JP5094802B2 - 光学素子ウエハの製造方法 - Google Patents

光学素子ウエハの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5094802B2
JP5094802B2 JP2009199032A JP2009199032A JP5094802B2 JP 5094802 B2 JP5094802 B2 JP 5094802B2 JP 2009199032 A JP2009199032 A JP 2009199032A JP 2009199032 A JP2009199032 A JP 2009199032A JP 5094802 B2 JP5094802 B2 JP 5094802B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
replica
lens
wafer
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009199032A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010102312A (ja
Inventor
秀行 栗本
祐司 矢野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2009199032A priority Critical patent/JP5094802B2/ja
Priority to US12/585,769 priority patent/US20100079642A1/en
Priority to CN2009102044287A priority patent/CN101685169B/zh
Publication of JP2010102312A publication Critical patent/JP2010102312A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5094802B2 publication Critical patent/JP5094802B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/001Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras
    • G02B13/0085Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing wafer level optics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14618Containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14632Wafer-level processed structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14683Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14683Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
    • H01L27/14687Wafer level processing
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50Constructional details
    • H04N23/54Mounting of pick-up tubes, electronic image sensors, deviation or focusing coils
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/57Mechanical or electrical details of cameras or camera modules specially adapted for being embedded in other devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05541Structure
    • H01L2224/05548Bonding area integrally formed with a redistribution layer on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)

Description

本発明は、入射光を集光する複数の光学素子としての複数のレンズが設けられたレンズウエハや光学機能素子ウエハなどの光学素子ウエハおよびその製造方法に関する。本発明は、光学素子ウエハから一括切断されて個片化した光学素子および、光学素子ウエハを複数積層した光学素子ウエハモジュールから一括切断されて個片化した光学素子モジュールに関する。本発明は、光学素子または光学素子モジュールと、被写体からの画像光を光電変換して撮像する複数の撮像素子が設けられた撮像素子ウエハとが一体化されたセンサウエハモジュールなどの電子素子ウエハモジュールおよび、この電子素子ウエハモジュールから一括切断されて個片化されたり、この光学素子または光学素子モジュールを電子素子とモジュール化した電子素子モジュールに関する。本発明は、この電子素子モジュールとしてのセンサモジュールを画像入力デバイスとして撮像部に用いた例えばデジタルビデオカメラおよびデジタルスチルカメラなどのデジタルカメラや、画像入力カメラ、スキャナ装置、ファクシミリ装置、カメラ付き携帯電話装置、テレビジョン電話装置などの電子情報機器に関する。
この種の従来の光学素子ウエハとして、複数の凸レンズがマトリクス状に配置されたレンズウエハが、撮像素子ウエハの各撮像素子に対してそれぞれ集光させるために位置決めされてカメラモジュールとして貼り付けられて一体化されている。
この光学素子ウエハとしての凸レンズウエハの製造方法について、特許文献1に開示されている。
図9は、特許文献1に開示されている従来の凸レンズウエハの製造方法を説明するための模式図である。
図9において、従来の基準格子製造装置100では、平板状転写マスタ101の微細凹凸形状パターン102と、レプリカベース103の成形用平面104との間に光硬化性樹脂105を介在させ、微細凹凸形状パターン102を光硬化性樹脂105に押圧させた状態で、光硬化性樹脂105の下方から紫外線光源106により紫外線を照射して光硬化性樹脂105を硬化させる。これにより、光硬化性樹脂105の上面には、微細凹凸形状パターン102を転写した微細凹凸形状パターンが完成する。このように、従来の基準格子製造装置100を用いた微細凹凸形状パターン102の形成方法では、基準格子の大きさに拘わりなく、微細凹凸形状パターン102を高精度でかつ効率よく加工することが可能となる。
上記従来の凸レンズウエハの製造方法のプロセスの一例について、図10(a)〜図10(d)および図11(a)〜図11(c)を用いて詳細に説明する。
図10(a)〜図10(d)はそれぞれ、従来の凸レンズウエハを製造するための金型作製プロセスを説明するための要部縦断面図であり、図11(a)〜図11(c)はそれぞれ、従来の凸レンズウエハの製造プロセスを説明するための要部縦断面図である。
まず、図10(a)のレプリカ型成形工程に示すように、ガラス基板またはシリコン基板からなる基材201上の所定位置に樹脂材料202を吐出する。マスター金型203を用いて樹脂材料202を上から押圧する。これによって、マスター金型203の下面形状を樹脂材料202の上面に転写して樹脂レプリカ204を形成する。これを順次繰り返して、図9(b)に示すように、基材201上に複数の樹脂レプリカ204のレプリカ型を等間隔に形成する。
図10(c)に示すように、複数の樹脂レプリカ204のレプリカ型を用いて、基材201上の複数の樹脂レプリカ204のレプリカ型をウエハサイズの上金型のスタンパ型205に転写する。
図10(d)に示すように、基材201上の複数の樹脂レプリカ204のレプリカ型からウエハサイズのスタンパ型205を離型して、上金型のスタンパ型205を得る。これと同様にして、基材201上に形成した複数の樹脂レプリカ204のレプリカ型を、図11(a)に示す下金型のスタンパ型206に転写した後、これを離型して、下金型のスタンパ型206を得る。
図11(a)に示すように、下金型のスタンパ型206上の中央位置にレンズ用の成形樹脂207を適量だけ吐出し、これを上金型のスタンパ型205で上から押圧して、スタンパ型205,206で上下から成形樹脂207を挟み込んで、図11(b)に示すようにレンズウエハ208をプレス成形する。このとき、上下金型で所望のレンズ厚みとなるように制御して成形樹脂207を押し広げる。
さらに、この成形樹脂207を硬化させた後に、上下のスタンパ型205,206を開いて離型し、図11(c)に示すように、所望のレンズウエハ208を上下金型内から取り出す。このようにして、所望の形状のレンズウエハ208を得ることができる。
特開2006−64455号公報
しかしながら、上記特許文献1に開示されている従来の構成では、図12に示すように、樹脂レプリカ204の成形後のマスター金型203の離型時に、マスター金型203に樹脂レプリカ204がくっ付いて、樹脂レプリカ204と基材201との界面で剥離が発生する。また、アンカーコート材204aを基材201の表面に塗布した場合、樹脂レプリカ204とアンカーコート材204aとの密着力が上がるが、アンカーコート材204aと基材201の界面で剥離が発生したり、または樹脂レプリカ204自体に亀裂204bが発生したりする。
また、マスター金型203により樹脂レプリカ204を個別に作製する場合、基材201の表面とマスター金型203の表面の濡れ性や、成形時の圧力および樹脂材料202の粘度などの影響により、形成された樹脂レプリカ204の側面形状が垂直にならない場合がある。例えば図13(a)に示すように樹脂レプリカ204の側面の膨れ204c、樹脂レプリカ204の側面の凹み204dおよび樹脂レプリカ204の側面の逆テーパ204eにより、後のスタンパ型205の離型時に問題が発生する。つまり、スタンパ型205を作製した後に、スタンパ型205を樹脂レプリカ204から離型する際に、樹脂レプリカ204の側面にスタンパ型205が食い込んで、図13(b)および図13(c)に示すようにスタンパ型205と共に樹脂レプリカ204が持ち上がる離型不良や、無理に離型しようとすると、樹脂レプリカ204に亀裂が発生して、スタンパ型205内への樹脂残りが発生する。
さらに、図14(a)および図14(b)に示すように、樹脂レプリカ204のレプリカ作製時の樹脂厚みが厚いほど、隣り合う樹脂パターン間の樹脂部208aの厚みが薄くなるため、特に、大型の樹脂板であるレンズウエハ208を作る場合には強度に問題が発生する。また、図14(a)に示すように、スタンパ型205,206で上下から成形樹脂207を挟み込んで成形樹脂207を押し広げる際に、成形樹脂207内の空気や、スタンパ型205,206内の空気が狭い空間では抜け難く、樹脂板であるレンズウエハ208に気泡が残りやすくなる。その気泡がレンズウエハ208のレンズ機能部分に残ると、撮像素子への集光に支障が生じることになる。
本発明は、上記従来の問題を解決するもので、精度よく樹脂レプリカを形成して精度よく上下のスタンパ型を形成すると共に、大型のレンズウエハを作る場合にも、強度的な問題や気泡残りの問題を解消することができるレンズウエハなどの光学素子ウエハおよびその製造方法、光学素子ウエハから一括切断されて個片化した光学素子および、光学素子ウエハを複数積層した光学素子ウエハモジュールから一括切断されて個片化した光学素子モジュール、光学素子または光学素子モジュールと電子素子ウエハとが一体化された電子素子ウエハモジュール、この電子素子ウエハモジュールから一括切断されて個片化されたり、この光学素子または光学素子モジュールを電子素子モジュールとモジュール化した電子素子モジュール、この電子素子モジュールをセンサモジュールとして撮像部に用いた例えばカメラ付き携帯電話装置やテレビジョン電話装置などの電子情報機器を提供することを目的とする。
本発明の光学素子ウエハの製造方法は、複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウエハの製造方法において、基材に形成された複数の凹部内にレプリカを形成するレプリカ形成工程と、該基材の凹部内に埋め込まれたレプリカの表面側に形成された各光学素子形状を転写してスタンパ型を形成するスタンパ型形成工程と、該スタンパ型を用いて光学素子材料に光学素子形状を転写して光学素子ウエハを成形する光学素子ウエハ成形工程とを有し、該レプリカ形成工程は、該基材に形成された複数の凹部内にレプリカ材料を吐出する工程と、マスター型を用いて該レプリカ材料上を押圧して該マスター型の光学素子形状を該レプリカ材料の表面側に転写する光学素子形状転写工程とを有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
