JP5081590B2 - 欠陥観察分類方法及びその装置 - Google Patents
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Description
[条件1] 処理領域内の上層レイヤ配線パターン数:1
上層レイヤ回路パターンの最小配線幅 < TH1
[条件2] 処理領域内の上層レイヤ配線パターン数:2以上
上層レイヤ回路パターンの最小配線幅 < TH1 かつ
上層レイヤ回路パターンの最小配線間距離 < TH2 かつ
下層レイヤ回路パターンの配線パターン数 > TH3 かつ
下層レイヤ回路パターンの最小配線幅 < TH4 かつ
下層レイヤ回路パターンの最小配線間距離 < TH5 かつ
上述のように定義されるシステマティック判定基準は,実際には図11に例示するような設定画面を通じて行われる。図11は,システマティック欠陥判定基準の設定方法において,その処理の内容や結果を確認もしくは修正するための操作画面の例であり,入出力端末110の表示画面1100に表示されるものである。
(1)低倍率で視野の広い画像を取得し,
(2)その画像視野内からの欠陥位置を抽出した後に,
(3)抽出された欠陥位置を高倍率で撮像する,
という3ステップの処理が行われる。
1101…レビュー情報表示部,1102…判定基準定義部,1103…判定基準設定パラメタ入出力部,1104…良品パターン表示部,1105…チップ表示部,1106…パターン表示部,1107…パターン特徴量表示部,1301…クラス表示部,1302…画像表示部,1303…選択画像表示部,1304…画像アイコン,1305…マウスカーソル,1306…登録ボタン
Claims (16)
- 欠陥候補をSEMで撮像して得た画像を用いて前記欠陥候補を分類する方法であって,
パターンが形成された試料を予め他の検査装置で検査して検出された欠陥候補をSEMで撮像してSEM画像を得るステップと、
該SEM画像を処理して前記欠陥候補のSEM画像から欠陥の大きさまたは画像の明度またはテクスチャのいずれかである特徴量を算出するステップと、
該算出した特徴量を用いて前記欠陥候補をパターン形状欠陥とそれ以外の欠陥とに分類する欠陥分類ステップと、
前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補について前記パターンの設計データ上の位置情報を得るステップと、
該得た欠陥候補の設計データ上の位置情報を前記パターンの設計データから求めたパターンの成形不良が発生しやすい箇所の位置情報と比較することにより前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の中から前記パターンのレイアウト形状または前記パターンを形成するプロセス装置の特性に起因して発生するシステマティック欠陥を抽出するシステマティック欠陥抽出ステップとを含むことを特徴とする欠陥観察分類方法。 - 前記システマティック欠陥抽出ステップにおいて、前記パターンの設計データからパターンの形状不良欠陥が発生しやすい箇所を抽出し、該抽出した箇所の座標データと前記設計データ上の位置情報を得るステップにおいて得た前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の位置情報とを比較して所定の誤差範囲内で一致した前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補をシステマティック欠陥として抽出することを特徴とする請求項1記載の欠陥観察分類方法。
- 前記システマティック欠陥抽出ステップでは、前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の中から、予め露光シミュレーションを用いて算出して記憶しておいたシステマティック欠陥発生位置情報と前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の設計データ上の位置情報とを比較して一致した欠陥候補をシステマティック欠陥として抽出することを特徴とする請求項1記載の欠陥観察分類方法。
- 前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補について前記パターンの設計データ上の位置情報を得るステップにおいて、前記パターンの設計データから前記パターンの画像を作成し、該設計データから作成したパターンの画像と前記欠陥候補のSEM画像との位置合せを行って両画像間の位置ずれ量を求め、該求めた両画像間の位置ずれ量と前記SEM画像内の欠陥候補の位置情報とに基づいて前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の前記パターンの設計データ上の位置情報を得ることを特徴とする請求項1記載の欠陥観察分類方法。
- 前記設計データから作成したパターンの画像と前記欠陥候補のSEM画像とは、何れも非繰返しパターンの画像を含むことを特徴とする請求項4記載の欠陥観察分類方法。
- 前記システマティック欠陥抽出ステップにおいて、前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補のうち前記位置情報を比較することによりシステマティック欠陥として抽出されなかった欠陥候補について予め設定したシステマティック欠陥判定基準を用いて評価することにより、新たにシステマティック欠陥を抽出することを特徴とする請求項1記載の欠陥観察分類方法。
- 前記システマティック欠陥判定基準を、前記パターンの設計データから求めたパターンの成形不良が発生しやすい箇所を含む近傍のパターンの画像を前記設計データから作成し、該作成したパターンの画像から複数配線のそれぞれの幅および配線間の距離であるパターン特徴量を求め、該求めたパターン特徴量の情報を用いて前記システマティック欠陥判定基準を作成することを特徴とする請求項6記載の欠陥観察分類方法。
- 前記求めるパターン特徴量は、前記作成したパターンの画像内におけるパターンの間隔及びパターンの幅の情報を含むことを特徴とする請求項7記載の欠陥観察分類方法。
- 欠陥候補をSEMで撮像して得た画像を用いて前記欠陥候補を分類する装置であって,
パターンが形成された試料を予め他の検査装置で検査して検出された欠陥候補をSEMで撮像してSEM画像を得るSEM画像取得手段と、
該SEM画像取得手段で取得したSEM画像を処理して前記欠陥候補のSEM画像から欠陥の大きさまたは画像の明度またはテクスチャのいずれかである特徴量を算出する画像処理手段と、
該画像処理手段で算出した特徴量を用いて前記欠陥候補をパターン形状欠陥とそれ以外の欠陥とに分類する欠陥分類手段と、
該欠陥分類手段でパターン形状欠陥に分類された欠陥候補についてデータベースに記憶されている前記パターンの設計データ情報から該設計データ上の位置情報を得る位置情報取得手段と、
該位置情報取得手段で取得した前記欠陥候補の設計データ上の位置情報を前記パターンの設計データから求めたパターンの成形不良が発生しやすい箇所の位置情報と比較することにより前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の中から前記パターンのレイアウト形状または前記パターンを形成するプロセス装置の特性に起因して発生するシステマティック欠陥を抽出するシステマティック欠陥抽出手段とを備えたことを特徴とする欠陥観察分類装置。 - 前記システマティック欠陥抽出手段は、前記パターンの設計データからパターンの形状不良欠陥が発生しやすい箇所を抽出し、該抽出した箇所の座標データと前記位置情報取得手段において得た前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の位置情報とを比較して所定の誤差範囲内で一致した前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補をシステマティック欠陥として抽出することを特徴とする請求項9記載の欠陥観察分類装置。
- 前記システマティック欠陥抽出手段では、前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の中から、予め露光シミュレーションを用いて算出して記憶しておいたシステマティック欠陥発生位置情報と前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の設計データ上の位置情報とを比較して一致した欠陥候補をシステマティック欠陥として抽出することを特徴とする請求項9記載の欠陥観察分類装置。
- 前記位置情報取得手段は、前記データベースに記憶されているパターンの設計データから前記パターンの画像を作成し、該設計データから作成したパターンの画像と前記欠陥候補のSEM画像との位置合せを行って両画像間の位置ずれ量を求め、該求めた両画像間の位置ずれ量と前記SEM画像内の欠陥候補の位置情報とに基づいて前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補の前記パターンの設計データ上の位置情報を得ることを特徴とする請求項9記載の欠陥観察分類装置。
- 前記位置情報取得手段において前記設計データから作成したパターンの画像と前記欠陥候補のSEM画像とは、何れも被繰返しパターンの画像を含むことを特徴とする請求項12記載の欠陥観察分類装置。
- 前記システマティック欠陥抽出手段は、前記パターン形状欠陥に分類された欠陥候補のうち前記位置情報を比較することによりシステマティック欠陥として抽出されなかった欠陥候補について予め設定したシステマティック欠陥判定基準を用いて評価することにより、新たにシステマティック欠陥を抽出することを特徴とする請求項12記載の欠陥観察分類装置。
- 前記システマティック欠陥抽出手段は、前記システマティック欠陥判定基準を、前記パターンの設計データから求めたパターンの成形不良が発生しやすい箇所を含む近傍のパターンの画像を前記設計データから作成し、該作成したパターンの画像から複数配線のそれぞれの幅および配線間の距離であるパターン特徴量を求め、該求めたパターン特徴量の情報を用いて前記システマティック欠陥判定基準を作成することを特徴とする請求項14記載の欠陥観察分類装置。
- 前記システマティック欠陥抽出手段において求める前記パターン特徴量は、前記作成したパターンの画像内におけるパターンの間隔及びパターンの幅の情報を含むことを特徴とする請求項15記載の欠陥観察分類装置。
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