JP2004310077A - マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 グレースケールマスクパターン1を使用してレジストの露光を行い、レジストを現像したときに(b)に示すような断面形状を有するレジストパターンが得られたとする。目的とするレジストの断面形状が(d)のようなものであったとすると、(b)と(d)との差だけのレジストの膜べりを発生させるようなグレースケールマスクパターン2を形成する。そして、グレースケールマスクパターン1とグレースケールマスクパターン2を使用して、別々にレジストの露光を行った後に、レジストを現像すれば、(d)に示すような目的とする形状のレジストパターンが得られる。
【選択図】 図2
Description
(1) マスク素材に直接濃淡をつけて透過率分布を形成したグレースケールマスク(2) マスク基材の上に光吸収膜をつけ、その膜厚を制御することにより透過率分布を形成したグレースケールマスク(3) 通常のクロム膜のついたマスク基板上に開口を設け、この開口の寸法あるいは分布密度を制御することにより透過率分布を形成したグレースケールマスク 上記(1)〜(3)のグレースケールマスクのなかで、比較的製作が容易な(3)のグレースケールマスクを用いてマイクロレンズを製作することが近年盛んになっている。
(1)グレースケールマスクAを用いて、特許文献2に記載の方法でマイクロレンズを製作する場合、レンズ形状の誤差が問題となる。sag量とは、マイクロレンズ部の高さのことであるが、高精度のマイクロレンズにおいては、レンズ表面部の凹凸誤差(PV値:微視的に見たときの凸部の先端と凹部の底部との高さの差)がsag量の1%以下であることが必要とされる。従って、sag量が10μm以下のマイクロレンズでは、レンズ形状誤差を100nm以下とする必要がある。
う問題点があった。
この方法の大きな特徴は、図8に示すような粗い透過率分布を持ったグレースケールマスクを使用しても、露光時間を短くすることにより、精度よくマイクロレンズ形状の微調整を行えることである。
Claims (13)
- 2枚以上のグレースケールマスクを用いて、順次各グレースケールマスクのパターンを光学基材上に設けたレジストに転写し、前記レジストを現像することによりマイクロレンズを製造する工程を有するマイクロレンズの製造方法であって、前記各グレースケールマスクを用いて露光する露光時間のうち、少なくとも一つのグレースケールマスクにおいて、それを用いて露光する露光時間が、他のグレースケールマスクを用いて露光する露光時間と異なっていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 2枚以上のグレースケールマスクを用いて、順次グレースケールマスクパターンを光学基材上に設けたレジストに転写し、前記レジストを現像した後、残存する前記レジストと前記光学基材をエッチングすることにより、前記グレースケールマスクに対応する前記レジストのパターンを前記光学基材に転写してマイクロレンズを製造する工程を有するマイクロレンズの製造方法であって、前記各グレースケールマスクを用いて露光する露光時間のうち、少なくとも一つのグレースケールマスクにおいて、それを用いて露光する露光時間が、他のグレースケールマスクを用いて露光する露光時間と異なっていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 2枚以上のグレースケールマスクを用いて、順次グレースケールマスクパターンを基材上に設けたレジストに転写し、前記レジストを現像することによりマイクロレンズ用の型を形成し、当該型を使用してマイクロレンズを製造する工程を有するマイクロレンズの製造方法であって、前記各グレースケールマスクを用いて露光する露光時間のうち、少なくとも一つのグレースケールマスクにおいて、それを用いて露光する露光時間が、他のグレースケールマスクを用いて露光する露光時間と異なっていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 2枚以上のグレースケールマスクを用いて、順次グレースケールマスクパターンを基材上に設けたレジストに転写し、前記レジストを現像した後、残存する前記レジストと前記基材をエッチングすることにより、前記グレースケールマスクに対応する前記レジストのパターンを前記基材に転写してマイクロレンズ用の型を形成し、当該型を使用してマイクロレンズを製造する工程を有するマイクロレンズの製造方法であって、前記各グレースケールマスクを用いて露光する露光時間のうち、少なくとも一つのグレースケールマスクにおいて、それを用いて露光する露光時間が、他のグレースケールマスクを用いて露光する露光時間と異なっていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 2枚以上のグレースケールマスクを用いて、順次グレースケールマスクパターンを基材上に設けたレジストに転写し、前記レジストを現像することによりマイクロレンズ用の型母材を形成し、当該型母材から型を形成し、当該型を使用してマイクロレンズを製造する工程を有するマイクロレンズの製造方法であって、前記各グレースケールマスクを用いて露光する露光時間のうち、少なくとも一つのグレースケールマスクにおいて、それを用いて露光する露光時間が、他のグレースケールマスクを用いて露光する露光時間と異なっていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 2枚以上のグレースケールマスクを用いて、順次グレースケールマスクパターンを基材上に設けたレジストに転写し、前記レジストを現像した後、残存する前記レジストと前記基材をエッチングすることにより、前記グレースケールマスクに対応する前記レジストのパターンを前記基材に転写してマイクロレンズ用の型母材を形成し、当該型母材から型を形成し、当該型を使用してマイクロレンズを製造する工程を有するマイクロレンズの製造方法であって、前前記各グレースケールマスクを用いて露光する露光時間のうち、少なくとも一つのグレースケールマスクにおいて、それを用いて露光する露光時間が、他のグレースケールマスクを用いて露光する露光時間と異なっていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 請求項1から請求項6のうちいずれか1項に記載のマイクロレンズの製造方法であって、各グレースケールマスクのうち、少なくとも1枚はマイクロレンズの形状を粗く決定するためのグレースケールパターンを有し、少なくとも1枚は、粗く決定されたマイクロレンズの形状を微調整するためのグレースケールパターンを有するものであることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 請求項1から請求項7のうちいずれか1項に記載のマイクロレンズの製造方法であって、前記グレースケールマスクの透過率設定は、前記グレースケールマスクに形成された開口により行われることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 請求項8に記載のマイクロレンズの製造方法であって、マスクの開口の形状が円形であることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 請求項1から請求項9のうちいずれか1項に記載のマイクロレンズの製造方法であって、露光時間の短い順に前記グレースケールマスクを順次用いて露光することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
- 光学基材の上にレジストパターンが形成され、前記レジストパターンの形状によりレンズが形成されたマイクロレンズであって、前記レジストパターンの表面形状精度がPV値で、sag量の1%以下であるマイクロレンズ。
- 光学基材の表面形状によりレンズが形成されたマイクロレンズであって、前記光学基材の表面形状精度がPV値で、sag量の1%以下であるマイクロレンズ。
- 請求項11又は請求項12に記載のマイクロレンズが用いられた照明光学系と、当該照明光学系により照明されたレチクルのパターンをウエハ等の感応基板に投影する投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
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