層を塗布し、続いて水現像性感光性組成物からなる上層を塗布する工程であり、前記工程(3)が、前記上層を現像してパターンを得る現像工程と、続いて前記下層を現像してパターンを得る現像工程と、であることを特徴とするものである。
本発明のパターン形成方法は、支持体に、組成物を用いて膜を形成する工程(1)と、得られた膜の所定部分に活性エネルギー線を照射して所定部分の現像性を変化させる露光工程(2)と、膜を現像してパターンを得る現像工程(3)と、を含む。本発明のパターンの形成方法においては、組成物として、現像液に対する溶解性の互いに異なる複数の組成物を用い、得られるパターンが多層構造を有する。
を用いることができる。
アデカアークルズWR−301(ADEKA社製アルカリ現像性バインダー樹脂)5.1部、カヤラッドDPHA(日本化薬社製ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)1.1部、NCI−831(ADEKA社製ラジカル重合開始剤)1.0部、MA100(三菱化学社製カーボンブラック)3.5部、KBM403(信越化学工業社製アルコキシシランカップリング剤)0.3部およびPGMEA89部を混合し、アルカリ現像性感光性組成物No.1を得た。
スチルバゾリウム化ポリビニルアルコール5部およびイオン交換水95部を加熱混合し、水現像性感光性組成物No.2を得た。
スチルバゾリウム化ポリビニルアルコール4.8部、WATER BLACK R−510(オリヱント化学工業社製ニグロシン系染料)0.2部およびイオン交換水95部を加熱混合し、水現像性感光性組成物No.3を得た。
ポリ(p−ヒドロキシスチレン)の30モル%がt−ブトキシカルボニル基で置換された構造を有する樹脂(Mw=12000)49.8部、トリフェニルスルフォニウム ノナフルオロブタン−1−スルホネート 0.1部、トリフルオロメタンスルホン酸=1,3−ジオキソ−1H,3H−ベンゾ[d,e]イソキノリン−2−イルエステル(ナフタルイミドスルホネート化合物)0.1部およびPGMEA50部をアルカリ現像性感光性組成物No.4を得た。
SPC−1000(昭和電工社製アルカリ現像性バインダー樹脂)12部、M−402(東亞合成社製ラジカル重合性化合物)5.5部、イルガキュアOXE−02(BASF製ラジカル重合開始剤)1.5部、C.I.ピグメントグリーン58分散液28部、C.I.ピグメントイエロー150分散液20部、2−メルカプトベンゾチアゾール1.5部、メガファックF−554(DIC製界面活性剤)0.05部を混合し、固形分が20%となるようPGMEAを加えてアルカリ現像性感光性組成物No.5を得た。
ノボラック樹脂5部、o−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル8部、メキサメトキシテトラミン2部、乳酸エチル50部、N,N’−ジメチルホルムアミド25部、C.I.ソルベントブルー25の4部C.I.ソルベントイエロー82の2部、C.Iソルベントイエロー162の2部を混合し、アルカリ現像性感光性組成物No.6を得た。
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート80部、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル18部、アデカオプトマーSP−171(ADEKA製光カチオン重合開始剤)2部を混合し、溶媒現像性感光性組成物No.7を得た。
UA−306Hペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ウレタンプレポリマー(共栄社化学製バインダー樹脂)20部、カヤラッドDPCA−60(日本化薬製ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性アクリレート)80部、イルガキュア184(BASF製光ラジカル重合開始剤)5部を混合し、溶媒現像性感光性組成物No.8を得た。
ノボラック樹脂5部、o−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル8部および乳酸エチル50部を混合し、アルカリ現像性感光性組成物No.9を得た。
クラレポバールPVA203(クラレ製水溶性重合体)5部およびイオン交換水95部を加熱混合し、水溶解性組成物No.10を得た。
クラレポバールPVA103(クラレ製水溶性重合体)5部およびイオン交換水95部を加熱混合し、水溶解性組成物No.11を得た。
ニチゴーGポリマーOKS−1083(日本合成化学工業製ブテンジオールビニルアルコールコポリマー)10部およびイオン交換水95部を加熱混合し、水溶解性組成物No.12を得た。
ゴーセネックスZ−200(日本合成化学工業製アセチルアセトン構造を有するPVA)10部およびイオン交換水90部を加熱混合し、水溶解性組成物No.13を得た。
ゴーセネックスZ−200を9部、BONJET BLACK CW−1(オリヱント化学工業製自己分散型カーボンブラック、20%水溶液)5部およびイオン交換水86部を加熱混合し、水溶解性組成物No.14を得た。
スミペックスLG(住友化学社製アクリル系バインダー樹脂)10部および2−ブタノン90部を混合し、有機溶媒溶解性組成物No.15を得た。
スミペックスLG9.5部、エチル−2−シアノ−3−(4−ジエチルアミノ)フェニル)アクリレート0.5部、2−ブタノン18部およびシクロヘキサノン72部を混合し、有機溶媒溶解性組成物No.16を得た。
K−90(日本触媒社製ポリビニルピロリドン)5部およびイオン交換水95部を混合し、水溶解性組成物No.17を得た。
GE191−053(昭和電工社製ポリビニルアセトアミド)5部およびイオン交換水95部を混合し、水溶解性組成物No.18を得た。
ポリアクリルアミド(東京化成工業社製)5部およびイオン交換水95部を混合し、水溶解性組成物No.19を得た。
AQナイロンA−90(東レ社製水溶性重合体)5部およびイオン交換水95部を混合し、水溶解性組成物No.20を得た。
ゴーセネックスZ−300(日本合成化学工業製アセチルアセトン構造を有するPVA)10部およびイオン交換水90部を加熱混合し、水溶解性組成物No.21を得た。
上記水溶解性組成物No.21の900部、ペスレジンA−690(高松油脂製カルボキシル基含有ポリエステル、固形分20%)50部およびエポクロスWS−700(日本触媒性オキサゾリン化合物、固形分25%)4部を混合し、水溶解性組成物No.22を得た。
上記水溶解性組成物No.21の900部、ペスレジンA−690(高松油脂製カルボキシル基含有ポリエステル、固形分20%)50部、エポクロスWS−700(日本触媒性オキサゾリン化合物、固形分25%)4部およびオルガチックスZC−126(マツモトファインケミカル製塩化ジルコニル化合物、固形分30%)1部を混合し、水溶解性組成物No.23を得た。
上記水溶解性組成物No.21の900部、ペスレジンA−690(高松油脂製カルボキシル基含有ポリエステル、固形分20%)50部、エポクロスWS−700(日本触媒性オキサゾリン化合物、固形分25%)4部およびカルボジライトV−02−L2(日清紡ケミカル製カルボジイミド化合物、固形分40%)2.5部を混合し、水溶解性組成物No.24を得た。
上記水溶解性組成物No.21の900部、ペスレジンA−690(高松油脂製カルボキシル基含有ポリエステル、固形分20%)50部、エポクロスWS−700(日本触媒性オキサゾリン化合物、固形分25%)4部、カルボジライトV−02−L2(日清紡ケミカル製カルボジイミド化合物、固形分40%)2.5部およびオルガチックスZC−126(マツモトファインケミカル製塩化ジルコニル化合物、固形分30%)0.33部を混合し、水溶解性組成物No.25を得た。
ゴーセネックスT−330H(日本合成化学工業製カルボキシル基を有するPVA)10部およびイオン交換水90部を加熱混合し、水溶解性組成物No.26を得た。
上記水溶解性組成物No.21の630部、上記水溶性組成物No.26の270部、ペスレジンA−690(高松油脂製カルボキシル基含有ポリエステル、固形分20%)50部およびエポクロスWS−700(日本触媒性オキサゾリン化合物、固形分25%)4部を混合し、水溶解性組成物No.27を得た。
ゴーセネックスZ−200(日本合成化学工業製アセチルアセトン構造を有するPVA)10部およびイオン交換水90部を加熱混合し、水溶解性組成物No.28を得た。
上記水溶解性組成物No.28の900部、ペスレジンA−230(高松油脂製カルボキシル基含有ポリエステル、固形分30%)33部およびエポクロスWS−700(日本触媒性オキサゾリン化合物、固形分25%)4部を混合し、水溶解性組成物No.29を得た。
上記水溶解性組成物No.28の900部、ペスレジンA−230(高松油脂製カルボキシル基含有ポリエステル、固形分30%)33部、エポクロスWS−700(日本触媒性オキサゾリン化合物、固形分25%)4部およびオルガチックスZC−126(マツモトファインケミカル製塩化ジルコニル化合物、固形分30%)1部を混合し、水溶解性組成物No.30を得た。
[表1]〜[表6]に示す組み合わせで、ガラス基板または下層膜上にスピンコーターを用いて下層を塗布して乾燥し、上層を塗布した後100℃のホットプレートで10分間プリベークを行い膜を形成した。その後、室温まで冷却し、フォトマスク(LINE/SPACE=100μm/100μm)を介し、高圧水銀ランプを用い、各膜に365nmの波長を含む光を3200mJ/cm2照射した。続いて、[表7]に示す現像液を用い、23℃で上層、下層の順に現像を行った。現像後、基板を120℃のオーブン内で10分乾燥させてパターンを得た。
下層、上層の順に成膜した際の積層性について評価した。評価基準は以下のとおりである。
○:下層に乱れが無く上層が成膜出来たもの
△:白濁化や、一部混和が生じたもの
×:上層の組成を塗布した際、膜面乱れや下層の溶解等が生じ、積層膜を形成しなかったもの
現像、乾燥後のパターンをレーザー顕微鏡で確認した。評価基準は以下のとおりである。
○:パターンが100±5μm以内のもの
△:100±10μm以内のもの
×:100±10μm以上あるいはパターンが無くなっているもの
現像、乾燥後のパターンを23℃でN−メチルピロリドン(NMP)に5分間浸漬後、窒素ガスで上面の溶媒を除去した。試験前後の膜面の状態観察により評価を行なった。評価基準は以下のとおりである。
○:膜面変化無し
△:一部膨潤や溶解
×:全面が膨潤や溶解により変化
水溶解性組成物No.10にイオン交換水を加え、2質量%水溶液とした。得られた水溶液を用いて膜厚0.1μmの下層を作製した。続いて、アルカリ現像性感光性組成物No.1を用いて、膜厚10μmの上層を作製した。一方、水溶解性組成物No.10を用いて膜厚10μmの下層を作製し、その上層にアルカリ現像性感光性組成物No.1を用いて、膜厚10μmの上層を作製した。いずれの積層体についても、上層を現像液A、下層を現像液Bで現像することで、良好なパターン形状を得ることが出来た。
参考例81で得られたパターン、および溶媒現像性感光性組成物No.8を用いて得られたパターンについて、JIS K5600−5−6(付着性(クロスカット法))に準じて密着性を評価した。参考例81はハガレ等が無かった(分類0)であったが、溶媒現像性感光性組成物No.8を用いて得られたパターンは大部分が剥がれた(分類4)。
参考例81で得られたパターン、および溶媒現像性感光性組成物No.8を用いて得られたパターンについて、酸素透過率測定装置8001(ILLINOIS INSTRUMENTS,INC.製)を使用し、50cm2フォルダーで測定した。参考例81は<0.01cc/m2/day、溶媒現像性感光性組成物No.8は150cc/m2/dayであった。
2 第1層
3 第2層
Claims (9)
- 支持体に、組成物を用いて膜を形成する工程(1)と、前記膜の所定部分に活性エネルギー線を照射して所定部分の現像性を変化させる露光工程(2)と、前記膜を現像してパターンを得る現像工程(3)と、を含み、前記工程(1)〜(3)を複数回繰り返すパターン形成方法において、
前記組成物として、現像液に対する溶解性の互いに異なる複数の組成物を用い、得られるパターンが多層構造を有し、
前記工程(1)が、支持体に、アルカリ溶解性組成物、アルカリ現像性感光性組成物または有機溶媒現像性感光性組成物からなる下層を塗布し、続いて水現像性感光性組成物からなる上層を塗布する工程であり、前記工程(3)が、前記上層を現像してパターンを得る現像工程と、続いて前記下層を現像してパターンを得る現像工程と、であることを特徴とするパターン形成方法。 - 前記工程(1)および前記工程(2)の間、および/または、前記工程(3)の後に加熱工程を有する請求項1記載のパターン形成方法。
- 前記有機溶媒現像性感光性組成物が、ラジカル重合性化合物またはカチオン重合性化合物と、重合開始剤と、を含有する請求項1または2記載のパターン形成方法。
- 前記アルカリ現像性感光性組成物が、少なくともアルカリ現像性を有するバインダー樹脂、重合開始剤および溶媒を含有する請求項1〜3のうちいずれか一項記載のパターン形成方法。
- 前記水現像性感光性組成物が、感光性基を有する水溶性重合体および水を含有する請求項1〜4のうちいずれか一項記載のパターン形成方法。
- 前記活性エネルギー線のエネルギー量が、0.1〜500000mJ/cm2である請求項1〜5のうちいずれか一項記載のパターン形成方法。
- 得られるパターンの多層構造の膜厚を0.1〜1000μm、線幅を1〜1000μm、スペースを1〜1000μmとする請求項1〜6のうちいずれか一項記載のパターン形成方法。
- 前記上層と前記下層の膜厚の比を、0.1:99.9〜99.9:0.1とする請求項1〜7のうちいずれか一項記載のパターン形成方法。
- 請求項1〜8のうちいずれか一項記載のパターン形成方法を用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
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