JP5041509B2 - NbとVを含有する酸化物、及びその製造方法 - Google Patents
NbとVを含有する酸化物、及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5041509B2 JP5041509B2 JP2006158908A JP2006158908A JP5041509B2 JP 5041509 B2 JP5041509 B2 JP 5041509B2 JP 2006158908 A JP2006158908 A JP 2006158908A JP 2006158908 A JP2006158908 A JP 2006158908A JP 5041509 B2 JP5041509 B2 JP 5041509B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- raw material
- diffraction peak
- producing
- oxide according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title claims description 27
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 13
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 7
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 37
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 23
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 17
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 15
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 14
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 9
- NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N caesium nitrate Chemical compound [Cs+].[O-][N+]([O-])=O NLSCHDZTHVNDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 5
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 1-(2-bromo-5-chlorophenyl)-3-methylpyrazole Chemical compound N1=C(C)C=CN1C1=CC(Cl)=CC=C1Br QYIGOGBGVKONDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- SZXAQBAUDGBVLT-UHFFFAOYSA-H antimony(3+);2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [Sb+3].[Sb+3].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O SZXAQBAUDGBVLT-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- FBXVOTBTGXARNA-UHFFFAOYSA-N bismuth;trinitrate;pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Bi+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O FBXVOTBTGXARNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical group [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 vanadium alkoxide Chemical class 0.000 description 2
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUGISPSHIFXEHZ-GPJXBBLFSA-N [(3r,8s,9s,10r,13r,14s,17r)-10,13-dimethyl-17-[(2r)-6-methylheptan-2-yl]-2,3,4,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydro-1h-cyclopenta[a]phenanthren-3-yl] acetate Chemical compound C1C=C2C[C@H](OC(C)=O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2 XUGISPSHIFXEHZ-GPJXBBLFSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K antimonic acid Chemical compound O[Sb](O)(O)=O AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Inorganic materials O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRLDUDBQNVFTCA-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);trinitrate Chemical compound [Sb+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O JRLDUDBQNVFTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940036348 bismuth carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229940049676 bismuth hydroxide Drugs 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940036359 bismuth oxide Drugs 0.000 description 1
- TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K bismuth;trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Bi+3] TZSXPYWRDWEXHG-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;vanadium Chemical compound [V].ClOCl ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMZOPRQQINFLPQ-UHFFFAOYSA-H dibismuth;tricarbonate Chemical compound [Bi+3].[Bi+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O GMZOPRQQINFLPQ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- GEVPUGOOGXGPIO-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;dihydrate Chemical compound O.O.OC(=O)C(O)=O GEVPUGOOGXGPIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIYKJALVRPGQTR-UHFFFAOYSA-M oxostibanylium;chloride Chemical compound [Cl-].[Sb+]=O LIYKJALVRPGQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005464 sample preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
すなわち、本発明の第一の態様では、
[1] NbとVを含有する酸化物において、CuKα線をX線源として得られるX線回折図で回折角(2θ)が7.1±0.3°、22.4±0.5°の位置に回折ピークを持つ、酸化物
[2] NbとVを含有する酸化物が、下記式(I)で示される組成を含有する、
Nb1VaXbOn(I)
(式中、XはBi、Sbから選ばれる少なくとも一種の元素であり、a、bおよびnはNb1原子あたりの原子比を表し、a、bは各々0≦a<0.8、0.01≦b<0.8であり、nは構成金属の酸化状態によって決まる原子比である。)
前項[1]に記載の酸化物、
[3] 9.0±0.5°の位置に回折ピークをさらに持つ、前項[1]又は[2]に記載の酸化物、
[4] 4.8±0.5°の位置に回折ピークをさらに持つ、前項[1]ないし[3]のうち何れか一項に記載の酸化物、
[5] 6.3±0.5°の位置に回折ピークをさらに持つ、前項[1]ないし[4]のうち何れか一項に記載の酸化物、
[6] Cs及びRbから選ばれる少なくとも1種の元素をNb1原子に対して、0.001〜0.5含有する、前項[1]ないし[5]のうち何れか一項に記載の酸化物、
を提供する。
[7] 前項[1]ないし[6]のうち何れか一項に記載の酸化物を製造する方法であって、
Cs及びRbから選ばれる少なくとも1種の元素をNb1原子に対して、0.001〜0.5添加する工程を含む、酸化物の製造方法、
[8] Cs及びRbの炭酸塩及び/又は硝酸塩を用いる、前項[7]に記載の製造方法、
[9] 実質的に酸素を含まない不活性ガス雰囲気下で焼成する工程を含む、前項[7]又は[8]に記載の製造方法、
[10] 実質的に酸素を含まない不活性ガス雰囲気下での焼成の前に、大気下で200℃〜420℃で前焼成する工程を含む、前項[9]に記載の製造方法、
を提供する。
Nb1VaXbOn(I)
式中、XはBi、Sbから選ばれる少なくとも一種の元素であり、a、bおよびnはNb1原子あたりの原子比を表し、a、bは各々0≦a<0.8、0.01≦b<0.8である。なお、式(I)において、Nb1原子あたりの原子比であるa及びbの値は、構成元素の仕込み組成を示し、nは構成金属の酸化状態によって決まる原子比である。本発明の式(I)において、aは、好ましくは0.02≦a≦0.5、より好ましくは0.03≦a≦0.2である。bは、好ましくは0.02≦b≦0.5、より好ましくは0.03≦b≦0.2である。Xは好ましくはBiである。
シリカの重量%=100×W2/(W1+W2) (II)
Cs及びRbの原料としては、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、水酸化物、ハロゲン化物、酸化物を用いることができるが、好ましくは炭酸塩、硝酸塩である。より好ましくは、炭酸セシウム、硝酸セシウムである。
ニオブ酸をシュウ酸水溶液に溶解してニオブ原料液を調製する。このときニオブ原料液に過酸化水素水を添加してもよい。硝酸ビスマスを硝酸水溶液に溶解させてビスマス原料液を調製する。メタバナジン酸アンモニウムを水に溶解させてバナジウム原料液を調製する。ニオブ原料液にバナジウム原料液を添加して、ついでビスマス原料液を添加し、触媒原料液を調製する。
Csを添加する場合は、上記調合順序のいずれかのステップにおいて、硝酸セシウムを添加して酸化物原料液を得ることができる。
任意成分を含む酸化物を製造する場合には、上記調合順序のいずれかのステップにおいて任意成分を含む原料を添加して酸化物原料液を得ることができる。
シリカ担持酸化物を製造する場合には、上記調合順序のいずれかのステップにおいてシリカゾルを添加して酸化物原料液を得ることができる。
原料調合工程で得られた酸化物原料液を噴霧乾燥法または蒸発乾固法によって乾燥させ、乾燥粉体を得ることができる。噴霧乾燥法における噴霧化は、遠心方式、二流体ノズル方式または高圧ノズル方式を採用することができる。乾燥熱源は、スチーム、電気ヒーターなどによって加熱された空気を用いることができる。このとき熱風の乾燥機入口温度は150〜300℃が好ましい。噴霧乾燥は簡便には100℃〜300℃に加熱された鉄板上へ酸化物原料液を噴霧することによって行うこともできる。
乾燥工程で得られた乾燥粉体を焼成することによって酸化物を得ることができる。焼成は回転炉、トンネル炉、管状炉、流動焼成炉等を用い、実質的に酸素を含まない窒素等の不活性ガス雰囲気下、好ましくは、不活性ガスを流通させながら、500〜1000℃、好ましくは600〜950℃、より好ましくは800〜900℃で実施することができる。焼成時間は0.5〜5時間、好ましくは1〜3時間である。不活性ガス中の酸素濃度は、ガスクロマトグラフィー又は微量酸素分析計で測定して1000ppm以下、好ましくは、100ppm以下である。この焼成は反復することができる。この焼成の前に大気雰囲気下又は大気流通下で200℃〜420℃、好ましくは250℃〜350℃で10分〜5時間前焼成することができる。また、焼成の後に大気雰囲気下で200℃〜400℃、5分〜5時間、後焼成することもできる。
