JP5067269B2 - マッピング分析装置 - Google Patents
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Description
(a) 試料ステージを、図12に示す「始めの照射領域A」を横切るように移動させる;
(b) その間に得られるX線信号を積算する;
(c) (b)の動作の途中、試料ステージが図12に示す画像取得位置Paに達した瞬間に、照射領域Aの画像をテレビカメラで静止画像として撮像する;
(d) 試料ステージを、図12に示す「次の照射領域B」を横切るように移動させる、
という一連の手順を、画像取得位置Pc〜Piに沿って逐次繰り返し、各照射領域を1ピクセルとするX線マップ像を得るとともに、離散的に得られた複数のテレビカメラ像をつなぎ合わせて分析範囲全体の光学的観察像を得ている。
本発明の第1の実施の形態に係るマッピング分析装置(本明細書では、マッピング機能を備えた分析装置を「マッピング分析装置」という。)は、図1に示すように、試料11の表面に複数配列されたマッピング単位領域から、それぞれ放出されるマップ像用信号を検出するマップ像用検出手段(X線検出器)28と、試料11の表面の光学的観察像を撮像支援手段21を通して連続的に撮像する撮像手段22と、撮像手段22の出力信号から同期信号や帰線期間中の信号等の光学的信号ではない部分を除去する信号補間抽出回路23aと、マップ像用信号検出手段(X線検出器)28及び信号補間抽出回路23aの出力信号を格納する画像メモリ25と、表面に平行な方向に試料11を移動させ、複数配列されたマッピング単位領域を逐次走査するX−Yステージ12と、このX−Yステージ12の動きに同期してマップ像用信号検出手段(X線検出器)28及び信号補間抽出回路23aの出力信号を画像メモリ25に取り込ませる同期制御回路27とを備えるEPMAである。なお、以下において撮像手段22としてテレビカメラを例示するが、撮像手段22はテレビカメラに限定されるものではなく、例えば、連写機能を持つディジタルカメラ等でも構わない。
本発明の第2の実施の形態に係るマッピング分析装置(マッピング機能を備えた分析装置)は、図5に示すように、試料11の表面を撮像するテレビカメラ22と、テレビカメラ22の出力信号から同期信号などの光学的信号ではない部分を除去する信号補間抽出回路23bと、電子線の照射により試料11から放出されるX線(マップ像用信号)を検出するX線検出器(マップ像用信号検出手段)28と、マップ像用信号検出手段(X線検出器)28及び信号補間抽出回路23bの出力信号を格納する画像メモリ25と、試料11を表面に平行なX−Y平面内で移動させるX−Yステージ12と、このX−Yステージ12の動きに同期してマップ像用信号検出手段(X線検出器)28及び信号補間抽出回路23bの出力信号を画像メモリ25に取り込ませる同期制御回路27を備えるEPMAである。
マッピング単位領域の大きさは、マッピング単位領域のデータ取得時間にX−Yステージ12を移動させる距離で決まるので、分析の目的に応じて異なった大きさに設定される。一方、テレビカメラ22の視野は固定である場合が多い。このため、テレビカメラ22での視野がマッピング単位領域の大きさよりも広くなる場合がある。この場合、テレビカメラ22からの信号を全てマッピング単位領域用ローパスフィルタ24に入力すると、画素外の情報が混ざって色情報に誤差が生じる。
上記のように、本発明は第1〜第3の実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面は本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
Pa〜Pi…画像取得位置
1…マップ像
1…電子銃
2…電子銃
11…試料
12…X−Yステージ
21…撮像支援手段
22…テレビカメラ
23a,23b,23c,23d…信号補間抽出回路
24…マッピング単位領域用ローパスフィルタ
25…画像メモリ
26…画像形成手段
27…同期制御回路
28…マップ像用信号検出手段(X線検出器)
29…表示装置
32…電子レンズ
231…水平走査ローパスフィルタ
232…サンプルホールド
233…帰線時間検出回路
234…直線生成回路
235…平均値生成回路
236…出力信号抽出回路
Claims (4)
- 試料の表面に複数配列されたマッピング単位領域から、それぞれ放出されるマップ像用信号を検出するマップ像用信号検出手段と、
前記試料の表面の光学的観察像を撮像するテレビカメラと、
前記テレビカメラの出力信号から、連続的に撮像している前記テレビカメラの帰線期間に対応する部分を除去する信号補間抽出回路と、
前記マップ像用信号検出手段及び前記信号補間抽出回路の出力信号を格納する画像メモリと、
前記表面に平行な方向に前記試料を移動させ、複数配列された前記マッピング単位領域を逐次走査するX−Yステージと、
該X−Yステージの動きに同期して、前記マップ像用信号検出手段及び前記信号補間抽出回路の出力信号を画像メモリに取り込ませる同期制御回路
とを備え、前記テレビカメラの視野よりも広い領域をなす前記試料の表面の光学的観察像を、前記マップ像用信号から生成されるマップ像と共に取得するマッピング分析装置。 - 前記信号補間抽出回路が、前記テレビカメラの出力信号の水平、垂直帰線時間の信号を補間する機能を更に備えることを特徴とする請求項1に記載のマッピング分析装置。
- 前記信号補間抽出回路が、前記テレビカメラの出力信号の内の一部の視野に対応した部分を切り出して取り込む機能を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のマッピング分析装置。
- 前記X−Yステージの移動の動作を前記テレビカメラのフレーム走査に同期させる同期制御回路を更に備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のマッピング分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008154449A JP5067269B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | マッピング分析装置 |
KR1020090037897A KR101094549B1 (ko) | 2008-06-12 | 2009-04-30 | 맵핑 분석 장치 |
CN2009102032561A CN101603932B (zh) | 2008-06-12 | 2009-05-31 | 映射分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008154449A JP5067269B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | マッピング分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009300232A JP2009300232A (ja) | 2009-12-24 |
JP5067269B2 true JP5067269B2 (ja) | 2012-11-07 |
Family
ID=41469752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008154449A Active JP5067269B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | マッピング分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5067269B2 (ja) |
KR (1) | KR101094549B1 (ja) |
CN (1) | CN101603932B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011169821A (ja) | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Sii Nanotechnology Inc | X線分析装置およびx線分析のマッピング方法 |
JP5684612B2 (ja) * | 2011-03-09 | 2015-03-18 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析装置 |
JP5594785B2 (ja) | 2011-08-08 | 2014-09-24 | 株式会社リガク | X線応力測定装置 |
JP6228858B2 (ja) * | 2014-02-06 | 2017-11-08 | 日本電子株式会社 | 粒子解析装置、およびプログラム |
CZ305955B6 (cs) * | 2014-12-03 | 2016-05-18 | Advacam S.R.O. | Způsob rentgenové nanoradiografie a nanotomografie a zařízení k provádění tohoto způsobu |
DE112019003029T5 (de) | 2018-06-15 | 2021-03-18 | Horiba, Ltd. | Strahlungsdetektionsvorrichtung, computerprogramm, und positionierverfahren |
JP7472512B2 (ja) * | 2020-01-31 | 2024-04-23 | 株式会社島津製作所 | 分析装置および分析装置の制御方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0252246A (ja) * | 1988-08-15 | 1990-02-21 | Tokyo Electron Ltd | X線検査装置 |
JPH05107207A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微小部分析装置の分析点の確認方法および微小部分析装置 |
JP2880012B2 (ja) * | 1991-12-27 | 1999-04-05 | 三菱電機株式会社 | ディジタルコンバーゼンス装置 |
JP3991543B2 (ja) * | 2000-01-11 | 2007-10-17 | 株式会社日立製作所 | 撮像装置 |
JP2002310954A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Shimadzu Corp | 試料解析装置 |
JP2003100247A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
JP2003173756A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Ebara Corp | 電子線装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 |
JP2003310954A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-05 | Sankyo Kk | 遊技機 |
JP4136635B2 (ja) * | 2002-12-11 | 2008-08-20 | 株式会社島津製作所 | 分析装置 |
JP4616631B2 (ja) * | 2004-12-15 | 2011-01-19 | 日本電子株式会社 | 試料分析装置 |
CN1996973A (zh) * | 2005-12-28 | 2007-07-11 | 北京三星通信技术研究有限公司 | 基于离散傅立叶变换的ofdm信道估计方法 |
-
2008
- 2008-06-12 JP JP2008154449A patent/JP5067269B2/ja active Active
-
2009
- 2009-04-30 KR KR1020090037897A patent/KR101094549B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2009-05-31 CN CN2009102032561A patent/CN101603932B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101094549B1 (ko) | 2011-12-19 |
JP2009300232A (ja) | 2009-12-24 |
CN101603932B (zh) | 2012-07-11 |
KR20090129323A (ko) | 2009-12-16 |
CN101603932A (zh) | 2009-12-16 |
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A621 | Written request for application examination |
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