JP4998675B2 - 圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッド - Google Patents
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かかる態様では、誘電体前駆体膜形成部分を遮光するようにしてランプ照射を行うため、誘電体前駆体膜形成部分の昇温を緩やかにすることが可能となり、誘電体前駆体膜形成部分と誘電体前駆体膜非形成部分との昇温速度の差を減少させ、より均一な温度で誘電体前駆体膜の熱処理を行うことができる。
したがって、より均一な性質を有する圧電体膜の製造を行うことができる。
また、誘電体前駆体膜形成パターンと同様の遮光パターンを有する遮光部材を設置する簡単な作業を行うことにより、より均一な温度で誘電体前駆体膜の熱処理を行うことができる。
かかる態様では、誘電体前駆体膜の非形成パターンと同様の開口を有する遮光板を設置する簡単な作業を行うことにより、より均一な温度で誘電体前駆体膜の熱処理を行うことができる。
これによれば、赤外光の通過を許容する板状部材に遮光材が付着されてなる遮光部材を設置する簡単な作業を行うことで、より均一な性質を有する誘電体膜を製造することができる。
これによれば、赤外領域の光を遮光可能な赤外遮光部材を設置する簡単な作業を行うことで、より均一な性質を有する誘電体膜を製造することができる。
これによれば、赤外領域の光を遮光可能な赤外遮光材からなる遮光板を設置する簡単な作業を行うことで、より均一な性質を有する誘電体膜を製造することができる。
かかる態様では、所望の結晶状態の誘電体膜からなる圧電体層を有する圧電素子を備えた液体噴射ヘッドを実現できる。
図1は、本発明の熱処理方法で製造された誘電体膜を圧電素子としたインクジェット記録ヘッドを示す分解斜視図であり、図2は、図1の平面図及び断面図である。図示するように、流路形成基板10は、本実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリコンからなる、厚さ0.5〜2μmの弾性膜50が形成されている。流路形成基板10には、複数の圧力発生室12がその幅方向に並設されている。また、流路形成基板10の圧力発生室12の長手方向外側の領域には連通部13が形成され、連通部13と各圧力発生室12とが、各圧力発生室12毎に設けられたインク供給路14を介して連通されている。なお、連通部13は、後述する保護基板のリザーバ部と連通して各圧力発生室12の共通のインク室となるリザーバの一部を構成する。インク供給路14は、圧力発生室12よりも狭い幅で形成されており、連通部13から圧力発生室12に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。
まず、図3(a)に示すように、シリコンウェハである流路形成基板用ウェハ110を約1100℃の拡散炉で熱酸化し、その表面に弾性膜50を構成する二酸化シリコン膜51を形成する。なお、本実施形態では、流路形成基板10として、板厚が約625μmと比較的厚く剛性の高いシリコンウェハを用いている。
Claims (6)
- 下電極と、該下電極上に設けられた強誘電性圧電材料からなる圧電体膜と、前記圧電体膜上に設けられた上電極と、を備えた圧電素子の製造方法であって、
下電極を形成する工程と、
前記下電極上に誘電体前駆体膜を形成する工程と、
前記誘電体前駆体膜を加熱処理し結晶化させ、前記圧電体膜を形成する焼成工程と、
前記圧電体膜上に上電極を形成する工程と、を有し、
前記焼成工程において、前記誘電体前駆体膜の形成パターンと同様の遮光パターンを有する遮光部材を通してランプ照射を行うことを特徴とする圧電素子の製造方法。 - 下電極と、該下電極上に設けられた強誘電性圧電材料からなる圧電体膜と、前記圧電体膜上に設けられた上電極と、を備えた圧電素子の製造方法であって、
下電極を形成する工程と、
前記下電極上に誘電体前駆体膜を形成する工程と、
前記誘電体前駆体膜を加熱処理し結晶化させ、前記圧電体膜を形成する焼成工程と、
前記圧電体膜上に上電極を形成する工程と、を有し、
前記焼成工程において、前記誘電体前駆体膜の非形成パターンと同様の開口を有する遮光板を通してランプ照射を行うことを特徴とする圧電素子の製造方法。 - 前記遮光部材は、赤外光の通過を許容する板状部材に遮光材が付着されたものであることを特徴とする請求項1記載の圧電素子の製造方法。
- 前記遮光部材は、赤外領域の光を遮光可能な赤外遮光材であることを特徴とする請求項1又は3記載の圧電素子の製造方法。
- 前記遮光板は、赤外領域の光を遮光可能な赤外遮光材からなることを特徴とする請求項2記載の圧電素子の製造方法。
- 請求項1〜5の何れか一項に記載の製造方法によって製造された圧電素子を備えることを特徴とする液体噴射ヘッド。
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