また、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法におけるレプリカ形成工程は、基材に形成された複数の凹部内に、表面用の光学素子形状が表面側に形成された上用レプリカを形成する上用レプリカ形成工程と、別の基材に形成された複数の凹部内に、裏面用の光学素子形状が表面側に形成された下用レプリカを形成する下用レプリカ形成工程とを有する。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法における光学素子ウエハ成形工程は、前記光学素子形状の外周側に所定厚さの平坦部が設けられ、互いに隣接する該光学素子形状間にある平坦部間が該光学素子形状と同じ材料からなる連接部で接続された前記光学素子ウエハを形成する
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法において、前記基材と前記レプリカの接触面積が、前記レプリカと前記マスター型の接触面積に比べて大きくなるように該基材の凹部の深さを設定する。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法において、前記基材と前記レプリカの接触面積が、該レプリカと前記スタンパ型の接触面積に比べて大きくなるように該基材の凹部の深さを設定する。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法におけるスタンパ型形成工程は、前記上用レプリカの各光学素子形状を転写して上用スタンパ型を形成する上用スタンパ型形成工程と、前記下用レプリカの各光学素子形状を転写して下用スタンパ型を形成する下用スタンパ型形成工程とを有する。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法における光学素子ウエハ成形工程は、前記上用スタンパ型と前記下用スタンパ型により前記光学素子材料を所定厚さにプレスする光学素子材料プレス工程と、該光学素子材料を光硬化または熱硬化させる光学素子材料硬化工程とを有する。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法における光学素子は、一または複数枚のレンズである。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハの製造方法における光学素子は、出射光を直進させて出射させると共に、入射光を曲げて所定方向に入射させる光学機能素子であ
る。
本発明の光学素子ウエハは、光学素子ウエハの製造方法によって製造されたものであり、そのことにより上記目的が達成される。
本発明の光学素子ウエハは、本発明の上記光学素子ウエハの製造方法によって製造され、複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウエハであって、ウエハ表面とウエハ裏面のうちの少なくともいずれかに複数の光学素子領域が設けられ、該光学素子領域の外周側に所定厚さを持つ平坦部が設けられ、互いに隣接する光学素子領域間の平坦部の厚さと、その平坦部間の連設部の厚さとが、倍半分から同等の厚さ範囲内にあり、そのことにより上記目的が達成される。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハにおいて、前記互いに隣接する光学素子領域間の平坦部の厚さは、その平坦部間の連設部の厚さの4/3または3/4から同等の厚さ範囲内にある。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハにおける光学素子は、一または複数枚のレンズである。
さらに、好ましくは、本発明の光学素子ウエハにおける光学素子は、出射光を直進させて出射させると共に、入射光を曲げて所定方向に入射させる光学機能素子である。
本発明の光学素子は、本発明の上記光学素子ウエハから切断されて個片化された光学素子であって、中央部に光学面が設けられ、該光学面の外周側に所定厚さを持つスペーサ部が設けられたものであり、そのことにより上記目的が達成される。
本発明の光学素子モジュールは、本発明の上記光学素子ウエハを光学面を一致させて複数積層した光学素子ウエハモジュールから切断されて個片化されたものであり、そのことにより上記目的が達成される。
本発明の光学素子モジュールは、好ましくは、前記最も上の光学面以外の上面および複数の光学素子の側面を遮光する遮光ホルダを有する。
本発明の光学素子モジュールは、本発明の上記光学素子の光学面以外の上面および側面を遮光する遮光ホルダを有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
本発明の電子素子ウエハモジュールは、貫通電極を有する複数の電子素子が配設された電子素子ウエハと、該電子素子ウエハ上の所定領域に形成された樹脂接着層と、該電子素子ウエハ上を覆い、該樹脂接着層上に固定された透明支持基板と、該複数の電子素子のそれぞれに各光学素子が対応するように該透明支持基板上に接着されて一体化された本発明の上記光学素子ウエハとを有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
また、好ましくは、本発明の電子素子ウエハモジュールにおける光学素子ウエハは、収差補正レンズ、拡散レンズおよび集光レンズの3枚のレンズからなり、それらのレンズの各外周側にそれぞれ設けられた所定厚さを持つ各平坦部を下からこの順に積層したレンズウエハモジュールである。
さらに、好ましくは、本発明の電子素子ウエハモジュールにおける電子素子は、被写体からの画像光を光電変換して撮像する複数の受光部を有する撮像素子である。
さらに、好ましくは、本発明の電子素子ウエハモジュールにおける電子素子は、出射光を発生させるための発光素子および入射光を受光するための受光素子である。
本発明の電子素子モジュールは、本発明の上記電子素子ウエハモジュールから一または複数個毎に切断されたものであり、そのことにより上記目的が達成される。
本発明の電子情報機器は、本発明の上記電子素子ウエハモジュールから切断されて個片化された電子素子モジュールをセンサモジュールとして撮像部に用いたものであり、そのことにより上記目的が達成される。
本発明の電子情報機器は、本発明の上記電子素子ウエハモジュールから切断されて個片化された電子素子モジュールを情報記録再生部にに用いたものであり、そのことにより上記目的が達成される。
上記構成により、以下、本発明の作用を説明する。
本発明においては、光学素子ウエハの製造方法として、基材に形成された複数の凹部内に、光学素子形状が表面側に形成されたレプリカを形成するレプリカ形成工程と、このレプリカの各光学素子形状を用いてスタンパ型を形成するスタンパ型形成工程と、このスタンパ型を用いて光学素子材料に光学素子形状を転写して光学素子ウエハを成形する光学素子ウエハ成形工程とを有している。これによって、本発明の光学素子ウエハは、ウエハ表面とウエハ裏面のうちの少なくともいずれかに複数の光学素子領域が設けられ、この光学素子領域の外周側に所定厚さを持つ平坦部が設けられている。互いに隣接する光学素子領域間の平坦部の厚さと、その平坦部間の連設部の厚さとが、倍半分から同等の厚さ範囲内にある。また、好ましくは、互いに隣接する光学素子領域間の平坦部の厚さは、その平坦部間の連設部の厚さの4/3または3/4から同等の厚さ範囲内にある。
したがって、レプリカの側面の一部または全部を、基材に掘り込まれた複数の凹部内にそれぞれ埋め込んでレプリカを形成する。このため、基材とレプリカの接触面積が、レプリカとマスター型の接触面積に比べて大きく、かつ基材とレプリカの接触面積が、レプリカとスタンパ型の接触面積に比べて大きくなる。これによって、マスター型やスタンパ型の離型がスムーズで、凹部の深さ分だけ平坦部間の連設部の厚さが厚くなり、これによって、精度よくレプリカを形成して精度よく上下のスタンパ型を形成することが可能となる。また、大型のレンズウエハを作る場合にも、強度的な問題を解消することが可能となる。また、表面の段差が緩和されて気泡残りの問題を解消することが可能となる。
以上により、本発明によれば、レプリカの側面の一部または全部を、基材に掘り込まれた複数の凹部内にそれぞれ埋め込んでレプリカを形成するため、基材とレプリカの接触面積が、レプリカとマスター型の接触面積に比べて大きく、かつ基材とレプリカの接触面積が、レプリカとスタンパ型の接触面積に比べて大きくなることから、マスター型やスタンパ型の離型がスムーズで、凹部の深さ分だけ平坦部間の連設部の厚さが厚くなり、これによって、精度よくレプリカを形成して精度よく上下のスタンパ型を形成すると共に、大型のレンズウエハを作る場合にも、強度的な問題を解消することができ、表面の段差が緩和されて気泡残りの問題を解消することができる。
本発明の実施形態に係るレンズウエハの構成例を示す要部縦断面図である。 図1のレンズウエハの製造方法のレプリカ作製プロセスを説明するための要部縦断面図である。 図2のレプリカ作製プロセスに用いる掘り込み基材の概略構成例を模式的に示す斜視図である。 (a)〜(c)は、図1のレンズウエハを製造するための金型作製プロセスを説明するための要部縦断面図である。 (a)および(b)は、図1のレンズウエハの成形プロセスを説明するための要部縦断面図である。 (a)は、図1のレンズウエハから個片化されたレンズの変形例を示す縦断面図、(b)は、複数のレンズを積層したレンズモジュール例を示す縦断面図、(c)は、(b)の第2レンズの上面図、(d)は、(b)の第1レンズの上面図、(e)は、第1レンズと遮光ホルダを組み合わせた場合のレンズモジュールの縦断面図、(f)は、(b)のレンズモジュールの変形例と遮光ホルダを組み合わせた場合のレンズモジュールの縦断面図、(g)は、遮光ホルダウエハ、第1レンズウエハおよび第2レンズウエハを積層したレンズウエハモジュールの要部構成例を示す縦断面図である。 本発明の実施形態3に係るセンサモジュールの要部構成例を示す縦断面図である。 本発明の実施形態4として、レンズモジュールと撮像素子チップとを一体化した上記本実施形態3のセンサモジュールまたは、上記実施形態2のレンズおよびレンズモジュールと撮像素子チップとを一体化したセンサモジュール10Aを含む固体撮像装置を撮像部に用いた電子情報機器の概略構成例を示すブロック図である。 特許文献1に開示されている従来の凸レンズウエハの製造方法を説明するための模式図である。 (a)〜(d)は、従来の凸レンズウエハを製造するための金型作製プロセスを説明するための要部縦断面図である。 (a)〜(c)は、従来の凸レンズウエハの成形プロセスを説明するための要部縦断面図である。 樹脂レプリカ成形後のマスター金型の離型時に発生する問題を説明するためのレプリカ成形工程を示す要部縦断面図である。 (a)〜(c)は、スタンパ型を樹脂レプリカから離型する際の問題を説明するためのスタンパ型形成工程を示す要部縦断面図である。 (a)および(b)は、レンズウエハの成形時に発生する問題を説明するためのレンズウエハ成形工程を示す要部縦断面図である。
以下に、本発明の光学素子ウエハおよびその製造方法の実施形態1としてレンズウエハおよびその製造方法に適用した場合について図面を参照しながら詳細に説明する。また、光学素子ウエハを個片化した光学素子、光学素子を複数積層した光学素子ウエハモジュールを個片化した光学素子モジュールの実施形態2として、レンズおよびレンズモジュールについて図面を参照しながら詳細に説明する。さらに、本発明の電子素子ウエハモジュールから一括切断された電子素子モジュールの実施形態3として、上記実施形態1のレンズウエハと、被写体からの画像光を光電変換して撮像する複数の撮像素子が設けられた撮像素子ウエハとを一体化したセンサモジュールに適用した場合について図面を参照しながら詳細に説明する。このセンサモジュールまたは、実施形態2に係る光学素子モジュールを用いたセンサモジュールを画像入力デバイスとして撮像部に用いた例えばカメラ付き携帯電話装置やテレビジョン電話装置などの電子情報機器の実施形態3について図面を参照しながら詳細に説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態に係るレンズウエハの構成例を示す要部縦断面図である。
図1において、本実施形態1の光学素子ウエハとしてのレンズウエハ1は、表面と裏面のうちの少なくともいずれかに複数の光学素子領域としてのレンズ領域2が形成され、このレンズ領域2の外周側に所定厚さを持つ平坦部3が設けられ、互いに隣接するレンズ領域2間の平坦部3の厚さD1と、その平坦部3間の連設部4の厚さD2との関係は、倍半分(2/1または1/2)から同等の範囲内の関係、好ましくは、互いに隣接するレンズ領域2間の平坦部3の厚さD1は、その平坦部3間の連設部4の厚さD2の4/3(または3/4)から同等の範囲内の関係を有している。
ここでは、光学素子領域としてのレンズ領域2およびその周囲の平坦部3における個々の樹脂パターン間の樹脂厚みD2を厚く構成して、樹脂パターンの樹脂厚みD1と略同等(均一)に構成している。これによって、レンズウエハ1の表面および裏面の凹凸が少なくなり(段差が少なくなり)、したがって、樹脂の流動性を妨げ難くく、レンズウエハ1に気泡が残り難くなる。
上記構成の光学素子ウエハとしてのレンズウエハ1の製造方法の各工程について、図2〜図5を用いて詳細に説明する。
図2は、図1のレンズウエハの製造方法のレプリカ作製プロセスを説明するための要部縦断面図である。図3は、図2のレプリカ作製プロセスに用いる掘り込み基材の概略構成例を模式的に示す斜視図である。
ガラス基板またはシリコン基板または樹脂基板からなる基材11の表面には、図3に示すような複数の凹部11aがマトリクス状に配置されている。まず、この基材11の凹部11a内に、図2のレプリカ型成形工程に示すように樹脂材料12を吐出する。次に、マスター金型13を用いて樹脂材料12を上から押圧してマスター金型13の所定レンズ形状を樹脂材料12の表面に転写して樹脂レプリカ14を形成する。これを順次繰り返して、基材11上に複数の樹脂レプリカ14のレプリカ型を等間隔に形成する。
このように、樹脂レプリカ14の側面が基材11の掘り込み形状内(凹部11a内)に埋め込まれることにより、樹脂レプリカ14の樹脂材料12の基材11との接触面積が広くなる。このことや、基材11の凹部11a(掘り込み部)の側面によるアンカー効果などにより、基材11と樹脂材料12との間の密着性が向上し、樹脂レプリカ14からのマスター金型13の離型時にも、従来の樹脂割れや樹脂剥がれを低減することができる。
次に、図4(a)および図4(b)に示すように、掘り込まれた基材11の凹部11a内に埋め込まれた複数の樹脂レプリカ14の各レプリカ型を用いて、基材11上の複数の樹脂レプリカ14のレプリカ型をレンズ面形状としてウエハサイズの上型のスタンパ型15に転写する。さらに、図4(c)に示すように、基材11上の複数の樹脂レプリカ14のレプリカ型から上金型のスタンパ型15を離型して、上金型のスタンパ型15を得る。これと同様にして、基材11上に形成した複数の樹脂レプリカ14のレプリカ型を、後述するスタンパ型16に転写した後、これを離型して、下金型のスタンパ型16を得ることができる。
このように、基材11上に複数の樹脂レプリカ14のレプリカ型を形成する際に、樹脂レプリカ14のレプリカ型の側面を、垂直な側壁を持つ基材11の凹部11a内に埋め込んでいる。このため、従来のように、基材11の表面とマスター金型13の表面の濡れ性や、成形時の圧力および樹脂材料12の粘度などの影響により、樹脂レプリカ14の側面が膨れたり、凹んだり、逆テーパになったりすることなく、基材11の凹部11a内で垂直になって、後のスタンパ型15,16の離型がスムーズになり、離型不良や、無理に離型しようとしてスタンパ型15,16内に樹脂残りが発生することもなくなる。
続いて、図5(a)に示すように、下金型のスタンパ型16の中央部上にレンズ用の成形樹脂17を適量だけ吐出する。次に、これを上金型のスタンパ型15で上から押圧して、スタンパ型15,16で上下から成形樹脂17を挟み込んで、図5(b)に示すようにレンズウエハ1にプレス成形する。これによって、上下金型で所望のレンズ厚みとなるように成形樹脂17を押し広げる。
その後、成形された成形樹脂17を紫外線または熱により硬化させた後に、上下のスタンパ型15、16を上下に開いて離型し、図1に示すように、所望のレンズウエハ1を上下型内から取り出す。このようにして、所望のレンズ形状が複数、規則的に繰り返されたレンズウエハ1を得ることができる。
即ち、本実施形態1の光学素子ウエハとしてのレンズウエハ1の製造方法は、基材11に形成された複数の凹部11a内にレプリカ材料を吐出する工程と、マスター型13を用いてレプリカ材料上を押圧してマスター型13の表面レンズ形状を、レプリカ材料の表面側に転写して上用樹脂レプリカ14を形成する上用レプリカ形成工程と、別の基材11に形成された複数の凹部11a内にレプリカ材料を吐出する工程と、別のマスター型13を用いてレプリカ材料上を押圧してマスター型13の裏面レンズ形状を、レプリカ材料の表面側に転写して下用樹脂レプリカ14を形成する下用レプリカ形成工程と、上用樹脂レプリカ14の各レンズ表面形状を転写して上用スタンパ型15を形成する上用スタンパ型形成工程と、下用樹脂レプリカ14の各レンズ裏面形状を転写して下用スタンパ型16を形成する下用スタンパ型形成工程と、上用スタンパ型15と下用スタンパ型16によりレンズ材料を所定厚さにプレスする光学素子材料プレス工程と、該レンズ材料を光硬化または熱硬化させる光学素子材料硬化工程とを有している。
この場合、樹脂レプリカ14の側面の一部または全部を、基材11に掘り込まれた複数の凹部11a内にそれぞれ埋め込んで樹脂レプリカ14を形成する。また、基材11と樹脂レプリカ14の接触面積が、樹脂レプリカ14とマスター型13の接触面積に比べて大きく、かつ、基材11と樹脂レプリカ14の接触面積が、樹脂レプリカ14とスタンパ型15、16の接触面積に比べて大きくなるように、基材11の凹部11aの深さを設定している。
このように、樹脂レプリカ14を個別に成形するときに、基材11の掘り込み部(凹部11a)内に樹脂レプリカ14を構成する樹脂材料12を埋め込んでいるため、個々の樹脂パターンの間の樹脂厚みを厚く、樹脂パターンの間の樹脂と樹脂パターンが均一になるため、大型の樹脂板であるレンズウエハ1を作製した場合にも、強度的に良好である。また、スタンパ型15、16で上下から成形樹脂17を挟み込んで、成形樹脂17を押し広げる際にも、従来技術に比べてスタンパ型15、16に凹凸が少なくなり、樹脂の流動性を妨げ難くく、レンズウエハ1に気泡が残り難い。
樹脂レプリカ14の作製において、使用する基材11に求められる性能は、(1)最終レンズの傾き、高さバラツキに影響を及ぼす平坦性、(2)レプリカ樹脂材料12の材質および特性(選定形状安定性に影響を及ぼす樹脂の硬化手法に対して)の選定、(3)樹脂レプリカ14のレプリカ型を作る為の樹脂との高密着性が必要となる。このレプリカ作製用の基材11に掘り込み部(凹部11a)を設けることにより、樹脂レプリカ14のサイズ、例えばレプリカ径の制御が容易になったり、金型面とガラス面との平行性を出しやすく、形状の傾きが低減できる。この掘り込み形状により、樹脂との密着面積が増えるため、どのような材料に対してもレプリカ樹脂材料12の密着性は向上する。
また、レプリカ樹脂材料12を基材11の掘り込み部(凹部11a)に埋め込む構造とする。このため、樹脂レプリカ14の表面と基材11の表面との段差が小さくなり、上下のスタンパ型15、16を形成した後の上下のスタンパ型15、16との密着面積も小さくなり、スタンパ型15、16の凹凸形状内への樹脂の食い込み量も少なくなる。このことから、樹脂レプリカ14からのスタンパ型15、16の離型が容易なものとなる。
さらに、レプリカ樹脂材料12を基材11の掘り込み部(凹部11a)内に埋め込む構造とする。このため、樹脂レプリカ14の表面と基材11の表面との段差が小さくなって、上下のスタンパ型15、16によってレンズを形成した場合には、レンズ樹脂板の厚さが厚く、均一になり、WLレンズ(ウエハレベルレンズ;レンズウエハ)の成形が容易なものとなる。
(実施形態2)
本実施形態2では、上記実施形態1において、上用スタンパ型15と下用スタンパ型16により成形された光学素子ウエハとしてのレンズウエハ1を個片化した光学素子としてのレンズの変形例および、このレンズを複数積層した光学素子モジュールとしてのレンズモジュールの変形例について詳細に説明する。
図6(a)は、図1のレンズウエハから個片化されたレンズの変形例を示す縦断面図、図6(b)は、複数のレンズを積層したレンズモジュール例を示す縦断面図、図6(c)は、図6(b)の第2レンズの上面図、図6(d)は、図6(b)の第1レンズの上面図、図6(e)は、第1レンズと遮光ホルダを組み合わせた場合のレンズモジュールの縦断面図、図6(f)は、図6(b)のレンズモジュールの変形例と遮光ホルダを組み合わせた場合のレンズモジュールの縦断面図、図6(g)は、遮光ホルダウエハ187B、第1レンズウエハ65Bおよび第2レンズウエハ185Bを積層したレンズウエハモジュールの要部構成例を示す縦断面図である。
上記実施形態1の上用スタンパ型15と下用スタンパ型16とはレンズ面が異なる上下金型により成形された第1レンズウエハおよび第2レンズウエハをそれぞれダイシングラインDLに沿って切断して、図6(a)に示すように多数の第1レンズ84を得ると共に、多数の第2レンズ85を得ることができる。第1レンズ84と第2レンズ85はそれぞれ、中央部の光学面Aの外周側に所定厚さを持つスペーサ部が設けられている。スペーサ部は、図6(d)に示すように、平面視外形4角形で内形円形の斜線部分で示すように、光学面Aを囲む円形状の外周端部Bから光学面Aの凸形状よりも突出した平坦部F1になっている。これらの第1レンズ84と第2レンズ85において、光学面Aおよびスペーサ部は透明樹脂材料により一括成型されている。なお、平面視4角形の第2レンズ85は、その表面側のスペーサ部が、図6(c)に示すように環状の斜線部分で示すように、光学面Aを囲む円形状の外周端部Bから光学面Aの凸形状よりも突出した環状の突出部F2になっている。環状の突出部F2の表面も平坦面である。
また、図6(b)に示すように、複数の第1レンズ84Aが形成された第1レンズウエハと、複数の第2レンズ85Aが形成された第2レンズウエハとが上下に接着材7で貼り合わされた状態で、ダイシングラインDLに沿って一括切断して、図6(b)に示すレンズモジュール86を得ることができる。この切断の際にも、第1レンズ84Aや第2レンズ85Aの切断時と同様に、切断保持テープを、下側の第2レンズウエハの平坦部F1に貼り付け、また、レンズ面保護のために、表面保護テープを、上側の第1レンズウエハの平坦部F1に貼り付ける。これによって、切断時に、第1レンズ84Aおよび第2レンズ85Aの各レンズ光学面が、切断保持テープおよび表面保護テープによって密閉されて保護されて、切削水によって各レンズ光学面が汚れない。
この場合、上側の第1レンズ84Aのスペーサ部と、下側の第2レンズ85Aのスペーサ部との各環状の平坦面が直に接し、各平坦面の更に外周側の底部によって囲まれた空間部分に接着材7が配置されて、第1レンズ84Aおよび第2レンズ85Aが接着されている。
さらに、図6(a)において、破線で示す第1レンズ84aのように裏面が平らで、表面だけに、光学面Aおよびこれよりも突出した平坦部F1が設けられている。この場合に、第2レンズ85がセットになる。また、第1レンズ84と、破線で示す第2レンズ85aがセットになる。第2レンズ85aの表面の光学面Aが突出していても、第1レンズ84の裏面の凹みに嵌まり込む。第2レンズ85aの裏面だけに、光学面Aおよびこれよりも突出した平坦部F1が設けられている。これによっても、前述したように、切削水によって各レンズ光学面Aが汚れない。
要するに、光学面Aおよびこれよりも突出した突出部F2または平坦部F1は、表面および裏面のうちの少なくともいずれかの面に設けられていればよいことになる。
さらに、図6(e)に示すように、遮光ホルダ87内に、図6(a)の第1レンズ84を組み込んでレンズモジュール88とすることができる。また、図6(f)に示すように、遮光ホルダ87内に、第1レンズ61Aおよび図6(b)の第2レンズ85Aからなるレンズモジュール86Aを組み込んでレンズモジュール89とすることもできる。このように、レンズに遮光ホルダ87をセットしてこれもレンズモジュールとする。
これらの第1レンズ84や第2レンズ85、レンズモジュール88および89のいずれかに電子素子としての撮像素子を積層して電子素子モジュールとしてのセンサモジュールを得ることができる。
上記実施形態1のレンズウエハ1を、電子素子ウエハとしての撮像素子ウエハ上に積層して電子素子ウエハモジュールとしてのセンサウエハモジュールを一体形成し、このセンサウエハモジュールを一括切断して個片化して多数のセンサモジュールを一度に得ることができる。このセンサモジュールについて、次の実施形態2として図7を用いて詳細に説明する。
(実施形態3)
図7は、本発明の実施形態3に係るセンサモジュールの要部構成例を示す縦断面図である。
図7において、本実施形態例3の電子素子モジュールとしてのセンサモジュール10は、被写体からの画像光を光電変換して撮像する複数の受光部を有する撮像素子21が中央部に配置され、撮像素子21に対して貫通電極22が設けられた撮像素子チップ20と、この撮像素子チップ20上の撮像素子21間上に形成された樹脂接着層30と、撮像素子チップ20上を覆い、樹脂接着層30上に接着固定されたガラス板などの透明支持基板40と、この透明支持基板40上に、撮像素子21に対応するように設けられたレンズモジュール50とを有している。
撮像素子チップ20は、表面中央部に撮像素子21(複数の画素を構成する複数の受光部が設けられている)が配設されており、その撮像素子21に対してパッド23が接続され、裏面から表面のパッド23(電極パッド)下に貫通する複数の貫通穴が明けられている。この貫通穴の側壁と裏面側は絶縁膜で覆われており、パッド23にコンタクトを持つ配線層24が貫通穴を介して裏面まで貫通電極22として形成されている。この配線層24上および裏面には絶縁膜が形成され、この配線層24の外部接続端子上に半田ボール25が形成される部分は絶縁膜が窓明けされて半田ボール25が外部に露出して形成されて
いる。
