JP2008116606A - マイクロレンズの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の上にポジ型レジストを塗布し、一方、図に示すようなグレースケールマスク1を製造した。図は平面図であり、その中にレンズ対応部分2と突起部対応部分3とが形成されている。レンズ対応部分2の光透過率は15〜47%、突起部対応部分3の光透過率は0%、レンズとレンズの間の平坦部分に対応する部分の光透過率は47%(レンズ部分の最大透過率と一致)である。即ち、レンズ頂点部は透過率が15%で露光され、突起部は未露光となる。このグレースケールマスクを使用して前述のレジストを露光して現像したところ、レジストに形成されたレンズ頂点高さはレジストに形成された突起部高さより約5μm低くなった。これでも、レンズ保護の面からは十分実用になるGAPである。
【選択図】 図1
Description
(2)前記グレースケールマスクを用意する工程
(3)前記グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光し、その後、前記レジストを現像する工程
(2)前記グレースケールマスクを用意する工程
(3)前記突起部を露光する部分の開口率が、前記レジストを露光・現像したときに、前記突起部が、他の部分の高さより高くなるようなものである補助グレースケールマスクを用意する工程
(4)前記グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光し、その後、前記補助グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光するか、前記補助グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光し、その後、前記グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光するかのいずれかの工程を実施する工程
(5)前記レジストを現像する工程
前記第1の方法では、突起部と個々のレンズの頂点部の高さのGAPが、グレースケールマスクの開口率の差の制限から余り大きくできない場合がある。これに対応するために、本手段においては、前記第1の手段の工程に加えて、補助グレースケールマスクを用いた露光工程を加えている。
図3に示すようなマイクロレンズアレイを製造した。個々のレンズ12のレンズサイズはφ180μm、SAGは約24μmである。このマイクロレンズアレイを製造するために、基板11の上にポジ型レジストを塗布し、一方、図1に示すようなグレースケールマスク1を製造した。図1は平面図であり、その中にレンズ対応部分2と突起部対応部分3とが形成されている。4はレンズ間の平坦部対応部分である。
図3に示すようなマイクロレンズアレイを製造した。個々のレンズ12のレンズサイズはφ380μm、SAGは約3μmである。このマイクロレンズアレイを製造するために、基板11の上にポジ型レジストを塗布し、一方、図1に示すようなグレースケールマスク1を製造した。図1は平面図であり、その中にレンズ対応部分2と突起部対応部分3とが形成されている。
Claims (2)
- 以下の工程を有し、個々のレンズの頂点部高さよりも高い突起部を有するマイクロレンズの製造方法であって、使用するグレースケールマスクが、それを使用してレジストを露光・現像したときに、レジストが所定のマイクロレンズ形状となる開口率分布を持つパターンを有するグレースケールマスクであって、かつ、前記突起部を露光する部分の当該グレースケールマスクの開口率が、前記レジストを露光・現像したときに、前記突起部が前記マイクロレンズの頂点部高さよりも高くなるような開口率を有するものであることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
(1)基板の上にレジストを塗布する工程
(2)前記グレースケールマスクを用意する工程
(3)前記グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光し、その後、前記レジストを現像する工程 - 以下の工程を有し、個々のレンズの頂点部高さよりも高い突起部を有するマイクロレンズの製造方法であって、使用するグレースケールマスクが、それを使用してレジストを露光・現像したときに、レジストが所定のマイクロレンズ形状となる開口率分布を持つパターンを有するグレースケールマスクであって、かつ、前記突起部を露光する部分の当該グレースケールマスクの開口率が、前記レジストを露光・現像したときに、前記突起部が前記マイクロレンズの頂点部高さと同じかそれよりも高くなるようなものであることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
(1)基板の上にレジストを塗布する工程
(2)前記グレースケールマスクを用意する工程
(3)前記突起部を露光する部分の開口率が、前記レジストを露光・現像したときに、前記突起部が、他の部分の高さより高くなるようにパターンが設けられた補助グレースケールマスクを用意する工程
(4)前記グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光し、その後、前記補助グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光するか、前記補助グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光し、その後、前記グレースケールマスクを使用して、前記レジストを露光するかのいずれかの工程を実施する工程
(5)前記レジストを現像する工程
Priority Applications (1)
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JP2006298584A JP2008116606A (ja) | 2006-11-02 | 2006-11-02 | マイクロレンズの製造方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2006
- 2006-11-02 JP JP2006298584A patent/JP2008116606A/ja active Pending
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