JP4938372B2 - 設備管理システム - Google Patents
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Description
前記稼働状況データから実加工時間およびロスタイムを所定期間毎に集計する集計部と、
前記集計部により得られた集計結果から前記所定期間毎の設備総合効率を算出する設備総合効率算出部と、
前記設備の改善計画情報を受け付ける受付部と、
前記設備総合効率および前記改善計画情報に従って、未来の設備総合効率を予測する予測部と、
前記予測部が予測した前記未来の設備総合効率に基づいて未来の設備負荷率を算出する設備負荷率算出部と、
前記未来の設備総合効率および前記未来の設備負荷率を含む前記複数の設備の設備管理情報を記憶する記憶部と、を備える設備管理システムが提供される。
(1)計画保全ロス(PM)
(2)故障ロス(USDT)
(3)チェンジオーバ(C−OVER)
(4)セットアップ(SET UP)
(5)テストタイム(TEST)
(6)アイドルタイム(IDLE)
(7)スピードロス(S−LOSS)
(8)リワークロス(REWORK)
(1)号機単位で実加工時間および8区分ロスタイムを含むOEEデータを集計する。なお、OEEデータは、秒/枚などの時間単位で示すことができる。
(2)機種単位でOEEデータの平均値を算出する。
これらの集計は、設備の号機単位または設備グループ10の機種単位のループ処理にて行うことができる。
(1)製品1枚当たりの必要時間=製品1枚の処理に必要な実加工時間(平均値)+8区分ロスタイム(平均値)
(2)処理能力(枚)=設備の有効稼働時間/製品一枚当たりの必要時間
(3)設備負荷率(%)=必要処理枚数(指定値)/処理枚数×100(%)
(4)必要設備台数(台)=現有台数(指定値)/設備負荷率
(1)変動OEEロス(秒/枚)=条件毎のOEEロスを各所要枚数で加重平均
(2)プロセスタイム(実加工時間)(秒/枚)=条件毎のプロセスタイムを各所要枚数で加重平均
(3)処理能力(枚)=有効稼動時間(秒)/(変動OEEロス(秒/枚)+プロセスタイム(秒/枚))
(4)所要枚数(枚)=当該設備で処理すべき枚数(枚)
(5)負荷率(%)=(所要枚数(枚)/処理能力(枚))×100(%)
(6)現有台数(台)=当該設備の現有台数(台)
(7)必要台数(台)=現有台数(台)×負荷率(%)
(8)OEEロス(%)=当該設備の変動OEEロス比率(%)+固定OEEロス比率(%)
(9)変動OEEロス比率(%)=変動OEEロス(時/枚)×単位時間当たり処理能力(枚/時・台)
(10)OEE(%)=当該設備のプロセスタイム比率(%)
(11)プロセスタイム比率(%)=プロセスタイム(時/枚)×単位時間当たり処理能力(枚/時・台)
図13は、設備Aを例としたOEE推移が安定したOEEトレンドグラフの一例を示す図である。この例のように、OEE推移が安定した例では、改善活動を実施すれば、その効果がすぐに得られる。たとえば、図6(a)の通常改善計画表166に基づいて、改善計画を設定したとする。すなわち、設備Aについて、改善時期(効果寄与時期):2005年8月1日、改善項目:チェンジオーバ、効果:5%削減する改善計画を立てた場合について説明する。
ところで、半導体製造設備において、いつもこのようにOEEが安定している訳ではなく、不安定な値を示すことも多い。図14は、設備Bを例としたOEEが継続的に上昇している場合のOEEトレンドグラフの一例を示す図である。
図15は、設備Cを例としたOEEが突発的に増減している場合のOEEトレンドグラフの一例を示す図である。この例のような突発はずれ(2005年8月15日のデータ)を含む設備Cについては、OEEデータ補正部170は、各ロス比率の管理限界値を外れた点を除外して平均値を算出する。ここで算出された値は、故障ロス比:3%、リワークロス比:18%、OEE:37%となる。また、図6(a)の通常改善計画表166に示すように、設備Cでは、改善時期(効果寄与時期):2005年12月31日、改善項目:リワークロス、効果:3%低減する計画がなされたとする。
10 設備グループ
20 稼働管理サーバ
30 ロット履歴サーバ
32 ホストコンピュータ
34 データベース用サーバ
40 OEE計測用PC
50 設備負荷率算出用PC
42 トレンドグラフ
60 WEBサーバ
70 端末
80 ネットワーク
82 ネットワーク
84 ネットワーク
86 ネットワーク
102 インタフェース部
104 登録台帳記憶部
106 データ受信部
108 時計
112 インタフェース部
114 データ送信部
120 稼働情報記憶部
122 ロット履歴情報記憶部
130 計測部
132 実加工時間記憶部
134 ロスタイム記憶部
136 集計部
138 集計結果記憶部
140 トレンドグラフ作成部
142 トレンドグラフ記憶部
144 OEEマトリックス表
150 インタフェース部
152 データ受信部
154 OEEデータ記憶部
156 データ送信部
160 改善計画記憶部
162 計画入力受付部
164 計画更新部
166 通常改善計画表
168 継続的改善計画表
170 OEEデータ補正部
172 設備負荷率算出部
174 設備負荷率記憶部
176 一覧表作成部
178 設備負荷率一覧表
180 設備AのOEE推移グラフ
182 設備CのOEE推移グラフ
184 設備BのOEE推移グラフ
Claims (6)
- 複数の設備の稼働状況を示す稼働状況データを収集する収集部と、
前記稼働状況データから実加工時間およびロスタイムを所定期間毎に集計する集計部と、
前記集計部により得られた集計結果から前記所定期間毎の設備総合効率を算出する設備総合効率算出部と、
前記設備総合効率算出部が算出した前記設備総合効率を、その経時的な傾向に基づいて補正する補正部と、
前記設備の改善計画情報を受け付ける受付部と、
前記設備総合効率および前記改善計画情報に従って、未来の設備総合効率を予測する予測部と、
前記予測部が予測した前記未来の設備総合効率に基づいて未来の設備負荷率を算出する設備負荷率算出部と、
前記未来の設備総合効率および前記未来の設備負荷率を含む前記複数の設備の設備管理情報を記憶する記憶部と、を備える設備管理システム。 - 請求項1に記載の設備管理システムにおいて、
前記記憶部は、サーバであり、
前記サーバにネットワークを介して接続された端末から前記記憶部を参照可能に接続する接続部をさらに含む設備管理システム。 - 請求項1または2に記載の設備管理システムにおいて、
前記設備総合効率のトレンドグラフを作成するグラフ作成部をさらに含み、
前記記憶部に前記トレンドグラフを記憶する設備管理システム。 - 請求項1乃至3いずれかに記載の設備管理システムにおいて、
前記設備負荷率に基づいて将来必要となる設備台数を算出する設備台数算出部をさらに含む設備管理システム。 - 請求項1乃至4いずれかに記載の設備管理システムにおいて、
前記未来の設備総合効率および前記未来の設備負荷率を含む予測結果一覧表を作成する表作成部をさらに含み、
前記記憶部に前記予測結果一覧表を記憶する設備管理システム。 - 請求項1乃至5いずれかに記載の設備管理システムにおいて、
前記設備は、半導体製造装置である設備管理システム。
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