JP5124500B2 - ガスセンサ用触媒粉末、その製造方法、それを用いたガスセンサ素子、及びそれを用いたガスセンサ - Google Patents
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 134
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 69
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 206
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 105
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 73
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 73
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 32
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 16
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 13
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 229910000923 precious metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 33
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 12
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 239000012494 Quartz wool Substances 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 4
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 4
- -1 oxygen ion Chemical class 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- 230000005068 transpiration Effects 0.000 description 3
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000929 Ru alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- GSNZLGXNWYUHMI-UHFFFAOYSA-N iridium(3+);trinitrate Chemical compound [Ir+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GSNZLGXNWYUHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
Images
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- Catalysts (AREA)
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また、排ガスを浄化するために配管内に取り付けてある触媒コンバータ(三元触媒)の昇温と同時に、エンジン内の空燃比(A/F)を所定の空燃比にいち早く制御し、触媒コンバータの浄化性能が得られる燃焼状態にもっていくことが必要であり、ガスセンサを早期に活性化して正常な出力を得ることがより重要となっている。
これらのガスセンサ素子は、酸素イオン伝導性の固体電解質体と、該固体電解質体の一方の面と他方の面とにそれぞれ設けた被測定ガス側電極及び基準ガス側電極と、上記被測定ガス側電極を覆うと共に被測定ガスを透過させる多孔質拡散抵抗層と、該多孔質拡散抵抗層の外側面において触媒貴金属を担持した触媒貴金属によって水素ガスを燃焼させることにより、水素ガスが被測定ガス側電極へと到達することを抑制できるものである。
そして、この問題に対し、初期の貴金属担持量を増やすことにより、耐久後の特性を維持している。しかしながら、この場合には、コストが高くなるという問題があった。
上記貴金属合金において、上記Rhの含有量は5質量%以上であり、
上記貴金属合金の平均粒径は0.2〜2.0μmであることを特徴とするガスセンサ用触媒粉末にある(請求項1)。
少なくとも、Pt、Pd、Rhを含有する貴金属合金をイリジウム溶液に含浸させ、該溶液を乾燥後、300℃以上で熱処理を行い、
上記貴金属合金において、上記Rhの含有量は5質量%以上であり、
上記貴金属合金は平均粒径が0.2〜2.0μmであることを特徴とするガスセンサ用触媒粉末の製造方法にある(請求項4)。
上記触媒貴金属は、第1の発明のガスセンサ用触媒粉末であることを特徴とするガスセンサ素子にある(請求項6)。
また、上記貴金属合金において、上記Rhの含有量を5質量%以上とすることにより、酸化雰囲気下において、上記Irを安定化させることができ、触媒粉末の耐熱性を向上させることができる。
そのため、得られる触媒粉末は、高温雰囲気において、上記貴金属合金による触媒性能を有することができ、かつ、上記貴金属合金が溶融・蒸散することを抑制することができる。そして、耐熱性が向上した分、ガスセンサにおける触媒の担持量を減らすことができ、コストダウンをすることができる。