(酸化物の調製)
組成式が、Nb1V0.12Bi0.12Cs0.15Onで示される酸化物を次のようにして調製した。
水2350gにNb2O5換算で76重量%を含有するニオブ酸200g、シュウ酸二水和物[H2C2O4・2H2O]389.5gを加え、攪拌下、60℃にて加熱して溶解させた後、30℃にて冷却してニオブ原料液を得た。
硝酸ビスマス・五水和物[Bi(NO3)3・5H2O]66.6gを10重量%硝酸水溶液200gに溶解させてビスマス原料液を得た。
メタバナジン酸アンモニウム[NH4VO3]16.1gを5重量%過酸化水素水211gに溶解させてバナジウム原料液を得た。
硝酸セシウム[CsNO3]33.4gを400gの水に溶解させてセシウム原料液を得た。
ニオブ原料液にバナジウム原料液を添加し、ついでビスマス原料液を添加し、ついでセシウム原料液を添加し30分間攪拌して酸化物原料液を得た。
得られた酸化物原料液を遠心式噴霧乾燥器を用い、入口温度230℃と出口温度120℃の条件で乾燥して微小球状の乾燥粉体を得た。得られた乾燥粉体10gを250℃で2時間空気中で前焼成したのち、石英容器に充填し、350Ncc/min.の窒素ガス流通下、900℃で2時間焼成して酸化物触媒を得た。
マックサイエンス(株)製MXP−18型X線回折装置を用いてX線回折の測定を行った。試料の調製方法とX線回折の条件は以下の通りである。
酸化物約0.5gをメノウ乳鉢にとり、メノウ乳棒を用いて2分間手でに粉砕した後に分級し、粒子径53μm以下の触媒粉末を得た。得られた触媒粉末を、XRD測定用の試料台の表面にある窪み(長さ20mm、幅16mmの長方形状、深さ0.2mm)に乗せ、平板状のステンレス製スパチュラを用いて押しつけて、表面を平らにした。
X線源 :CuKα1+CuKα2、
検出器 :シンチレーションカウンター、
分光結晶 :グラファイト、
管電圧 :40kV、
管電流 :190mA、
発散スリット :1°、
散乱スリット :1°、
受光スリット :0.3mm、
スキャン速度 :1°/分、
サンプリング幅:0.02°、
スキャン法 :2θ/θ法。
X線回折図には、7.1°、22.4°の位置のピークに加えて、4.8°、6.3°、9.0°、26.6°、27.6°、46.1°の位置にピークを有していた。
(酸化物の調製)
実施例1の酸化物の調製において、250℃で2時間空気中で前焼成に代えて、330℃で2時間空気中で前焼成を行ったこと、900℃で2時間焼成に代えて、800℃で2時間焼成した以外は実施例1の酸化物の調製を反復して、組成式がNb1V0.12Bi0.12Cs0.15Onで示される酸化物を調製した。
X線回折図には22.4°、28.4°、36.7°、46.1°付近の位置にピークに加えて、4.8°、6.3°、7.1°、9.0°、27.6°の位置にピークを有していた。回折ピークをアサインメントした結果、ゲートハウスタングステンブロンズ構造と同型な構造を含む酸化物であった。
(酸化物の調製)
硝酸セシウム〔CsNO3 〕33.4gに代えて、55.7gを用いた以外は実施例1の酸化物の調製を反復して、組成式がNb1V0.12Bi0.12Cs0.25Onで示される酸化物を調製した。
X線回折図には22.4°、28.4°、36.7°、46.1°付近の位置にピークに加えて、4.8°、6.3°、7.1°、9.0°、27.6°の位置にピークを有していた。回折ピークをアサインメントした結果、ゲートハウスタングステンブロンズ構造と同型な構造を含む酸化物であった。
(酸化物の調製)
実施例3の酸化物の調製において、250℃で2時間空気中で前焼成に代えて、330℃で2時間空気中で前焼成を行ったこと、900℃で2時間焼成に代えて、800℃で2時間焼成した以外は実施例3の酸化物の調製を反復して、組成式がNb1V0.12Bi0.12Cs0.25Onで示される酸化物を調製した。
X線回折図には22.4°、28.4°、36.7°、46.1°付近の位置にピークに加えて、4.8°、6.3°、7.1°、9.0°、27.6°の位置にピークを有していた。回折ピークをアサインメントした結果、ゲートハウスタングステンブロンズ構造と同型な構造を含む酸化物であった。
Claims (10)
- NbとVを含有する酸化物において、CuKα線をX線源として得られるX線回折図で回折角(2θ)が4.8±0.5°、7.1±0.3°、22.4±0.5°の位置に回折ピークを持つ、酸化物。
- NbとVを含有する酸化物が、下記式(I)で示される組成を含有する、
Nb1VaXbOn(I)
(式中、XはBi、Sbから選ばれる少なくとも一種の元素であり、a、bおよびnはNb1原子あたりの原子比を表し、a、bは各々0<a<0.8、0.01≦b<0.8であり、nは構成金属の酸化状態によって決まる原子比である。)請求項1に記載の酸化物。 - 9.0±0.5°の位置に回折ピークをさらに持つ、請求項1又は2に記載の酸化物。
- 6.3±0.5°の位置に回折ピークをさらに持つ、請求項1ないし3のうち何れか一項に記載の酸化物。
- Cs及びRbから選ばれる少なくとも1種の元素をNb1原子に対して、0.001〜0.5含有する、請求項1ないし4のうち何れか一項に記載の酸化物。
- 請求項1ないし5のうち何れか一項に記載の酸化物を製造する方法であって、800℃〜900℃で焼成する工程を含む、酸化物の製造方法。
- 請求項5に記載の酸化物を製造する方法であって、Cs及びRbから選ばれる少なくとも1種の元素をNb1原子に対して、0.001〜0.5添加する工程を含む、酸化物の製造方法。
- Cs及びRbの炭酸塩及び/又は硝酸塩を用いる、請求項7に記載の製造方法。
- 酸素濃度1000ppm以下の不活性ガス雰囲気下で焼成する工程を含む、請求項6ないし8のうち何れか一項に記載の製造方法。
- 酸素濃度1000ppm以下の不活性ガス雰囲気下での焼成の前に、大気下で200℃〜420℃で前焼成する工程を含む、請求項9に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006158908A JP5041509B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | NbとVを含有する酸化物、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006158908A JP5041509B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | NbとVを含有する酸化物、及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007326737A JP2007326737A (ja) | 2007-12-20 |