樹脂接着層30は、表面の撮像素子21の周囲部上に形成されて、撮像素子チップ20と透明支持基板40とを接着している。半導体表面上方が透明支持基板40で覆われる場合に、この樹脂接着層30により、撮像素子チップ20上の電子素子としての撮像素子21が設けられたセンサ領域上の内部空間が密閉される。樹脂接着層30は、撮像素子チップ20上の所定場所に通常のフォトリソ技術により形成され、その上に透明支持基板40が接着されるが、このフォトリソ技術の他にスクリーン印刷手法またはディスペンス手法を用いて形成することができる。
レンズモジュール50は、本実施形態1のレンズウエハ1を3枚積層したモジュールであって、透明支持基板40上に上から第1レンズ51と第2レンズ52と第3レンズ53とが順次設けられている。各レンズ51〜53はそれぞれ、中央部にレンズ領域が設けられ、このレンズ領域の外周側に所定厚さを持つスペーサ部が設けられている。第3レンズ53が収差補正レンズであり、第2レンズ52が拡散レンズであり、第1レンズ51が集光レンズであって、それらの各レンズの各外周側にそれぞれ設けられた所定厚さを持つ各スペーサ部が下からこの順に積層されて配置されている。これらの第1レンズ51と第2レンズ52とは接着層61で接着され、第2レンズ52と第3レンズ53とは接着層62で接着されている。
(実施形態4)
図8は、本発明の実施形態4として、レンズモジュール50と撮像素子チップ20とを一体化した本発明の実施形態3のセンサモジュール10または、上記実施形態2のレンズおよびレンズモジュールと撮像素子チップとを一体化したセンサモジュール10Aを含む固体撮像装置を撮像部に用いた電子情報機器の概略構成例を示すブロック図である。
図8において、本実施形態4の電子情報機器90は、上記実施形態3のセンサモジュール10または、上記実施形態2のセンサモジュール10Aからの撮像信号を各種信号処理してカラー画像信号を得る固体撮像装置91と、この固体撮像装置91からのカラー画像信号を記録用に所定の信号処理した後にデータ記録可能とする記録メディアなどのメモリ部92と、この固体撮像装置91からのカラー画像信号を表示用に所定の信号処理した後に液晶表示画面などの表示画面上に表示可能とする液晶表示装置などの表示手段93と、この固体撮像装置91からのカラー画像信号を通信用に所定の信号処理をした後に通信処理可能とする送受信装置などの通信手段94と、この固体撮像装置91からのカラー画像信号を印刷用に所定の信号処理をした後に印刷処理可能とするプリンタなどの画像出力手段95とを有している。なお、この電子情報機器90として、これに限らず、固体撮像装置91の他に、メモリ部92と、表示手段93と、通信手段94と、プリンタなどの画像出力手段95とのうちの少なくともいずれかを有していてもよい。
この電子情報機器90としては、前述したように例えばデジタルビデオカメラ、デジタルスチルカメラなどのデジタルカメラや、監視カメラ、ドアホンカメラ、車載用後方監視カメラなどの車載用カメラおよびテレビジョン電話用カメラなどの画像入力カメラ、スキャナ装置、ファクシミリ装置、カメラ付き携帯電話装置、テレビジョン電話装置および携帯端末装置(PDA)などの画像入力デバイスを有した電子機器が考えられる。
したがって、本実施形態4によれば、この固体撮像装置91からのカラー画像信号に基づいて、このカラー画像信号を表示手段93により表示画面上に良好に表示したり、このカラー画像信号を紙面にて画像出力手段95により良好にプリントアウト(印刷)したり、このカラー画像信号を通信手段94により通信データとして有線または無線にて良好に通信したり、このカラー画像信号をメモリ部92に所定のデータ圧縮処理を行って良好に記憶したり、各種のデータ処理を良好に行うことができる。
なお、上記実施形態4の電子情報機器90に限らず、本発明の電子素子モジュールを情報記録再生部に用いたピックアップ装置などの電子情報機器であってもよい。この場合のピックアップ装置の光学素子としては、出射光を直進させて出射させると共に、入射光を曲げて所定方向に入射させる光学機能素子(例えばホログラム光学素子)である。また、ピックアップ装置の電子素子としては、出射光を発生させるための発光素子(例えば半導体レーザ素子またはレーザチップ)および入射光を受光するための受光素子(例えばフォトIC)を有している。
以上により、上記実施形態1によれば、樹脂レプリカ14の側面の一部または全部を、基材11に掘り込まれた複数の凹部11a内にそれぞれ埋め込んで樹脂レプリカ14を形成する。このため、基材11と樹脂レプリカ14の接触面積が、樹脂レプリカ14とマスター型13の接触面積に比べて大きく、かつ基材11と樹脂レプリカ14の接触面積が、樹脂レプリカ14とスタンパ型15、16の接触面積に比べて大きくなる。このことから、マスター型13やスタンパ型15、16の離型がスムーズで、凹部11aの深さ分だけ平坦部3間の連設部4の厚さが厚くなる。これによって、精度よく樹脂レプリカ14の側面を形成して精度よく上下のスタンパ型15、16を形成すると共に、大型のレンズウエハを作る場合にも、強度的な問題を解消することができ、表面の段差(D1-D2)が緩和されて気泡残りの問題も解消することができる。
なお、本実施形態1〜4では、特に説明しなかったが、光学素子ウエハの製造方法として、基材に形成された複数の凹部内に、光学素子形状が表面側に形成されたレプリカを形成するレプリカ形成工程と、このレプリカの各光学素子形状を用いてスタンパ型を形成するスタンパ型形成工程と、このスタンパ型を用いて光学素子材料に光学素子形状を転写して光学素子ウエハを成形する光学素子ウエハ成形工程とを有している。これによって、精度よく樹脂レプリカを形成して精度よく上下のスタンパ型を形成すると共に、大型のレンズウエハを作る場合にも、強度的な問題や気泡残りの問題を解消する目的を達成することができる。
また、光学素子ウェハは具体的にはレンズウエハであるが、光学素子としてはレンズの他にプリズムやホログラム素子でもよい。これらの場合、プリズムウエハやホログラム素子ウエハとなる。
以上のように、本発明の好ましい実施形態1〜4を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態1〜4に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態1〜4の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。
本発明は、入射光を集光する複数の光学素子としての複数のレンズが設けれれたレンズウエハや光学機能素子ウエハなどの光学素子ウエハおよびその製造方法、光学素子ウエハから一括切断されて個片化した光学素子、光学素子ウエハを複数積層した光学素子ウエハモジュールから一括切断されて個片化した光学素子モジュール、光学素子ウエハまたは光学素子ウエハモジュールと、被写体からの画像光を光電変換して撮像する複数の撮像素子が設けられた撮像素子ウエハとが一体化されたセンサウエハモジュールなどの電子素子ウエハモジュール、この電子素子ウエハモジュールから一括切断されて個片化された電子素子モジュール、この電子素子モジュールとしてのセンサモジュールを画像入力デバイスとして撮像部に用いた例えばデジタルビデオカメラおよびデジタルスチルカメラなどのデジタルカメラや、画像入力カメラ、スキャナ装置、ファクシミリ装置、カメラ付き携帯電話装置、テレビジョン電話装置などの電子情報機器の分野において、レプリカの側面の一部または全部を、基材に掘り込まれた複数の凹部内にそれぞれ埋め込んでレプリカを形成するため、基材とレプリカの接触面積が、レプリカとマスター型の接触面積に比べて大きく、かつ基材とレプリカの接触面積が、レプリカとスタンパ型の接触面積に比べて大きくなることから、マスター型やスタンパ型の離型がスムーズで、凹部の深さ分だけ平坦部間の連設部の厚さが厚くなり、これによって、精度よくレプリカを形成して精度よく上下のスタンパ型を形成すると共に、大型のレンズウエハを作る場合にも、強度的な問題を解消することができ、表面の段差が緩和されて気泡残りの問題を解消することができる。
1 レンズウエハ
10、10A センサモジュール
11 基材
11a 凹部
12 樹脂材料
13 マスター金型
14 樹脂レプリカ
15 上金型のスタンパ型
16 下金型のスタンパ型
20 撮像素子チップ
21 撮像素子
22 貫通電極
23 パッド
24 配線層
25 半田ボール
30 樹脂接着層
40 透明支持基板
50 レンズモジュール
51 第1レンズ
52 第2レンズ
53 第3レンズ
61,62 接着層
61A、84、84A、84a 第1レンズ
85、85A、85a 第2レンズ
86,86A レンズモジュール
87 遮光ホルダ
88,89 レンズモジュール
90 電子情報機器
91 固体撮像装置
92 メモリ部
93 表示手段
94 通信手段
95 画像出力手段
A 光学面
B 光学面外周端部
DL ダイシングライン
F1 平坦部
F2 環状の突出部