そのため、本発明によれば、ガスセンサの出力ズレを防ぎ、ガスセンサの耐熱性を向上させることができ、ガスセンサにおける触媒の担持量を減らすことができるガスセンサ用触媒粉末を製造することができる。
なお、上記ガスセンサ素子は、上記触媒貴金属として、上記第1の発明のガスセンサ用触媒粉末を採用することに特徴を有している。そのため、ガスセンサ素子の構造については、公知の種々の構造を適用することができる。
なお、上記ガスセンサは、上記ガスセンサ素子として、上記第3の発明のガスセンサ素子を採用することに特徴を有している。そのため、ガスセンサの構造については、公知の種々の構造を適用することができる。
上記貴金属合金がPt、Pd、Rhのうち、いずれか1種でも含有していない場合には、上記触媒粉末を触媒担持トラップ相に嘆じさせたとしても、被測定ガスが、触媒担持トラップ層を通過する際に、被測定ガス中の水素ガスを十分に燃焼させることができない。そして、被測定ガス側電極に到達する水素ガスの量を減らすことができず、水素ガスに起因するガスセンサ素子の出力ズレを抑制することができないという問題がある。
Rhの含有量が5質量%未満である場合には、酸化雰囲気において、イリジウムを安定化させる効果を十分に得られず、触媒粉末の耐熱性が不十分になるおそれがある。
上記Irは、上述したように、貴金属合金の表面からの溶融・蒸散を抑制するものであるため、貴金属合金中に含む必要はなく、貴金属合金の表面に配置すれば、その効果を十分に発揮することができる。しかしながら、上記Irは、上記貴金属合金の表面全面を覆うように設けることは、上記貴金属合金による触媒性能の観点から好ましくない。つまり、上記貴金属合金の触媒性能が発揮されるように、ガスセンサ用触媒粉末の表面は、Irが分散し、ところどころPt、Rh、Pdが露出していることが好ましい。
また、上記Irを配置させる工程は、1回のみ行っても良いし、複数回繰り返して行っても良い。
貴金属合金の平均粒径が0.2μm未満の場合には、Irが蒸散した後に、貴金属合金の減少が速く進行するおそれがある。一方、貴金属合金の平均粒径が2.0μmを超える場合には、触媒性能が低下するおそれがある。
また、上記平均粒径は、任意の20個以上の貴金属合金粒子を電子顕微鏡(SEM)により100000〜2000の倍率で観察し、一個一個の粒子の直径を測定し平均する方法により求めることができる。
この場合には、触媒性能を特に良好に発揮することができる。
上記Rhの含有量が10質量%未満の場合には、耐熱性が低下するおそれがある。
上記Ptの含有量が50質量%を超える場合には、耐酸化性能が低下するおそれがある。
上記ガスセンサ用触媒粉末は、ガスセンサの出力ズレを防ぎ、ガスセンサの耐熱性を向上させることができ、ガスセンサにおける触媒の担持量を減らすことができる。そのため、上述したように、出力ズレが顕著となり易いA/Fセンサ素子には、特に効果的である。
上記Pt、Pd、Rhを含有する貴金属合金は、共沈法により得られる貴金属合金であることが好ましい。
上記共沈法とは、溶液中にイオンを入れ、pH調整をして、同時に合金粉にする方法であり、得られる合金粉は均一である。
上記イリジウム溶液に溶解させるイリジウム塩は、溶媒に溶解するものであれば、いずれのものを用いても良い。そして、上記イリジウム塩としては、例えば、塩化イリジウム、硝酸イリジウム等を用いることができる。そして、塩化イリジウムを用いることが好ましい。
また、上記イリジウム溶液の溶媒としては、例えば、エタノール、アセトン等の有機溶剤や、水を用いることができ、水を用いることが好ましい。
そして、上記イリジウム溶液は、0.005〜0.1mol%であることが好ましい(請求項5)。
この場合には、耐熱性の向上と触媒性能の保持を良好に両立することができる。
そして、上記熱処理温度が300℃未満である場合には、貴金属同士の凝集を抑制することができず、得られるガスセンサ用触媒粉末をガスセンサの触媒担持トラップ層に担持させた場合には、水素ガスがその他の燃焼ガスよりも早く多孔質拡散抵抗層を通過して結果的に出力ズレを引き起こすおそれがある。
Rhの含有量が5質量%未満である場合には、酸化雰囲気において、イリジウムを安定化させる効果を十分に得られず、触媒粉末の耐熱性が不十分になるおそれがある。
貴金属合金の平均粒径が0.2μm未満の場合には、Irが蒸散した後に、貴金属合金の減少が速く進行するおそれがある。一方、貴金属合金の平均粒径が2.0μmを超える場合には、触媒性能が低くなるおそれがある。
上記触媒担持トラップ層は、多数のアルミナ粒子からなるものである。
また、上記ガスセンサ用触媒粉末の担持量は、上記触媒担持トラップ層全体に対して10〜90質量%であることが好ましい。
また、上記触媒担持トラップ層は、10〜2000μmの厚みを有することが好ましい。
また、上記ガスセンサ素子は、幅3〜5mm、厚み1〜2.5mmであることが好ましい。
また、上記ガスセンサ素子は、被測定ガス中の酸素濃度に依存した限界電流を計測することにより空燃比を検出するA/Fセンサ素子であることが好ましい。
本例は、本発明の実施例にかかるガスセンサ用触媒粉末について、図1〜図4を用いて説明する。
本例では、本発明の実施例として、3種類のガスセンサ用触媒粉末(試料E1〜試料E3)を作製し、本発明の比較例として、1種類のガスセンサ用触媒粉末を(試料C1)を作製した。
以下、これを詳説する。
貴金属合金粉の作製は、共沈法により行った。具体的には、塩化白金酸、塩化パラジウム、塩化ロジウムを混合した溶液に反応試薬を加え貴金属合金粉を作製した。
そして、得られた貴金属合金粉は、上記Pdの含有量は45質量%であり、上記Rhの含有量は10質量%であり、上記Ptの含有量は45質量%であった。また、平均粒径が0.45μmであった。
なお、上記平均粒径は、任意の20個以上の貴金属合金粒子を電子顕微鏡(SEM)により100000〜2000の倍率で観察し、一個一個の粒子の直径を測定し平均する方法により測定した。
上記イリジウム溶液としては、濃度が0.01mol%(試料E1)、0.005mol%(試料E2)、0.002mol%(試料E3)である3種類のイリジウム溶液を用いた。
上記イリジウム溶液は、溶媒を水として、塩化イリジウムを溶解させたものである。
なお、試料C1は、Irを配置させていない貴金属合金である。
そして、試料E1〜試料E3について、上記触媒粉末に対するIrの付着量を測定した。
Irの付着量は、EPMA分析装置のX線強度比(Pt:Pd:Rh:Ir)で算出した。
表1には、試料E1〜試料E3について、用いたイリジウム溶液の濃度と、測定した付着量を示す。
耐久後の触媒特性を評価するに当たり、まず、ガスセンサ用触媒粉末に対し、耐久試験(1000℃、50h)を行った。
上記サンプル2は、耐久試験前のガスセンサ用触媒粉末、及び耐久試験後のガスセンサ用触媒粉末のそれぞれについて作製した。
評価ガス32としては、H2:5000ppm、O2:2.5%(10等量)、N2バランスのガスを用い、その流量は0.8L/minとした。
また、ガスセンサ用触媒粉末1の温度を熱電対34を用いて読み取った。
図3は、耐久試験前の触媒温度と水素浄化率の関係を示し、図4は、耐久試験後の触媒温度と水素浄化率の関係を示す。図3及び図4は、縦軸に水素浄化率(%)、横軸に触媒温度(℃)を取った。図3及び図4において、記号C1は、試料C1の結果を示し、記号E1〜E3は、試料E1〜試料E3の結果を示す。
また、図4より知られるように、触媒貴金属にイリジウムを含浸させた試料E1及び試料E2の耐久後の水素浄化活性(水素浄化率が50%になる温度T50)は、試料E1の水素浄化活性Aは68℃、試料E2の水素浄化活性Bは78℃であり、イリジウムを含浸しない試料C1の耐久後の水素浄化活性D(98℃)に比べ大幅に低下した。
触媒担持トラップ層45において、ガスセンサ用触媒粉末1の触媒特性により、水素ガスと酸素ガスとが反応して水となる。これにより、被測定ガス室420に多量の水素が導入されることを防ぐことができ、ガスセンサの出力ズレを防ぐことができる。
そのため、上記ガスセンサ素子4は、上記ガスセンサ用触媒粉末1の優れた特性により、上記触媒担持トラップ層45における触媒貴金属担持量を減らすことができ、上記触媒担持トラップ層45が耐熱性を有することができ、また、高温においても触媒特性を良好に発揮することができる。
つまり、上記ガスセンサ素子4は、少ない触媒担持量で、ガスセンサの出力ズレを防ぎ、ガスセンサの耐熱性を向上させることができる。
また、本発明のガスセンサ用触媒粉末1は、A/Fセンサに内蔵されているガスセンサ素子のみならず、種々のガスセンサの触媒特性が必要とされる部位に適用することができる。
本例のガスセンサ5は、ガスセンサ素子4と、該ガスセンサ素子4を内側に挿通して保持するハウジング51と、該ハウジング51に固定され、上記ガスセンサ素子4の先端部分を覆う素子カバー53とを有する。
なお、ここで、「先端側」とは、ガスセンサ5において、排気管などに挿入する側をいい、その反対側を「後端側」という。
そして、ガスセンサ5は、内燃機関の排気管にその先端側を挿入した状態で、ハウジング51において固定される。
Claims (7)
- 少なくとも、Pt、Pd、Rhを含有する貴金属合金の表面の一部を覆うようにIrが配置され、
上記貴金属合金において、上記Rhの含有量は5質量%以上であり、
上記貴金属合金の平均粒径は0.2〜2.0μmであることを特徴とするガスセンサ用触媒粉末。 - 請求項1において、上記貴金属合金において、上記Pdの含有量は40質量%以上であり、上記Rhの含有量は10質量%以上であり、上記Ptの含有量は50質量%以下であることを特徴とするガスセンサ用触媒粉末。
- 請求項1又は2において、上記ガスセンサ用触媒粉末は、被測定ガス中の酸素濃度に依存した限界電流を測定することにより空燃比を検出するA/Fセンサ素子に用いられることを特徴とするガスセンサ用触媒粉末。
- 少なくとも、Pt、Pd、Rhを含有する貴金属合金の表面の一部を覆うようにIrが配置されたガスセンサ用触媒粉末を製造する方法であって、
少なくとも、Pt、Pd、Rhを含有する貴金属合金をイリジウム溶液に含浸させ、該溶液を乾燥後、300℃以上で熱処理を行い、
上記貴金属合金において、上記Rhの含有量は5質量%以上であり、
上記貴金属合金は平均粒径が0.2〜2.0μmであることを特徴とするガスセンサ用触媒粉末の製造方法。 - 請求項4において、上記イリジウム溶液は、0.005〜0.1mol%であることを特徴とするガスセンサ用触媒粉末の製造方法。
- 酸素イオン伝導性の固体電解質体と、該固体電解質体の一方の面と他方の面とにそれぞれ設けた被測定ガス側電極及び基準ガス側電極と、上記被測定ガス側電極を覆うと共に上記被測定ガスを透過させる多孔質拡散抵抗層と、該多孔質拡散抵抗層の外側に形成され触媒貴金属を担持した触媒担持トラップ層とを有するガスセンサ素子であって、
上記触媒貴金属は、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスセンサ用触媒粉末であることを特徴とするガスセンサ素子。 - 請求項6に記載のガスセンサ素子と、該ガスセンサ素子を内側に挿通して保持するハウジングと、該ハウジングに固定され、上記ガスセンサ素子の先端部分を覆う素子カバーとを有することを特徴とするガスセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009024083A JP5124500B2 (ja) | 2009-02-04 | 2009-02-04 | ガスセンサ用触媒粉末、その製造方法、それを用いたガスセンサ素子、及びそれを用いたガスセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009024083A JP5124500B2 (ja) | 2009-02-04 | 2009-02-04 | ガスセンサ用触媒粉末、その製造方法、それを用いたガスセンサ素子、及びそれを用いたガスセンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010181241A JP2010181241A (ja) | 2010-08-19 |
JP5124500B2 true JP5124500B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=42762901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009024083A Expired - Fee Related JP5124500B2 (ja) | 2009-02-04 | 2009-02-04 | ガスセンサ用触媒粉末、その製造方法、それを用いたガスセンサ素子、及びそれを用いたガスセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5124500B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5278499B2 (ja) * | 2011-06-03 | 2013-09-04 | 株式会社デンソー | ガスセンサ素子及びそれを用いたガスセンサ |
JP6907687B2 (ja) | 2017-05-12 | 2021-07-21 | 株式会社デンソー | ガスセンサ |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6145962A (ja) * | 1984-08-09 | 1986-03-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 限界電流式酸素センサ |
JPS6179155A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Nissan Motor Co Ltd | 酸素センサ素子 |
JPS61241657A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-27 | Nissan Motor Co Ltd | 酸素センサ素子 |
JPS61243354A (ja) * | 1985-04-20 | 1986-10-29 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 酸素センサ− |
JPH07248308A (ja) * | 1994-03-11 | 1995-09-26 | Unisia Jecs Corp | 酸素濃度検出素子 |
JP3377016B2 (ja) * | 1996-01-26 | 2003-02-17 | 矢崎総業株式会社 | 排気ガス中の酸素濃度測定用限界電流式酸素センサ |
JP4056665B2 (ja) * | 1999-10-26 | 2008-03-05 | 日本特殊陶業株式会社 | 酸素センサの製造方法 |
JP2001188059A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 酸素センサ用電極の製造方法 |
DE10013882A1 (de) * | 2000-03-21 | 2001-10-04 | Bosch Gmbh Robert | Sensorelement mit Vorkatalyse |
JP2002174621A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 炭化水素ガス濃度測定装置及びこれを用いた炭化水素ガス濃度測定方法 |
JP4456839B2 (ja) * | 2003-09-18 | 2010-04-28 | 株式会社豊田中央研究所 | NOx検知用セル及びその製造方法並びに該セルを備えたNOx検出装置 |
JP4800853B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2011-10-26 | 株式会社デンソー | ガスセンサ素子 |
JP4923948B2 (ja) * | 2006-01-05 | 2012-04-25 | 株式会社デンソー | ガスセンサ素子 |
JP4872565B2 (ja) * | 2006-01-23 | 2012-02-08 | 株式会社デンソー | ガスセンサ素子 |
-
2009
- 2009-02-04 JP JP2009024083A patent/JP5124500B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010181241A (ja) | 2010-08-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110401 |
|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121029 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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