JP5041509B2 true JP5041509B2 (ja) | 2012-10-03 |
Family
ID=38927477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006158908A Active JP5041509B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | NbとVを含有する酸化物、及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5041509B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3331629B2 (ja) * | 1991-08-08 | 2002-10-07 | 三菱化学株式会社 | アルカンよりニトリルを製造するための触媒 |
JPH0663402A (ja) * | 1992-06-18 | 1994-03-08 | Kawasaki Steel Corp | デュレンの気相接触酸化用流動触媒 |
JP3669077B2 (ja) * | 1995-10-05 | 2005-07-06 | 三菱化学株式会社 | ニトリルの製造法 |
JPH10330343A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-12-15 | Mitsubishi Chem Corp | ニトリルの製造方法 |
JP4212154B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2009-01-21 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 触媒およびこれを用いた不飽和ニトリルの製造法 |
JP2000117103A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-04-25 | Mitsubishi Chemicals Corp | アルカンを酸化するための触媒 |
JP4049363B2 (ja) * | 2000-12-22 | 2008-02-20 | 日本化薬株式会社 | アルカン酸化触媒、その製法及び不飽和酸素含有化合物の製造法 |
JP4727506B2 (ja) * | 2006-06-07 | 2011-07-20 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | ブロンズ構造を有する酸化物の製造方法 |
-
2006
- 2006-06-07 JP JP2006158908A patent/JP5041509B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007326737A (ja) | 2007-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101772247B1 (ko) | 개선된 혼합 금속 산화물 암모산화 촉매 | |
US8258073B2 (en) | Process for preparing improved mixed metal oxide ammoxidation catalysts | |
JP2002239382A (ja) | 酸化またはアンモ酸化用酸化物触媒 | |
KR101514848B1 (ko) | 아크릴로니트릴 합성용 촉매 및 아크릴로니트릴의 제조 방법 | |
JP2018164910A (ja) | 改良された選択的アンモ酸化触媒 | |
JP4727506B2 (ja) | ブロンズ構造を有する酸化物の製造方法 | |
WO2001028984A1 (fr) | Procede de production d'acrylonitrile, catalyseur utilise et procede de preparation de celui-ci | |
JP6683708B2 (ja) | 改良された混合金属酸化物アンモ酸化触媒 | |
JP4187837B2 (ja) | 不飽和ニトリル製造用触媒の製造方法 | |
JP6526062B2 (ja) | 改良された選択的アンモ酸化触媒 | |
JP4588533B2 (ja) | アクリロニトリル合成用触媒 | |
JPWO2018150797A1 (ja) | メタクリル酸製造用触媒、メタクリル酸製造用触媒前駆体、およびそれらの製造方法、メタクリル酸の製造方法、並びにメタクリル酸エステルの製造方法 | |
JP5041509B2 (ja) | NbとVを含有する酸化物、及びその製造方法 | |
JP4761461B2 (ja) | Nbを主成分とする酸化物触媒及びこれを用いた不飽和化合物の製造方法 | |
JP4212154B2 (ja) | 触媒およびこれを用いた不飽和ニトリルの製造法 | |
JP4761377B2 (ja) | ブロンズ構造を有する、Mo含有酸化物の製造方法 | |
JP4455081B2 (ja) | 酸化物触媒 | |
JP4180317B2 (ja) | 酸化反応触媒の製造方法 | |
JP2000317309A (ja) | アクリル酸製造用触媒の製造方法 | |
JP2004066024A (ja) | 酸化物触媒 | |
JP2007326036A (ja) | 酸化又はアンモ酸化用酸化物触媒 | |
JP4666336B2 (ja) | アンチモン含有複合金属酸化物の製造方法 | |
JP4610128B2 (ja) | 酸化反応触媒の製造方法 | |
JP2000288396A (ja) | 不飽和アルデヒド及び不飽和カルボン酸合成用の複合酸化物触媒の製造法 | |
JP2001300310A (ja) | 金属酸化物触媒の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090602 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120423 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120607 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120705 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120706 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5041509 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150720 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |