JP4983260B2 - 超音波振動子 - Google Patents
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ダンスは物体の密度と音速の掛け算で表される。今、振動手段16の音響インピーダンスZpと気体の音響インピーダンスZaを用いると、音響整合手段17の最適な音響インピーダンスZmopは√(Za×Zp)となる。ちなみに、キャップ11の音響インピーダンスと、圧電素子10の音響インピーダンスは近い値を持ち、また、キャップ11は約0.2mmの薄いものなので、音響的にはほぼ無視できるため、振動手段16の音響インピーダンスZpは圧電素子10の音響インピーダンスとおいてもよく、その値は30×106kg/m2sである。
きるようになる。
きるようになり、これと「強度的に対応できる範囲で音響整合層に適した材質」とを複合させることで、音響整合層の特性としては、両者の間にある音響インピーダンスを実現することができる。これにより、同一性能の2つの超音波振動子による送受信で得られる受信出力が、従来の超音波振動子の約2倍以上とすることがでるという効果がある。
式(1) Si(OR1)4
式(2) R2Si(OR1)3
式(3) (R2)2Si(OR1)2
式(4) HO((R2)2SiO)nH
式(5) CH2=CR3(COOR4)
式(6) CH2=CR3(COOR5)
式(7) CH2=CR3(COOR6)
図1は本発明の超音波振動子20の構成を示す断面図である。同図において、従来の超音波振動子9と共通する構成要素に関しては同じ番号を用いる。また、それらの詳細な説明は省略する。
型体を乾燥、脱脂、焼成してセラミックス多孔体を得る製造方法で、我々が製造するものは開気孔率90%以上のものも得ることが出来る。
実現することができる。
次に無機物の乾燥ゲルの製造方法について詳しく述べる。無機物としてはシリカを用いたもので、製造方法は音響整合部材としての形ではなく、乾燥ゲル単体の製造方法として記載する。
える多孔体である。シリカ乾燥ゲル41は、オルガノシラン化合物の加水分解重合によって形成した重合体43がさらに結合して、シリカ乾燥ゲルの骨格を形成している。
7、V乾燥工程48によって形成する。以下各工程に関して詳細に説明する。
この工程では、シリカ乾燥ゲルの主原料となるオルガノシラン化合物と、これを加水分解するための水、反応溶媒、触媒を加えて出発原材料である混合溶液を作る工程である。オルガノシラン化合物は、例えば図7に示す分子配置概念図のような構造を有する。同図は非加水分解性有機基50がケイ素51に直接結合したオルガノシラン化合物49を示しており、他のオルガノシラン化合物とは加水分解が行われない。加水分解性有機基52も、直接ケイ素51に結合しており、加水分解によって他のオルガノシラン化合物と加水分解し重合する。このような構造として以下のようなものが例示できる。
これらのオルガノシラン化合物は式(5)、(6)、(7)で表される化合物を含んでいてもよい。
触媒としては、一般的な有機酸、無機酸、有機塩基、無機塩基が用いられる。有機酸として、酢酸、クエン酸など、無機酸として、硫酸、塩酸、硝酸など、有機塩基として、ピペリジンなど、無機塩基として、アンモニアなどがある。また、ピペリジン等のイミン系のものを用いれば細孔径が大きくなる効果があるため毛管力低減の観点からより好ましい。 溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等の低級アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコールのモノあるいはジエーテル、アセトン等の低級ケトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン等の低級エーテルのような水溶性有機溶媒が用いられる。また、第1ゲル原料の加水分解、縮重合でゲルが形成される場合には、加水分解に必要な水も添加される。
原料準備工程44に引き続きこの工程では、準備された混合溶液に触媒を加えて加水分解重合を促進させることによってゲルの固体骨格が形成させ、ゲルに溶剤を含んだ状態である湿潤ゲルをつくる工程である。ゲル化を促進するため、必要に応じて触媒の添加、溶液温度上昇を行う。触媒は、原料準備工程に例示してあるため省略する。なお、原料準備工程44とゲル化工程45とで触媒を特に分割して添加しなくてもよく、原料準備工程44とゲル化工程45とを1度に行っても良い。
