JP5003702B2 - マイクロ流体素子及びマイクロ流体制御方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロ流体素子の全体構成の一例を示す斜視図であり、図2は、図1におけるA−A線断面図である。
共通流路11は、Al,Ni、Cu等の金属や、セラミックス、シリコン、誘電体等の非金属等を用いて製作されている。共通流路11は、整流ユニット20から図2に示すように排出された第1の流体L1と第2の流体L2とを合流させ、それにより得られた混合体L3が出口110から排出する機能を有している。
図3は、図2の共通流路側から見た整流ユニットの全体を示す側面図である。整流ユニット20は、第1及び第2の導入管2,3毎に第1及び第2の流体L1,L2に対して螺旋流を生じさせる同一構成の整流部4a〜4p(以下、整流部4ともいう。)からなり、これらは同一平面に4段4列に等間隔に並べられている。整流部4a,4c,4f,4h,4i,4k,4n,4pには、それぞれ第1の導入管2が接続され、整流部4b,4d,4e,4g,4j,4l,4m,4oには、それぞれの第2の導入管3が接続されている。なお、整流部4a〜4pは、この数に限定されるものではなく、用途等に応じて任意の数にすることができる。
図5は、マイクロ流体素子の製造に用いられるドナー基板の構成を示す平面図である。ここでは、整流部4aを製造するものとする。まず、ステンレス等の金属からなる金属基板101を準備し、金属基板101の上に厚膜フォトレジストを塗布する。次に、作製するマイクロ流体素子1の各断面形状に対応したフォトマスクにより厚膜フォトレジストの塗布面を露光し、フォトレジストを現像して、各断面形状のポジネガ反転したレジストパターンを形成する。次に、このレジストパターンを有する金属基板101をめっき浴に浸漬し、フォトレジストに覆われていない金属基板101の表面にニッケルめっきを成長させる。
図6(a)〜(f)は、整流ユニット20の製造工程を示す図である。ここでは薄膜パターンの積層を常温接合によって行っている。「常温接合」とは、室温で原子同士を直接接合することをいう。まず、図6(a)に示すように、ドナー基板(第1の基板)100を真空槽内の図示しない下部ステージ上に配置し、ターゲット基板(第2の基板)200を真空層内の図示しない上部ステージ上に配置する。続いて、真空槽内を排気して高真空状態又は超高真空状態にする。次に、下部ステージを上部ステージに対して相対的に移動させてターゲット基板200の直下にドナー基板100の薄膜パターン1021を位置させる。次に、ターゲット基板200の表面及びドナー基板100の薄膜パターン1021の表面にアルゴン原子ビームを照射して清浄化する。
図7(a),(b),(c)は、マイクロ流体素子の流体分岐部における第1の流体及び第2の流体の流れを示す図である。整流部4a,4c,4f,4h,4i,4k,4n,4pのそれぞれの第1の導入管2には第1の流体L1が導入され、整流部4b,4d,4e,4g,4j,4l,4m,4oのそれぞれの第2の導入管3には第2の流体L2が導入される。第1及び第2の流体L1,L2は、本実施の形態の場合、ここでは微粒子(例えばトナー)を含む。
図8は、本発明の第2の実施の形態に係るマイクロ流体素子を示す断面図、図9は、図8のC−C線断面図、図10は、図8のD−D線断面図である。なお、図9及び図10においては、各整流部6,7における整流板40の図示を省略している。
本発明は、上記各実施の形態に限定されず、その要旨を変更しない範囲内で種々な変形が可能である。例えば、各実施の形態間の構成要素の組合せは任意に行うことができる。
5…第3の導入管、6…整流部、7…整流部、10…流体分岐部、10a…本体部、
11…共通流路、20…整流ユニット、30A〜30D…整流ユニット、40…整流板、
100…ドナー基板、101…金属基板、102A1〜102AM…薄膜パターン、
102B1〜102BN…薄膜パターン、102C1〜102CP…薄膜パターン、
110…出口、200…ターゲット基板
Claims (3)
- 微粒子を含む第1の流体が導入される少なくとも1つの第1の導入管と、
微粒子を含む又は含まない第2の流体が導入されると共に前記第1の導入管に隣接して配置させた少なくとも1つの第2の導入管と、
前記第1及び第2の導入管に個別に設けられ、円周方向に所定の角度ずつ変位させた複数の整流板を備えて前記第1の流体と第2の流体に同一円周方向に螺旋状の流れを生じさせる第1の整流部と、
前記第1及び第2の導入管に接続し、前記第1の導入管から前記整流部により螺旋状に流出した前記第1の流体と、前記第2の導入管から前記整流部により螺旋状に流出した第2の流体とが接触するように合流させる共通流路と、
を備えたマイクロ流体素子。 - 前記共通流路の軸方向に所定間隔で複数の場所に設置され、かつ前段と後段とで流路方向における位置が重ならないように配置されている第2の整流部をさらに有する請求項1に記載のマイクロ流体素子。
- 請求項1又は請求項2に記載のマイクロ流体素子を用いて、前記第1の流体及び前記第2の流体を個別に流して同一円周方向の螺旋状に回転させると共に、前記螺旋状にした後の前記第1の流体と前記第2の流体との界面での流れ方向が互いに逆方向で接触するように制御するマイクロ流体制御方法。
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