JP4943255B2 - 半導体レーザの制御方法 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体レーザの制御方法に関する。
光学デバイスとして波長可変半導体レーザがあげられる。この波長可変半導体レーザは、レーザ発振に対する利得機能と波長選択機能とを備えている。波長を選択する方法としては、共振器内の光導波路に設けた回折格子などの光学的機能領域の屈折率を変化させることによって損失・反射もしくは利得の波長特性を変化させる方法があげられる。
ここで、屈折率を変化させる方法は、物理的な角度または長さを変化させる方法に比較して機械的な可動部を必要としないことから、信頼性、製造コスト等の点で有利である。屈折率を変化させる方法には、例えば、光導波路の温度を変化させる方法、電流注入等によって光導波路内のキャリア密度を変化させる方法等がある。光導波路の温度を変化させる方法を採用した波長可変レーザの具体的な例として、例えば、反射スペクトルのピーク波長が周期的に分布する部分回折格子ミラー(SG−DBR:Sampled Grating Distributed Bragg Reflector)および利得スペクトルのピーク波長が周期的に分布する部分回折格子活性領域(SG−DFB:Sampled Grating Distributed Feedback)を備える半導体レーザ等が提案されている。
この半導体レーザにおいては、部分回折格子ミラーの反射スペクトルおよび部分回折格子活性領域の利得スペクトルの相関関係を制御することによって、バーニア効果を用いた波長選択が行われてレーザ光が出力される。すなわち、この半導体レーザは、2つのスペクトルが重なった波長のうち最も反射強度の大きな波長で発振する。したがって、2つのスペクトルの相対的関係を制御することによって、発振波長を制御することができる。
特許文献1には、光導波路の屈折率を制御して発振波長を制御する半導体レーザが開示されている。特許文献1では、光導波路の屈折率の制御手段としてペルチェ素子(温度制御装置)およびヒータが採用されており、この温度制御装置およびヒータによる光導波路の温度制御によって波長の制御が実現されている。
特開平9−92934号公報
しかしながら、温度制御装置による温度制御を行った場合、上述した2つのスペクトルの変動量が互いに相違することがある。この場合、所望の発振波長が得られないおそれがある。
本発明の目的は、温度制御装置による温度制御を行った場合においても所望の発振波長が得られる、半導体レーザの制御方法を提供することを目的とする。
本発明に係る半導体レーザの制御方法は、波長特性が異なる複数の波長選択部を備え温度制御装置に搭載された半導体レーザの制御方法であって、前記複数の波長選択部の波長特性を規定値に制御する第1ステップと、前記第1ステップ後に、前記半導体レーザの出力波長の検出結果に基づいて、前記温度制御装置の温度を補正する第2ステップと、前記温度制御装置の温度補正によって変動する前記複数の波長選択部の波長特性の変動差を縮小する制御を前記複数の波長選択部の少なくとも1つに実施する第3ステップと、を含み、前記第3ステップは、前記温度制御装置の温度検知結果に基づいて実施され、前記半導体レーザの発振波長ごとに、前記第3ステップにおける制御に対して、前記温度検知結果に応じた温度補正係数が設定されていることを特徴とするものである。
本発明に係る半導体レーザの制御方法は、温度制御装置による温度変化に対し、各波長選択部の波長特性の変化量が異なることによる問題を解決するものである。すなわち、温度制御装置の温度補正に基づいて、各波長選択部における波長特性の変化量の差が小さくなるよう、1つまたは複数の波長選択部の波長特性を変化させるものである。これにより、半導体レーザの波長安定性が向上する。
また、前記複数の波長選択部の少なくとも1つは、回折格子を備えた光導波路部を備えていてもよい。また、この光導波路部は、回折格子を有する第1の領域と、前記第1の領域に連結されかつスペース部となる第2の領域と、を備えていてもよい。さらに、前記複数の波長選択部の少なくとも1つは、回折格子を備える活性領域を備えていてもよい。また、この活性領域は、回折格子を有する第1の領域と、前記第1の領域に連結されかつスペース部となる第2の領域と、を備えていてもよい。このような回折格子を利用した波長選択部は、温度変化に敏感であり、本発明を用いることは効果的である。
前記複数の波長選択部における波長特性は、波長選択部における反射スペクトルまたは利得スペクトルのいずれかとすることができる。また、これらの反射スペクトルまたは利得スペクトルは、複数の特性ピークが所定の波長間隔で周期的に生じるものであることとすることができる。なお、複数の特性ピークが飛び飛びの周期で生じている場合には、その組合せによってバーニア効果を生じさせて発振波長を選択することもできる。
また、前記波長選択部の少なくとも1つには、その等価屈折率を制御する屈折率制御手段が設けられており、前記複数の波長選択部の波長特性の変動差を縮小する制御は、当該屈折率制御手段の制御により実行されるようにしてもよい。また、前記屈折率制御手段は、ヒータまたは電流注入手段を採用することができる。
本発明によれば、温度制御装置によって温度制御した場合においても、所望の発振波長が得られる。
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
図1は、本発明の第1実施例に係る半導体レーザ10およびそれを備えたレーザ装置100の全体構成を示す模式図である。図1に示すように、レーザ装置100は、半導体レーザ10、温度制御装置20、波長検知部30、出力検知部40およびコントローラ50を備える。半導体レーザ10は、温度制御装置20上に配置されている。次に、各部の詳細を説明する。
半導体レーザ10は、SG−DBR領域11、SG−DFB領域12および半導体光増幅(SOA:Semiconductor Optical Amplifier)領域13が順に連結した構造を有する。SG−DBR領域11は、グレーティングが所定の間隔で設けられた光導波路を含む。すなわち、SG−DBR領域11の光導波路には、回折格子を有する第1の領域とこの第1の領域に連結されかつスペース部となる第2の領域とが設けられている。SG−DBR領域11の光導波路は、吸収端波長がレーザ発振波長よりも短波長側にある半導体結晶からなる。SG−DBR領域11上には、ヒータ14が設けられている。
SG−DFB領域12は、グレーティングが所定の間隔で設けられた光導波路を含む。すなわち、SG−DFB領域12の光導波路には、回折格子を有する第1の領域とこの第1の領域に連結されかつスペース部となる第2の領域とが設けられている。SG−DFB領域12の光導波路は、目的とする波長でのレーザ発振に対して利得を有する半導体結晶からなる。SG−DFB領域12上には、電極15が設けられている。SOA領域13は、電流制御によって光に利得を与える、または光を吸収するための半導体結晶からなる光導波路を含む。SOA領域13上には、電極16が設けられている。なお、SG−DBR領域11、SG−DFB領域12およびSOA領域13の光導波路は、互いに光結合している。
半導体レーザ10は、温度制御装置20上に搭載されている。また、温度制御装置20上には、温度制御装置20の温度を測定するためのサーミスタ21が設けられている。波長検知部30は、レーザ出力光の強度を測定する受光素子とエタロンを透過することによって波長特性を含んだレーザ出力光の強度を測定する受光素子とを含む。出力検知部40は、SOA領域13を通過したレーザ出力光の強度を測定する受光素子を含む。なお、図1では、SG−DBR領域11側に波長検知部30が配置されSOA領域13側に出力検知部40が配置されているが、それに限られない。例えば、各検知部が逆に配置されていてもよい。
コントローラ50は、CPU(中央演算処理装置)、RAM(ランダムアクセスメモリ)、ROM(リードオンリメモリ)等の制御部、電源等から構成される。コントローラ50のROMには、半導体レーザ10の制御情報、制御プログラム等が格納されている。制御情報は、例えば、ルックアップテーブル51およびヒータ補正テーブル52に記録されている。図2にルックアップテーブル51の例を示す。
図2に示すように、ルックアップテーブル51は、各チャネルごとに、初期設定値およびフィードバック制御目標値を含む。初期設定値には、SG−DFB領域12の初期電流値ILD、SOA領域13の初期電流値ISOA、ヒータ14の初期電流値IHeaterおよび温度制御装置20の初期温度値TLDが含まれる。フィードバック制御目標値は、出力検知部40のフィードバック制御目標値Im1および波長検知部30のフィードバック制御目標値Im3/Im2を含む。
続いて、半導体レーザ10の動作の概略について説明する。まず、コントローラ50は、ルックアップテーブル51を参照し、設定されたチャネルに対応する初期電流値ILD、初期電流値ISOA、初期電流値IHeaterおよび初期温度値TLDを取得する。次に、コントローラ50は、取得した初期設定値に基づいて半導体レーザ10をレーザ発振させる。
具体的には、まず、コントローラ50は、温度制御装置20の温度が初期温度値TLDになるように温度制御装置20を制御する。それにより、半導体レーザ10の温度が初期温度値TLD近傍の一定温度に制御される。その結果、SG−DFB領域12の光導波路の等価屈折率が制御される。次に、コントローラ50は、初期電流値IHeaterの大きさを持つ電流をヒータ14に供給する。それにより、SG−DBR領域11の光導波路の等価屈折率が所定の値に制御される。次に、コントローラ50は、初期電流値ILDの大きさを持つ電流を電極15に供給する。それにより、SG−DFB領域12の光導波路において光が発生する。その結果、SG−DFB領域12で発生した光は、SG−DBR領域11およびSG−DFB領域12の光導波路を繰返し反射および増幅されてレーザ発振する。次いで、コントローラ50は、初期電流値ISOAの大きさを持つ電流を電極16に供給する。以上の制御によって、半導体レーザ10は、設定されたチャネルに対応する初期波長でレーザ光を外部に出射する。
図3は、発振波長が選択される原理を示す図である。図3(a)は、SG−DBR領域11における反射スペクトルを示す。図3(b)は、SG−DFB領域12における利得スペクトルを示す。図3(a)および図3(b)において、横軸は波長を示し、縦軸は反射率および利得の強度を示す。
図3(a)に示すように、SG−DBR領域11の反射スペクトルにおいては、ピーク波長が所定の波長間隔で周期的に分布する。また、図3(b)に示すように、SG−DFB領域12の利得スペクトルにおいては、ピーク波長が所定の波長間隔で分布する。この利得スペクトルにおいては、中心波長から外れるにしたがって、利得ピーク強度が低下する。上記反射スペクトルおよび利得スペクトルは、温度制御装置20の温度およびヒータ14の温度によって変化する。図3(a)および図3(b)の場合、SG−DBR領域11のピーク波長の1つであるλ3がSG−DFB領域12のピーク波長と一致している。したがって、半導体レーザ10は、この波長λ3においてレーザ発振する。
ここで、何らかの原因によって発振波長が変化した場合を考える。この場合、コントローラ50は、波長検知部30が備える2つの受光素子の検知結果の比Im3/Im2が、ルックアップテーブル51から取得したフィードバック制御目標値Im3/Im2を含む所定範囲内に入るように温度制御装置20の温度を補正する。ところが、本発明者は、温度制御装置20の温度補正によるSG−DBR領域11およびSG−DFB領域12の波長特性の補正量は、必ずしも一致しないことを発見した。
図4(a)および図4(b)は、温度制御装置20の温度を変化させた場合におけるSG−DBR領域11およびSG−DFB領域12の各波長特性を示す図である。図4(a)および図4(b)の破線は、波長λ3において各領域のピーク波長が一致している場合の、反射スペクトルおよび利得スペクトルを示す。図4(a)および図4(b)の実線は、温度制御装置20の温度を変化させた場合の反射スペクトルおよび利得スペクトルを示す。図4(a)および図4(b)においては、温度制御装置20の温度を低下させた場合が図示されている。
図4(a)および図4(b)に示すように、SG−DFB領域12の利得スペクトルの変動量に比較してSG−DBR領域11の反射スペクトルの変動量が大きくなっている。なお、温度制御装置20の温度変化に対して波長特性の変動量が相違するのは、上記したSG−DBR領域11およびSG−DFB領域12の組合せの場合に限られるものではない。例えば、波長選択部として2つのSG−DBR領域を備える場合においても、SG−DBR領域それぞれの波長特性が異なる場合においては、温度制御装置の温度変化に対する波長特性の変動量は相違する。これは、温度制御装置による温度変化が、たとえ2つのSG−DBR領域に等しく生じたとしても、それぞれのSG−DBR領域は波長特性を異ならせて設けられているため、同じ温度変化に対する波長特性の振る舞いも異なるためである。すなわち、波長特性の異なる複数の波長選択部を備える場合においては、温度制御装置の温度変化に対する波長特性の変動量が異なるため、上述の場合と同様の問題が生じるのである。
加えて、波長選択部のデバイス構造の違いによっても、この問題は拡大傾向にある。例えば、波長選択部をヒータで制御する場合であれば、ヒータによる制御性を高めるためにヒータの両側に溝を形成することが考えられる。この場合、溝を形成していない他方の波長選択部は、溝を形成した波長選択部に比べて、温度制御装置からの熱伝導度が異なることとなり、これが、上記波長特性の相違を拡大する要因になる。なお、図4(a)および図4(b)においてはSG−DBR領域11の反射スペクトルの変動量がSG−DFB領域の利得スペクトルの変動量に比較して大きいが、構造によっては逆の関係になる場合もある。
図5は、波長λ3におけるSG−DBR領域11のピークおよびSG−DFB領域12のピークを拡大した図である。図5において、破線は、温度制御装置20の温度補正前のSG−DBR領域11およびSG−DFB領域12のピークを示す。図5においては、便宜上、SG−DBR領域11およびSG−DFB領域12のピークプロファイルが同等であると仮定しており、破線の場合は両者が重なっている。実線は、温度制御装置20の温度補正後のSG−DFB領域12のピークを示す。太線は、温度制御装置20の温度補正後のSG−DBR領域11のピークを示す。このように、SG−DBR領域11とSG−DFB領域12の波長特性に関する温度依存性が異なっていると、温度制御の結果は、図5に示すように、互いの波長にずれが生じる。
この場合、発振波長は、SG−DBR領域11のピークおよびSG−DFB領域12のピークが重なる波長のうち最も反射強度の大きな波長(図5では波長λ3´)となる。
ここで問題となるのは、実線のピーク強度に比較して、波長λ3´における反射強度が低下するということである。図6(a)および図6(b)に、波長λ3以外の波長での反射強度の変化を示す。
この場合、図6(c)に示すように、温度補正後における波長λ3´とλ2´の反射強度差は、温度補正前における波長λ3とλ2の反射強度差に比較して小さくなる。すなわち、温度補正後は、波長λ3´とλ2´の発振条件が近似してしまい、他のパラメータ変動などにより、発振波長が意図しないλ2´となる可能性がある。このような、波長特性の異なる複数の波長選択手段の組合せにより、バーニア効果を生じて所望とする発振条件を選択する波長制御方法は、波長選択手段の僅かな特性ずれによって、その発振条件を大きく変動させてしまう。
本実施例においては、温度制御装置20の温度制御によって生じるSG−DBR領域11の反射スペクトルおよびSG−DFB領域12の利得スペクトルの変動量の相違を、ヒータの発熱量制御によって補正する。以下、フローチャートを用いて詳細を説明する。
図7は、半導体レーザ10の制御方法の一例を示すフローチャートを示す図である。図7に示すように、まず、コントローラ50は、ルックアップテーブル51を参照し、設定されたチャネルに対応する初期電流値ILD、初期電流値ISOA、初期電流値IHeaterおよび初期温度値TLDを取得する(ステップS1)。
次に、コントローラ50は、ステップS1で取得した初期設定値に基づいて半導体レーザ10をレーザ発振させる(ステップS2)。次に、コントローラ50は、波長検知部30の検知結果に基づいて、出射されたレーザの波長が規定内にあるか否かを判定する(ステップS3)。ステップS3においてレーザの波長が規定内にあると判定されなかった場合、コントローラ50は、温度制御装置20の温度を補正する(ステップS4)。この場合、SG−DFB領域12の光導波路における利得スペクトルのピーク波長が変化する。次に、コントローラ50は、サーミスタ21の検知結果を取得する(ステップS5)。
次いで、コントローラ50は、ヒータ補正テーブル52を用いてヒータ14の温度を補正する(ステップS6)。具体的には、コントローラ50は、ステップS5において取得されたサーミスタ21の温度検知結果を監視しており、これが変化したことを判定した場合、ヒータ14の温度を補正する。図8に、ヒータ補正テーブル52を示す。図8に示すように、ヒータ補正テーブル52は、各チャネルごとに温度補正係数Cを格納している。この温度補正係数Cは、温度制御装置の温度変化量に対するヒータ14の補正値を算出するための係数である。温度制御装置20の温度が変化した場合に生じる、SG−DFB領域12とSG−DBR領域11との波長特性の変化量の差は、予め取得しておくことができる。したがって、この波長特性の変化量の差を解消するために必要なヒータ14の発熱量の制御値について、予め求めることができる。本実施例では、この考え方に基づき、温度補正係数Cを予め用意しておく。なお、各チャネルごとに温度補正係数Cを個別に用意するのは、各チャネルごとに温度補正値が異なる場合に対応させるためである。サーミスタ21の温度検知結果が変化した場合、コントローラ50は、ヒータ14の駆動電流の補正値ΔIHeaterを下記式(1)を用いて算出する。
ΔIHeater = C・(TLD´−TLD) (1)
ここで、温度補正係数Cは、温度制御前後の温度差に応じて、ヒータの発熱量を補正するための係数であり、ヒータの駆動電流を補正するために、電流量に換算して用意されるものである。なお、TLDはコントローラ50による温度変化検知前のサーミスタ21の温度、TLD´はコントローラ50による温度変化検知後のサーミスタ21の温度である。このようにして算出されたΔIHeaterは、コントローラ50が温度変化を検知する前のヒータ駆動電流値に加算され、これがヒータ14に投入される。
その後、コントローラ50は、ステップS3を再度実行する。このループにより、レーザの波長が所望の一定値に保持されるようにフィードバック制御される。なお、ステップS3においてレーザの波長が規定内にあると判定された場合、コントローラ50は、レーザ光の光強度が規定内にあるか否かを判定する(ステップS7)。具体的には、コントローラ50は、ルックアップテーブル51からフィードバック制御目標値Im1を取得するとともに出力検知部40が備える受光素子の検知結果Im1を取得し、検知結果Im1がフィードバック制御目標値Im1を含む所定範囲内にあるか否かを判定する。
ステップS7においてレーザの光強度が規定内にあると判定されなかった場合、コントローラ50は、電極16に供給する電流を補正する(ステップS8)。その後、コントローラ50は、ステップS7を再度実行する。このループにより、レーザ光の光強度が所望の一定値に保持されるようにフィードバック制御される。なお、ステップS7においてレーザの光強度が規定内にあると判定された場合、コントローラ50は、ステップS3を再度実行する。
図7のフローチャートに従えば、SG−DBR領域11およびSG−DFB領域12のピークを、温度制御装置20による温度制御前の状態に近づけることができる。それにより、半導体レーザ10は、所望の発振波長を得ることができる。なお、上記温度係数Cは、温度制御装置20の温度を変化させた場合におけるSG−DBR領域11の温度変動をあらかじめ測定することによって求めることができる。また、上記温度係数Cは、各チャネルごとに定められていてもよく、各チャネル共通の値であってもよい。さらに、ヒータ補正テーブル52は、温度制御装置20の温度補正量に対応したヒータ14の補正温度を数値として備えていてもよい。
なお、本実施例においてはSG−DBR領域とSG−DFB領域とが組み合わされた半導体レーザについて説明したが、それに限られない。例えば、1対のSG−DBR領域によって利得部となる活性領域を挟んだ半導体レーザに本発明を適用してもよい。この場合、各SG−DBR領域にそれぞれあるいは片方にヒータが設けられている。この場合、温度制御装置の温度を変化させる場合に温度補正係数を用いて各ヒータの温度を補正することができる。
また、本発明は、CSG−DBR(Chirped Sampled Grating Distributed Bragg Reflector)にも適用することができる。ここで、CSG−DBRにおいては、SG−DBRと比べて、各グレーティング同士をつなぐスペース部の間隔が異なっている。それにより、CSG−DBRの反射スペクトルにおけるピーク強度は波長依存性を有している。この場合、所定の波長範囲において反射スペクトルにおけるピーク強度が大きくなる。したがって、反射スペクトルにおけるピーク強度が大きい波長範囲の波長を発振波長として用いることによって、所望の波長以外の波長でのレーザ発振を抑制することができる。なお、CSG−DBRを用いる場合、グレーティングとスペースの組からなる各セグメントに対応してヒータを個別に設けることによって、各セグメントの温度を個別に制御することができる。
なお、上記実施例においてはヒータを用いてSG−DBR領域の反射スペクトルを変化させているが、それに限られない。例えば、SG−DBR領域の反射スペクトルを、SG−DBR領域への電流注入によって変化させてもよい。この場合、温度制御装置20による温度制御を実施する場合に、電流注入量を補正してもよい。
なお、本実施例においては、SG−DFB領域12が活性領域に相当し、SG−DBR領域11が光導波路部に相当し、SG−DFB領域12およびSG−DBR領域11が複数の波長選択部に相当する。
本発明の第1実施例に係る半導体レーザおよびそれを備えたレーザ装置の全体構成を示す模式図である。 ルックアップテーブルの一例を示す図である。 発振波長が選択される原理を示す図である。 温度制御装置の温度を変化させた場合におけるSG−DBR領域およびSG−DFB領域の各波長特性を示す図である。 波長λ3におけるSG−DBR領域のピークおよびSG−DFB領域のピークを拡大した図である。 波長λ3以外の波長での反射強度の変化を示す。 半導体レーザの制御方法の一例を示すフローチャートを示す図である。 ヒータ補正テーブルの一例を示す図である。
符号の説明
10 半導体レーザ
11 SG−DBR領域
12 SG−DFB領域
13 SOA領域
14 ヒータ
15,16 電極
20 温度制御装置
21 サーミスタ
30 波長検知部
40 出力検知部
50 コントローラ
51 ルックアップテーブル
52 ヒータ補正テーブル
100 レーザ装置

Claims (10)

  1. 波長特性が異なる複数の波長選択部を備え温度制御装置に搭載された半導体レーザの制御方法であって、
    前記複数の波長選択部の波長特性を規定値に制御する第1ステップと、
    前記第1ステップ後に、前記半導体レーザの出力波長の検出結果に基づいて、前記温度制御装置の温度を補正する第2ステップと、
    前記温度制御装置の温度補正によって変動する前記複数の波長選択部の波長特性の変動差を縮小する制御を前記複数の波長選択部の少なくとも1つに実施する第3ステップと、を含み、
    前記第3ステップは、前記温度制御装置の温度検知結果に基づいて実施され、
    前記半導体レーザの発振波長ごとに、前記第3ステップにおける制御に対して、前記温度検知結果に応じた温度補正係数が設定されていることを特徴とする半導体レーザの制御方法。
  2. 前記複数の波長選択部の少なくとも1つは、回折格子を備えた光導波路部を備えることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザの制御方法。
  3. 前記光導波路部は、回折格子を有する第1の領域と、前記第1の領域に連結されかつスペース部となる第2の領域と、を備えることを特徴とする請求項2記載の半導体レーザの制御方法。
  4. 前記波長選択部の少なくとも1つは、回折格子を備える活性領域であることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザの制御方法。
  5. 前記活性領域は、回折格子を有する第1の領域と、前記第1の領域に連結されかつスペース部となる第2の領域と、を備えることを特徴とする請求項4記載の半導体レーザの制御方法。
  6. 前記複数の波長選択部における波長特性は、波長選択部における反射スペクトルまたは利得スペクトルであることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザの制御方法。
  7. 前記反射スペクトルまたは利得スペクトルは、複数の特性ピークが所定の波長間隔で周期的に生じるものであることを特徴とする請求項6記載の半導体レーザの制御方法。
  8. 前記複数の波長選択部は、それぞれの波長特性の組合せによって生じるバーニア効果によって発振波長を選択することを特徴とする請求項7記載の半導体レーザの制御方法。
  9. 前記波長選択部の少なくとも1つには、その等価屈折率を制御する屈折率制御手段が設けられており、前記複数の波長選択部の波長特性の変動差を縮小する制御は、当該屈折率制御手段の制御により実行されることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザの制御方法。
  10. 前記屈折率制御手段は、ヒータまたは電流注入手段であることを特徴とする請求項9記載の半導体レーザの制御方法。
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