ゲル化工程45に引き続きこの工程では、ゲル化工程45で形成された湿潤ゲルの固体骨格の一部を分解しながら、新たな固体骨格を形成する。具体的には、まず再構築工程のための再構築原料と、再構築触媒および水と、必要に応じて溶媒を添加混合することによって再構築原料溶液を調製し、これにゲル化工程で得られた湿潤ゲルを浸漬させる。この工程の処理時間、処理温度によって、シリカ乾燥ゲルの密度を調整することができる。再構築工程で用いられる再構築触媒、あるいはオルガノシラン化合物は、ゲル化工程45で例示したものを使用することができるが、特に、ゲル化工程時と同一のものである必要はない。ゲル骨格増強後、反応停止を行う目的で、再構築原料溶液を例えばイソプロピルアルコールに置換することで反応を停止させる。
再構築工程46に引き続きこの工程では、再構築工程46までに得られた湿潤ゲルの表面に、溶媒中に疎水化剤を溶解した疎水化溶液を反応させることで、疎水基を導入する。本発明に用いられる疎水化剤としては、反応性が高い点からシリル化剤が好ましく、例えばシラザン化合物、クロロシラン化合物、アルキルシラノール化合物およびアルキルアルコキシシラン化合物等がある。
のアルキルシリル基を導入することで疎水化を進行させることができる。
この工程では、疎水化工程までに得られた湿潤ゲルから溶媒を除きシリカ乾燥ゲル41を得る。
図10は、本発明第3の実施の形態におけるシリカ乾燥ゲル製造工程のオルガノシラン化合物概念図である。同図において、(a)は、まずI原料調整工程44において加水分解性有機基52のみによって構成されたオルガノシラン化合物53で原料調整し分散させたゲル原料溶液56を示しており、IIゲル化工程45にてゲル化を行う。次に、図10(b)にIII再構築工程46の概念図を示した。図10(b)において、I原料調整工程4
4およびIIゲル化工程45で形成された湿潤ゲル57に、オルガノシラン化合物53およびオルガノシラン化合物49を混合して分散させた再構築溶液58加え加水分解を行い、図10(c)に示した湿潤ゲル59が形成される。用いたオルガノシラン化合物、触媒、溶媒は実施の形態2と同様のため省略する。
図11は、乾燥ゲルの抗折強度測定治具60の断面図を示している。図11において、実施の形態2と同様の方法で作製した円板形のシリカ乾燥ゲル61を抗折強度測定治具60の測定台62に載置して、押圧棒63を一定の速度で垂直に移動し、抗折強度の測定を行った。図12はその結果を示している。
21 音響整合手段
24 セラミック多孔体
41 シリカ乾燥ゲル
49、53 オルガノシラン化合物
50 非加水分解性有機基
51 ケイ素
52 加水分解性有機基
Claims (7)
- 異なる複数の材質からなる音響整合手段と、前記音響整合手段に取り付けられた振動手段と、からなる超音波振動子において、
前記音響整合手段は、セラミック多孔体と、前記セラミック多孔体の空隙に形成された多孔体のシリカ乾燥ゲルと、から構成されるものとし、
前記セラミック多孔体は、難焼結性のセラミックス粉末を有する含気泡セラミックスラリーをゲル化して得たゲル状多孔質成型体を、乾燥、脱脂、焼成して得られるものとし、
前記シリカ乾燥ゲルは、加水分解性有機基と、非加水分解性有機基が同一のケイ素に直接結合したオルガノシラン化合物を含有するようにした超音波振動子。 - オルガノシラン化合物は、式(1)で表される化合物または、式(1)で表される化合物の加水分解重合物を含有する請求項1の超音波振動子。
式(1) Si(OR1)4 - オルガノシラン化合物は、式(1)で表される加水分解性有機基がケイ素に直接結合したものとし、その重合体と、加水分解性有機基と、非加水分解性有機基とが同一のケイ素に直接結合した別のオルガノシラン化合物とを重合した請求項1記載の超音波振動子。
- 加水分解性有機基と、非加水分解性有機基が同一のケイ素に直接結合したオルガノシラン化合物は、式(1)で表される化合物とその加水分解縮重合物の合計に対し、0.1重量%〜10重量%とした請求項3記載の超音波振動子。
- オルガノシラン化合物およびその重合体は、式(2)または式(3)で表される少なくとも一つを含む化合物を重合させ、分子量200以上とした請求項1記載の超音波振動子。
式(2) R2Si(OR1)3
式(3) (R2)2Si(OR1)2 - オルガノシラン化合物は、式(4)で表される直鎖状ポリシロキサンジオールである請求項1記載の超音波振動子。
式(4) HO((R2)2SiO)nH - オルガノシラン化合物は、式(5)と、式(6)との少なくとも一方と、式(7)で表される化合物との共重合体を含んだ請求項1記載の超音波振動子。
式(5) CH2=CR3(COOR4)
ここで、R3は水素原子及び/またはメチル基を示す。
R4は置換もしくは非置換の炭素数1〜9の1価炭化水素基である。
式(6) CH2=CR3(COOR5)
ここで、R5はエポキシ基、グリシジル基及びこれらのうち少なくとも一方を含む炭化水素基からなる群の中から選ばれる少なくとも1種の基である。
式(7) CH2=CR3(COOR6)
ここで、R6はアルコキシシリル基及び/またはハロゲン化シリル基を含む炭化水素基である。
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