JP5133098B2 - 4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法 - Google Patents

4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5133098B2
JP5133098B2 JP2008064975A JP2008064975A JP5133098B2 JP 5133098 B2 JP5133098 B2 JP 5133098B2 JP 2008064975 A JP2008064975 A JP 2008064975A JP 2008064975 A JP2008064975 A JP 2008064975A JP 5133098 B2 JP5133098 B2 JP 5133098B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ethylidenebis
temperature
nitric acid
nitrophenol
maintaining
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008064975A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009221118A (ja
Inventor
豊 井田
圭一 横田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Air Water Inc
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Air Water Inc
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Air Water Inc, Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Air Water Inc
Priority to JP2008064975A priority Critical patent/JP5133098B2/ja
Publication of JP2009221118A publication Critical patent/JP2009221118A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5133098B2 publication Critical patent/JP5133098B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

本発明は、4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造法に関する。更に詳しくは、高純度の4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)を製造する方法に関する。
ビスアミノフェノール類は耐熱性ポリマー等の原料として重要な化合物であり、対応するビスニトロフェノール化合物を還元することで得られる。
ビスニトロフェノール類の製造方法としては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(ビスフェノールAF)を原料として、クロロホルム溶媒中で硝酸によりニトロ化反応を行う方法(特許2534267)、酢酸溶媒中で硝酸によりニトロ化反応を行う方法(特開平01−301653)、硫酸水溶媒中で硫酸と硝酸より調製した混酸によりニトロ化反応を行う方法(特開平11−106365)等が知られている。
また、ビスニトロフェノール類を製造する他の方法として、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)を原料として、酢酸溶媒中で硝酸によりニトロ化反応を行う方法(特開平11−60545)、塩化メチレン溶媒中で硝酸によりニトロ化反応を行う方法(WO2004−90070)等が知られている。
しかしながら、従来公知のビスニトロフェノール類の製造方法には、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)を原料として反応した例はなく、実際に前記記載の溶媒で反応してみたところ、4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の収率及び品質は、著しく低いものであった。恐らく、4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)のニトロ化溶媒に対する溶解度が高い上に、2つの芳香環に挟まれたエチリデン基が反応性に富み、容易に分解しやすいためと思われる。
特許第2534267号 特開平01−301653号 特開平11−106365号 特開平11−60545号 WO2004−90070
本発明の目的は、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)を原料とした4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の、より簡便な操作でかつ安価な製造方法を提供することにある。
本発明は、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)を原料として、高純度の4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)を高い収率で得られる製造方法を提供するを提供するものである。
本発明者は、上記にあげた問題点を解決すべく鋭意研究を行った結果、4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)をハロゲン化炭化水素と芳香族炭化水素の混合溶媒中、硝酸でニトロ化することにより4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)が高収率、高純度で得られることを見出し、本発明に到達したものである。
即ち、本発明は、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)をハロゲン化炭化水素と芳香族炭化水素の混合溶媒中、硝酸でニトロ化することを特徴とする4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法を提供する。
本発明により、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)を原料として4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)をより簡便な操作でかつ安価に製造する方法が提供される。
本発明により、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)から、高純度の4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)を高い収率で製造する方法が提供される。
以下、本発明の製造方法を詳細に説明する。
本発明は、4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)をニトロ化して、4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)を製造する方法であって、溶媒にハロゲン化炭化水素と芳香族炭化水素を用いることを特徴とする4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法を提供するものである。
4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)は、一般式(I)で表される化合物(式中、R〜Rはメチル基、Xはエチリデン基を表す)であり。4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)は、一般式(II)で表される化合物(式中、R〜R、Xは前記と同様)である。
Figure 0005133098
Figure 0005133098
溶媒として使用する芳香族炭化水素はベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等があげられるが、トルエン、キシレンが好ましい。芳香族炭化水素の使用量は通常、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)に対して0.1〜50倍(重量比)であり、好ましくは0.5〜10倍である。
ハロゲン化炭化水素としては、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジブロモエタン等があげられるが、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンが好ましい。ハロゲン化炭化水素の使用量は通常、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)に対して0.1〜50倍(重量比)であり、好ましくは0.5〜10倍である。