Claims (9)

  1. 複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウエハの製造方法において、
    基材に形成された複数の凹部内にレプリカを形成するレプリカ形成工程と、
    該基材の凹部内に埋め込まれたレプリカの表面側に形成された各光学素子形状を転写してスタンパ型を形成するスタンパ型形成工程と、
    該スタンパ型を用いて光学素子材料に光学素子形状を転写して光学素子ウエハを成形する光学素子ウエハ成形工程とを有し、
    該レプリカ形成工程は、該基材に形成された複数の凹部内にレプリカ材料を吐出する工程と、マスター型を用いて該レプリカ材料上を押圧して該マスター型の光学素子形状を該レプリカ材料の表面側に転写する光学素子形状転写工程とを有する光学素子ウエハの製造方法。
  2. 前記レプリカ形成工程は、基材に形成された複数の凹部内に、表面用の光学素子形状が表面側に形成された上用レプリカを形成する上用レプリカ形成工程と、別の基材に形成された複数の凹部内に、裏面用の光学素子形状が表面側に形成された下用レプリカを形成する下用レプリカ形成工程とを有する請求項1に記載の光学素子ウエハの製造方法。
  3. 前記光学素子ウエハ成形工程は、前記光学素子形状の外周側に所定厚さの平坦部が設けられ、互いに隣接する該光学素子形状間にある平坦部間が該光学素子形状と同じ材料からなる連接部で接続された前記光学素子ウエハを形成する請求項1に記載の光学素子ウエハの製造方法。
  4. 前記基材と前記レプリカの接触面積が、前記レプリカと前記マスター型の接触面積に比べて大きくなるように該基材の凹部の深さを設定する請求項1に記載の光学素子ウエハの製造方法。
  5. 前記基材と前記レプリカの接触面積が、該レプリカと前記スタンパ型の接触面積に比べて大きくなるように該基材の凹部の深さを設定する請求項1に記載の光学素子ウエハの製造方法。
  6. 前記スタンパ型形成工程は、前記上用レプリカの各光学素子形状を転写して上用スタンパ型を形成する上用スタンパ型形成工程と、前記下用レプリカの各光学素子形状を転写して下用スタンパ型を形成する下用スタンパ型形成工程とを有する請求項2に記載の光学素子ウエハの製造方法。
  7. 前記光学素子ウエハ成形工程は、前記上用スタンパ型と前記下用スタンパ型により前記光学素子材料を所定厚さにプレスする光学素子材料プレス工程と、該光学素子材料を光硬化または熱硬化させる光学素子材料硬化工程とを有する請求項6に記載の光学素子ウエハの製造方法。
  8. 前記光学素子は、一または複数枚のレンズである請求項1に記載の光学素子ウエハの製造方法。
  9. 前記光学素子は、出射光を直進させて出射させると共に、入射光を曲げて所定方向に入射させる光学機能素子である請求項1に記載の光学素子ウエハの製造方法。
JP2009199032A 2008-09-26 2009-08-28 光学素子ウエハの製造方法 Expired - Fee Related JP5094802B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009199032A JP5094802B2 (ja) 2008-09-26 2009-08-28 光学素子ウエハの製造方法
US12/585,769 US20100079642A1 (en) 2008-09-26 2009-09-24 Optical element wafer and method for manufacturing optical element wafer, optical element, optical element module, electronic element wafer module, electronic element module, and electronic information device
CN2009102044287A CN101685169B (zh) 2008-09-26 2009-09-25 光学元件晶片及其制造方法以及电子元件晶片模块

