JP5165203B2 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法 - Google Patents
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Description
実際の加工対象物7は、フラットディスプレイなどのアレイ基板(多層膜基板)などであるから、図6に示すように、パターン加工方向の転換、つまりレーザ照射順路を複数回変更する必要がある。このような場合、通気孔17に、加工対象物7のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を排気する機能に加え、レーザ光照射領域近傍に気体を導入する機能を付加し、また通気孔18に、加工対象物7のレーザ光照射領域近傍に気体を導入する機能に加え、加工対象物7のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を排気する機能を付加し、加工対象物7のパターン加工方向に応じて、通気孔17と通気孔18間における気体の導入及び排気の方向を切り替えられるようにする。一例として、通気孔17及び通気孔18を排気手段12及び気体導入手段13と各々接続するとともにその接続経路の途中に電磁弁等の開閉手段を設置し、開閉手段の開閉を制御することにより気体の導入及び排気を切り替えるなどの構成がある。
減圧チャンバー11(レーザ加工ヘッド)下側の通気孔17,18が形成された気体導入排気部11aに、レーザ光の光路と略平行な回転軸を持つ回転機構を設け、加工対象物7のパターン加工方向に応じて気体導入排気部11aを回転させ、加工対象物7のレーザ光照射領域近傍に対する通気孔17,18を流れる気体の導入及び排気の方向を切り替えることで、パターン加工方向の転換(図6参照)に対応できる構成とする。このような構成とすることにより、容易にかつ自動で気流方向を切り替えることができる。
図7は、本実施形態に係る減圧チャンバー11の下面図を示すものである。図7の例は、図3に示す吸気(気体導入)と排気の組合せをさらに90度方向に配置することでX方向、Y方向の2方向におけるパターニングでの切り替え時間を短縮することを可能としたものである。
Claims (6)
- レーザ光を利用して加工対象物に形成された多層膜上の透明導電膜のパターン加工を行うレーザ加工装置において、
前記加工対象物に照射されるレーザ光を透過する透過窓と、
当該レーザ加工ヘッドの底部に前記透過窓を透過したレーザ光を通す開口部と、
前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を外部へ排出する排気孔と、
前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍に気体を導入する第1通気孔と、
前記第1通気孔と対向する位置に設けられ前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を排出する第2通気孔と
を有するレーザ加工ヘッドを備え、
前記加工対象物のレーザ光照射領域より発生する加工飛散物を、前記レーザ加工ヘッドの底部に設けられた開口部と連通する前記排気孔及び前記第2通気孔より排気し、
前記レーザ加工ヘッドの開口部の径、及び前記加工対象物の前記多層膜表面と前記レーザ加工ヘッドの底部との距離を調節して、前記加工飛散物の前記加工対象物への堆積量を抑制する
レーザ加工装置。 - 前記加工対象物に第1のレーザ光を照射した後、前記加工対象物を載置するステージを前記レーザ加工ヘッドの前記第1通気孔から前記第2通気孔へ向かう気流と反対方向に所定距離移動させ、前記加工対象物に対し前記第1のレーザ光による第1照射領域と一部重なるように第2のレーザ光を照射する
請求項1に記載のレーザ加工装置。 - 前記第1通気孔は、前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍に気体を導入する機能に加え、前記レーザ光照射領域近傍の雰囲気を排出する機能を有し、
また前記第2通気孔は、前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を排出する機能に加え、前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍に気体を導入する機能を有し、
前記加工対象物のパターン加工方向に応じて、前記第1通気孔と前記第2通気孔間における気体の導入及び排気の方向を切り替える
請求項1に記載のレーザ加工装置。 - さらに前記レーザ加工ヘッドは、前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍に気体を導入又は前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を排出する、互いに対向してかつそれぞれ前記1通気孔及び第2通気孔と90度の位置に設置された第3通気孔及び第4通気孔を備え、
前記加工対象物のパターン加工方向に応じて、前記第1通気孔と前記第2通気孔からなる通気孔対、又は前記第3通気孔と前記第4通気孔からなる通気孔対のいずれを使用するか選択し切り替える
請求項1に記載のレーザ加工装置。 - 前記レーザ加工ヘッドの一部に、前記第1通気孔及び第2通気孔が形成され、かつ前記レーザ光の光路と略平行な回転軸を持つ回転機構を有し、
前記加工対象物のパターン加工方向に応じて前記回転機構を回転させ、前記加工対象物の前記レーザ光照射領域近傍に対する前記第1通気孔と前記第2通気孔と間における気体の導入及び排気の方向を切り替える
請求項1に記載のレーザ加工装置。 - レーザ光を利用して加工対象物に形成された多層膜上の透明導電膜のパターン加工を行うためのレーザ加工ヘッドによるレーザ加工方法において、
前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍に気体を導入する工程と、
前記加工対象物に前記レーザ加工ヘッドの透過窓を透過させて第1のレーザ光を照射する工程と、
前記加工対象物を載置するステージを前記導入された気体の流れと反対方向に所定距離移動させる工程と、
前記加工対象物のレーザ光照射領域近傍の雰囲気を、前記レーザ加工ヘッドの底部に設けられ、前記透過窓を透過したレーザ光を通す開口部と連通する孔より排出する工程と、
前記レーザ光照射領域近傍の雰囲気を排出中に、前記透過窓を透過させて前記加工対象物に対し前記第1のレーザ光による第1照射領域と一部重なるように第2のレーザ光を照射する工程とを有し、
前記レーザ加工ヘッドの開口部の径、及び前記加工対象物の前記多層膜表面と前記レーザ加工ヘッドの底部との距離を調節して、加工飛散物の前記加工対象物への堆積量を抑制する
レーザ加工方法。
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