使用するハロゲン化炭化水素と芳香族炭化水素の混合比は通常10:1〜1:10であり、好ましくは4:1〜1:4である。
ニトロ化剤として使用する硝酸は濃度が10〜100%(質量:以下特に断らない限り同じ)水溶液であり、市販の工業用硝酸をそのまままたは水で希釈して使用する。好ましい硝酸濃度は40〜80%である。硝酸の使用量は通常、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)1モルに対して1.8〜3モルであり、好ましくは1.9〜2.5モルである。
反応温度は通常、−10〜50℃であり、好ましくは0〜25℃である。
反応の操作方法としては、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)をハロゲン化炭化水素と芳香族炭化水素の混合溶媒中に分散させたまま撹拌し、所定の温度にしてから所定量の硝酸水溶液を滴下して加える。硝酸添加後、反応混合物を所定の温度で原料がほぼなくなるまで撹拌する。必要ならば、所定の温度でさらに硝酸を添加する。反応終了後、反応混合物をろ過する。ろ過ケーキを水で洗浄後、乾燥することで目的物を得る。
次に実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明がこれらの具体例にのみ限定されるものではない。
尚、分析は高速液体クロマトグラフィを用いて行い、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の定量は絶対検量線法により実施した。
(実施例1)
温度計、ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)5g(0.019モル)、トルエン5g、塩化メチレン5gを加えて撹拌し、0〜5℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸3.9g(理論モル比:2.0)を10分かけて滴下した。温度を保持しながら1時間撹拌後、さらに61%硝酸1.0g(理論モル比:0.5)を滴下し、温度を保持しながら1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温した。さらに1時間撹拌後にろ過し、トルエン5g、さらに水5gで洗浄してウェットケーキ4.4gを得た。真空乾燥機で乾燥し、乾燥品3.7gを黄色結晶として得た。収率は、50.7モル%であり、HPLC純度は、83.3重量%であった。
(実施例2)
温度計、ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)5g(0.019モル)、トルエン5g、塩化メチレン5gを加えて撹拌し、0〜5℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸3.9g(理論モル比:2.0)を1時間かけて滴下した。温度を保持しながら1時間撹拌後、さらに61%硝酸1.0g(理論モル比:0.5)を滴下し、温度を保持しながら1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温した。さらに1時間撹拌後にろ過し、トルエン5g、さらに水5gで洗浄してウェットケーキ4.4gを得た。真空乾燥機で乾燥し、乾燥品3.8gを黄色結晶として得た。収率は、56.2モル%であり、HPLC純度は、97.2重量%であった。
(実施例3)
ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)10g(0.037モル)、トルエン10g、塩化メチレン10gを加えて撹拌し、0〜5℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸7.6g(理論モル比:2.0)を2時間かけて滴下した。温度を保持しながら1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温した。さらに61%硝酸0.76g(理論モル比:0.2)を滴下し、温度を保持しながら1時間撹拌後にろ過し、トルエン10g、さらに水10gで洗浄してウェットケーキ9.7gを得た。真空乾燥機で乾燥し、乾燥品8.1gを黄色結晶として得た。収率は59.6モル%であり、HPLC純度は、97.3重量%であった。
(実施例4)
温度計、ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた1L四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)100g(0.37モル)、トルエン100g、塩化メチレン100gを加えて撹拌し、0〜5℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸76.4g(理論モル比:2.0)を4時間かけて滴下した。温度を保持しながら1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温した。さらに61%硝酸1.9g(理論モル比:0.05)を滴下し、温度を保持しながら1時間撹拌後にろ過し、トルエン100g、さらに水100gで洗浄してウェットケーキ92.1gを得た。真空乾燥機で乾燥し、乾燥品75.6gを橙色結晶として得た。収率は、55.4モル%であり、HPLC純度で95.7重量%であった。
(実施例5)
温度計、ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)10g(0.037モル)、キシレン10g、塩化メチレン10gを加えて撹拌し、0〜5℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸8.0g(理論モル比:2.1)を1時間かけて滴下した。温度を保持しながら1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温した。さらに61%硝酸1.4g(理論モル比:0.4)を滴下し、温度を保持しながら1時間撹拌後にろ過し、キシレン10g、さらに水10gで洗浄してウェットケーキ9.0gを得た。真空乾燥機で乾燥し、乾燥品7.6gを橙色結晶として得た。収率は、53.6モル%であり、HPLC純度は、94.8重量%であった。
(比較例1)
温度計、ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)5g(0.019モル)、酢酸10gを加えて撹拌し、5〜10℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸3.9g(理論モル比:2.0)を10分かけて滴下した。温度を保持したまま1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温したが、反応液中に結晶析出はなく、水を添加しても粘性物が得られるだけであった。
(比較例2)
温度計、ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)5g(0.019モル)、トルエン10gを加えて撹拌し、0〜5℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸3.9g(理論モル比:2.0)を10分かけて滴下した。温度を保持したまま1時間撹拌後、さらに61%硝酸1.0g(理論モル比:0.5)を滴下した。温度を保持したまま1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温した。さらに61%硝酸1.0g(理論モル比:0.5)を滴下し、温度を保持したまま1時間撹拌後にろ過し、水5gで洗浄してウェットケーキ1.7gを得た。収率は、11.6モル%であり、HPLC純度は、62.9重量%であった。
(比較例3)
温度計、ジムロート冷却器及び攪拌機を備えた100mL四つ口フラスコに、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)5g(0.019モル)、塩化メチレン10gを加えて撹拌し、0〜5℃に冷却後、温度を保持しながら61%硝酸3.9g(理論モル比:2.0)を10分かけて滴下した。温度を保持したまま1時間撹拌後、さらに61%硝酸0.8g(理論モル比:0.4)を滴下した。温度を保持したまま1時間撹拌後、室温まで徐々に昇温した。温度を保持したまま1時間撹拌後にろ過し、水5gで洗浄してウェットケーキ2.2gを得た。真空乾燥機で乾燥し、乾燥品2.0gを黄色結晶として得た。収率は、27.6モル%であり、HPLC純度は、93.1重量%であった。
本発明により提供される製造方法は、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)を原料としてより簡便な操作でかつ安価に4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)を製造できる方法である。
本発明によって提供される製造方法によれば、4,4'−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)を原料として、高純度の4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)を高い収率で得ることができる。

Claims (1)

  1. 4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチルフェノール)をニトロ化して、4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)を製造する方法であって、溶媒にハロゲン化炭化水素と芳香族炭化水素の混合溶媒を用いることを特徴とする4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法。
JP2008064975A 2008-03-13 2008-03-13 4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法 Active JP5133098B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008064975A JP5133098B2 (ja) 2008-03-13 2008-03-13 4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008064975A JP5133098B2 (ja) 2008-03-13 2008-03-13 4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009221118A JP2009221118A (ja) 2009-10-01
JP5133098B2 true JP5133098B2 (ja) 2013-01-30

Family

ID=41238296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008064975A Active JP5133098B2 (ja) 2008-03-13 2008-03-13 4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5133098B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5243303B2 (ja) * 2009-02-27 2013-07-24 エア・ウォーター株式会社 ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)類の製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3624815A1 (de) * 1986-07-23 1988-01-28 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von 2.2-bis-(4-hydroxy-3-nitrophenyl)- hexafluorpropan
DE4033099A1 (de) * 1990-10-18 1992-04-23 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von 2,2-bis-(aminophenyl)-propan
JP2970089B2 (ja) * 1991-07-31 1999-11-02 住友化学工業株式会社 ニトロフェノール類の製造法
WO2001081293A1 (fr) * 2000-04-25 2001-11-01 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Procede de production d'un compose bis (4-hydroxy-3-nitrophenyl)
JP2002173470A (ja) * 2000-09-27 2002-06-21 Nippon Kayaku Co Ltd 9,9ービス(3−ニトロー4ーヒドロキシフェニル)フルオレンおよびその製造方法
JP2002265422A (ja) * 2001-03-13 2002-09-18 Nippon Kayaku Co Ltd 1,1ービス(4ーヒドロキシー3−ニトロフェニル)シクロアルカン類の製造方法
JP2002338528A (ja) * 2001-05-15 2002-11-27 Nippon Kayaku Co Ltd ビス−o−ニトロフェノール類の製造方法
JP4803777B2 (ja) * 2001-05-31 2011-10-26 日本化薬株式会社 9,9−ビス(3−アミノ−5−アルキル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレンおよびその製造方法
SG175668A1 (en) * 2006-10-24 2011-11-28 Sumitomo Bakelite Co Bis(aminophenol) derivative, process for producing the same, polyamide resin, positive photosensitive resin compositions, protective film, interlayer dielectric, semiconductor device, and display element

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009221118A (ja) 2009-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3380530A1 (en) An improved process for the preparation of sugammadex and its intermediates
CN104884427A (zh) 可用于合成苯甲酰胺化合物的化合物
ZA200505574B (en) Method for the production of benzophenones
JP5649971B2 (ja) 2‐ヒドロキシ‐5‐フェニルアルキルアミノ安息香酸誘導体及びその塩の製造方法
JP5133098B2 (ja) 4,4’−エチリデンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法
JP5133097B2 (ja) 4,4’−メチレンビス(2,5−ジメチル−6−ニトロフェノール)の製造方法
JP4913962B2 (ja) フェニルエチニルフタル酸無水物誘導体の製造方法
WO2014126008A1 (ja) 触媒、及び光学活性アンチ-1,2-ニトロアルカノール化合物の製造方法
JP5432605B2 (ja) エステル基を有する芳香族カルボン酸二無水物の製造方法
JP4801661B2 (ja) 5−アミノ−2,4,6−トリヨードイソフタル酸誘導体のアセチル化方法
JP5243303B2 (ja) ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)類の製造方法
KR20020089486A (ko) 비스(4-하이드록시-3-니트로페닐) 화합물의 제조방법
JP6057652B2 (ja) 3,3’−ジニトロ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテルの製造方法
JP3821350B2 (ja) アミノヒドロキシ芳香族カルボン酸及び/又はその誘導体の製造方法
JP5197439B2 (ja) ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)類の製造方法
JP5188475B2 (ja) 2−(3−ニトロベンジリデン)アセト酢酸イソプロピルの製造方法
JP4118645B2 (ja) カリックス[4]アレーン誘導体混合物の製造方法
JP2010222262A (ja) アルコキシn,n−ジアルキル酢酸アミドの製造方法、及びポリマー溶液
CN107033015B (zh) 一种药物中间体的合成方法
JP4493805B2 (ja) 高純度安息香酸誘導体の製造方法
JP4214692B2 (ja) モノニトロ化芳香族エーテル類の製造法
CN102276374A (zh) 一种硝基芳香碘代物的制备方法
JPH06345700A (ja) ハロゲノニトロフェノールの製造方法
JP2010184904A (ja) 酢酸化合物の製造方法
JP2023025324A (ja) パラジウム触媒の回収方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120709

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120807

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121003

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121106

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121107

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5133098

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250