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008249253 2008-09-26
JP2008249253 2008-09-26
JP2009199032A JP5094802B2 (ja) 2008-09-26 2009-08-28 光学素子ウエハの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010102312A JP2010102312A (ja) 2010-05-06
JP5094802B2 true JP5094802B2 (ja) 2012-12-12

Family

ID=42048416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009199032A Expired - Fee Related JP5094802B2 (ja) 2008-09-26 2009-08-28 光学素子ウエハの製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20100079642A1 (ja)
JP (1) JP5094802B2 (ja)
CN (1) CN101685169B (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5623121B2 (ja) 2010-04-27 2014-11-12 キヤノン株式会社 被検体情報取得装置
TWI503580B (zh) * 2011-01-25 2015-10-11 Konica Minolta Opto Inc 成形模具、薄片狀透鏡以及光學透鏡之製造方法
JP2012158098A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Konica Minolta Advanced Layers Inc 成形型等の製造方法並びに成形型の製造装置
JP5725153B2 (ja) * 2011-03-07 2015-05-27 コニカミノルタ株式会社 成形型、ウェハーレンズ及び光学レンズの製造方法
JP5841731B2 (ja) * 2011-03-11 2016-01-13 シャープ株式会社 光学素子、光学素子モジュール、電子素子モジュールおよび電子情報機器
JP2013041878A (ja) 2011-08-11 2013-02-28 Sony Corp 撮像装置およびカメラモジュール
JP5459722B2 (ja) * 2011-09-29 2014-04-02 シャープ株式会社 積層型ウェハレンズおよびその製造方法、多層レンズ
CN102628945B (zh) * 2012-03-30 2013-10-16 瑞声声学科技(深圳)有限公司 光距传感装置的制作方法
WO2013190918A1 (ja) * 2012-06-18 2013-12-27 シャープ株式会社 カメラモジュール、および当該カメラモジュールを搭載した電子機器、ならびに当該カメラモジュールの製造方法
US9919455B2 (en) * 2012-08-22 2018-03-20 Omnivision Technologies, Inc. Methods for forming a lens plate for an integrated camera using UV-transparent molds and methods for forming UV-transparent molds
EP2891673B1 (en) 2012-08-31 2019-08-14 Daicel Corporation Curable composition, cured product thereof, optical member and optical device
US9041019B2 (en) * 2012-10-25 2015-05-26 Flextronics Ap, Llc Method of and device for manufacturing LED assembly using liquid molding technologies
EP3037852A4 (en) 2013-08-20 2017-03-22 Daicel Corporation Wafer lens, wafer lens array, wafer lens laminate, and wafer lens array laminate
KR102551233B1 (ko) * 2016-01-25 2023-07-05 엘지이노텍 주식회사 카메라 모듈 및 광학기기
CN112565563B (zh) * 2016-01-25 2022-09-06 Lg伊诺特有限公司 相机模块和光学设备
US10469718B2 (en) 2017-05-03 2019-11-05 Omnivision Technologies, Inc. Camera module having baffle between two glass substrates
WO2019090935A1 (zh) * 2017-11-09 2019-05-16 深圳市汇顶科技股份有限公司 光学模组及其加工方法、及终端设备
WO2020255191A1 (ja) * 2019-06-17 2020-12-24 日本電信電話株式会社 光回路ウェハ

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09174566A (ja) * 1995-12-25 1997-07-08 Fujitsu Ltd 光学素子複製用スタンパ
JP2002350609A (ja) * 2001-05-29 2002-12-04 Ricoh Co Ltd 光学素子作製方法、光学素子および光ピックアップ装置
JP4054658B2 (ja) * 2002-10-31 2008-02-27 オリンパス株式会社 レンズ連接部材、及びレンズアレイの成形型
JP2004151450A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Olympus Corp レンズアレイの製造方法、及びレンズアレイの成形型
JP2004310077A (ja) * 2003-03-25 2004-11-04 Nikon Corp マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ及び露光装置
JP2005132660A (ja) * 2003-10-29 2005-05-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 無反射構造を有する光学素子の製造方法、及び当該方法により製造された無反射構造を有する光学素子
JP2005223716A (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Rohm Co Ltd イメージセンサモジュールおよびイメージセンサモジュール用レンズユニット
JP2007163889A (ja) * 2005-12-14 2007-06-28 Seiko Precision Inc 撮像装置及びその製造方法
JP5292291B2 (ja) * 2006-07-17 2013-09-18 デジタルオプティクス・コーポレイション・イースト カメラシステムの作製方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101685169B (zh) 2013-01-16
CN101685169A (zh) 2010-03-31
JP2010102312A (ja) 2010-05-06
US20100079642A1 (en) 2010-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5094802B2 (ja) 光学素子ウエハの製造方法
JP5009209B2 (ja) ウエハ状光学装置およびその製造方法、電子素子ウエハモジュール、センサウエハモジュール、電子素子モジュール、センサモジュール、電子情報機器
JP4764941B2 (ja) 光学素子、光学素子ウエハ、光学素子ウエハモジュール、光学素子モジュール、光学素子モジュールの製造方法、電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュールの製造方法、電子素子モジュールおよび電子情報機器
JP4768060B2 (ja) 光学素子、光学素子ウエハ、光学素子ウエハモジュール、光学素子モジュール、光学素子モジュールの製造方法、電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュールの製造方法、電子素子モジュールおよび電子情報機器
JP5047243B2 (ja) 光学素子ウエハモジュール、光学素子モジュール、光学素子モジュールの製造方法、電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュールの製造方法、電子素子モジュールおよび電子情報機器
JP4764942B2 (ja) 光学素子、光学素子ウエハ、光学素子ウエハモジュール、光学素子モジュール、光学素子モジュールの製造方法、電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュールの製造方法、電子素子モジュールおよび電子情報機器
TWI402979B (zh) 電子元件晶圓模組、電子元件模組、感測器晶圓模組、感測器模組、透鏡陣列盤、感測器模組之製造方法、及電子資訊裝置
JP5118674B2 (ja) 光学素子モジュールおよびその製造方法、電子素子モジュールおよびその製造方法、電子情報機器
JP4819152B2 (ja) 光学素子ウエハ、光学素子ウエハモジュール、光学素子モジュール、光学素子モジュールの製造方法、電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュールの製造方法、電子素子モジュールおよび電子情報機器
JP4891214B2 (ja) 電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュール、センサウエハモジュール、センサモジュール、レンズアレイ板、センサモジュールの製造方法および電子情報機器
JP5202361B2 (ja) 成形方法、成形装置、成形金型、光学素子アレイ板の製造方法、電子素子モジュールの製造方法、電子情報機器
US20100091168A1 (en) Solid-state image pickup apparatus, and method of manufacturing solid-state image pickup apparatus
JP4835799B2 (ja) ウエハレンズ及びその製造方法
TW200541063A (en) Image pickup device and production method thereof
JP4800291B2 (ja) センサモジュールの製造方法および電子情報機器の製造方法
TW201013906A (en) Electronic element wafer module, method for manufacturing an electronic element wafer module, electronic element module, and electronic information device
JP2010056170A (ja) 電子素子ウエハモジュールおよびその製造方法、電子素子モジュールおよびその製造方法、電子情報機器
JP2014187160A (ja) 固体撮像装置および携帯情報端末
JP2009266901A (ja) 転写装置、ウエハ状光学装置の製造方法、電子素子ウエハモジュール、センサウエハモジュール、電子素子モジュール、センサモジュールおよび電子情報機器
JP2009251249A (ja) ウエハ状光学装置およびその製造方法、電子素子ウエハモジュール、センサウエハモジュール、電子素子モジュール、センサモジュール、電子情報機器
JP2009086092A (ja) 光学部品の製造方法及び撮影装置の製造方法
JP2015170638A (ja) 撮像素子パッケージ及び撮像装置
JP5061580B2 (ja) 固体撮像装置及びその製造方法
JP2009044494A (ja) 撮像デバイス
JP2010194760A (ja) 成形装置、成形型の製造方法、光学素子アレイ板の製造方法、電子素子モジュールの製造方法、電子情報機器

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100928

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101001

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110704

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120626

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120809

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120828

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120918

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5094802

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150928

Year of fee payment: 3

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees