JP4933509B2 - リソグラフィ装置および投影アセンブリ - Google Patents
リソグラフィ装置および投影アセンブリ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4933509B2 JP4933509B2 JP2008258221A JP2008258221A JP4933509B2 JP 4933509 B2 JP4933509 B2 JP 4933509B2 JP 2008258221 A JP2008258221 A JP 2008258221A JP 2008258221 A JP2008258221 A JP 2008258221A JP 4933509 B2 JP4933509 B2 JP 4933509B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- projection system
- damping
- mass
- damping structure
- projection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 87
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 62
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 45
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 26
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 13
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 23
- 230000006870 function Effects 0.000 description 21
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000036461 convulsion Effects 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F7/00—Vibration-dampers; Shock-absorbers
- F16F7/10—Vibration-dampers; Shock-absorbers using inertia effect
- F16F7/1005—Vibration-dampers; Shock-absorbers using inertia effect characterised by active control of the mass
Description
放射ビームを調整するように構成される照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付けされた放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成される支持体と、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
基板のターゲット部分上にパターン付けされた放射ビームを投影するように構成される投影システムと、
投影システムの少なくとも一部の振動を減衰する能動型制振システムであって、投影システムの位置量を測定するセンサ、および、センサにより生成される信号に依拠して投影システムに力を加えるアクチュエータの組合せを含み、投影システムに連結される制振構造体に連結される、能動型制振システムと、を備えるリソグラフィ装置が提供される。
基板のターゲット部分上にパターン付けされた放射ビームを投影するように構成される投影システムと、
投影システムの少なくとも一部の振動を減衰する能動型制振システムであって、投影システムの位置量を測定するセンサ、および、センサにより生成される信号に依拠して投影システムに力を加えるアクチュエータの組合せを含み、投影システムに連結される制振構造体に連結される、能動型制振システムと、
を備える投影アセンブリが提供される。
Claims (12)
- 放射ビームを調整するように構成される照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付けされた放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するように構成される支持体と、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付けされた放射ビームを投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムの少なくとも一部の振動を減衰する能動型制振システムと、を備え、
前記能動型制振システムは、
所定の質量を有し、ベースフレームおよび前記投影システムに対して相対的に移動可能に設けられた制振構造体と、
前記制振構造体を前記投影システムに対して相対的に移動可能に連結する弾性連結具と、
前記制振構造体に設けられ、前記制振構造体の位置量を測定するセンサと、
前記制振構造体に設けられ、前記センサにより生成される信号に依拠して前記制振構造体と前記ベースフレームとの間に力を加えるアクチュエータと、
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記弾性連結具は、緩衝バネなどのバネを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記弾性連結具のロールオフ周波数が、前記能動型制振システムの帯域に比べより低い、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制振構造体は、前記投影システムのレンズマウントまたはレンズフランジに連結される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制振構造体の質量が、前記投影システムの質量の0.001倍から0.1倍の間である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記質量は、前記投影システムの前記質量の0.001倍から0.01倍の間である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 基板のターゲット部分上にパターン付けされた放射ビームを投影するように構成される投影システムと、
前記投影システムの少なくとも一部の振動を減衰する能動型制振システムと、を備え、
前記能動型制振システムは、
所定の質量を有し、ベースフレームおよび前記投影システムに対して相対的に移動可能に設けられた制振構造体と、
前記制振構造体を前記投影システムに対して相対的に移動可能に連結する弾性連結具と、
前記制振構造体に設けられ、前記制振構造体の位置量を測定するセンサと、
前記制振構造体に設けられ、前記センサにより生成される信号に依拠して前記制振構造体と前記ベースフレームとの間に力を加えるアクチュエータと、を備える、
投影アセンブリ。 - 前記弾性連結具は、緩衝バネなどのバネを含む、請求項7に記載の投影アセンブリ。
- 前記弾性連結具のロールオフ周波数が、前記能動型制振システムの帯域に比べより低い、請求項8に記載の投影アセンブリ。
- 前記制振構造体は、前記投影システムのレンズマウントまたはレンズフランジに連結される、請求項7に記載の投影アセンブリ。
- 前記制振構造体の質量が、前記投影システムの質量の0.001倍から0.1倍の間である、請求項7に記載の投影アセンブリ。
- 前記質量は、前記投影システムの前記質量の0.001倍から0.01倍の間である、請求11に記載の投影アセンブリ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US96057907P | 2007-10-04 | 2007-10-04 | |
US60/960,579 | 2007-10-04 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012031504A Division JP5284502B2 (ja) | 2007-10-04 | 2012-02-16 | リソグラフィ装置および投影アセンブリ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009111366A JP2009111366A (ja) | 2009-05-21 |
JP4933509B2 true JP4933509B2 (ja) | 2012-05-16 |
Family
ID=40210688
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008258221A Expired - Fee Related JP4933509B2 (ja) | 2007-10-04 | 2008-10-03 | リソグラフィ装置および投影アセンブリ |
JP2012031504A Expired - Fee Related JP5284502B2 (ja) | 2007-10-04 | 2012-02-16 | リソグラフィ装置および投影アセンブリ |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012031504A Expired - Fee Related JP5284502B2 (ja) | 2007-10-04 | 2012-02-16 | リソグラフィ装置および投影アセンブリ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8203694B2 (ja) |
EP (1) | EP2045664B1 (ja) |
JP (2) | JP4933509B2 (ja) |
KR (2) | KR101155066B1 (ja) |
CN (2) | CN102096340B (ja) |
SG (2) | SG151244A1 (ja) |
TW (1) | TWI474124B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101823449B1 (ko) | 2013-07-02 | 2018-01-30 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 리소그래피 장치에 사용되는 위치설정 시스템 및 방법 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8164737B2 (en) * | 2007-10-23 | 2012-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having an active damping subassembly |
NL1036161A1 (nl) * | 2007-11-20 | 2009-05-25 | Asml Netherlands Bv | Combination of structure and an active damping system, and a lithographic apparatus. |
NL2003424A (en) * | 2008-10-07 | 2010-04-08 | Asml Netherlands Bv | Projection assembly and lithographic apparartus. |
NL2003835A (en) * | 2008-12-22 | 2010-06-23 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and control method. |
EP2447777B1 (en) * | 2010-10-27 | 2019-08-07 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus for transferring pattern from patterning device onto substrate, and damping method |
EP2469340B1 (en) | 2010-12-21 | 2021-01-06 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL2008272A (en) | 2011-03-09 | 2012-09-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus. |
CN104678711B (zh) * | 2013-11-26 | 2017-06-27 | 上海微电子装备有限公司 | 运动台反力抵消装置 |
CN107290933B (zh) * | 2016-03-30 | 2018-11-09 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种光刻机投影物镜的调平装置及调平方法 |
CN105957828B (zh) * | 2016-07-01 | 2019-07-02 | 广东工业大学 | 一种平台的定位系统及其控制方法 |
KR20190021431A (ko) * | 2016-07-22 | 2019-03-05 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 리소그래피 투영 장치 및 디바이스 제조 방법 |
CN108121166B (zh) * | 2016-11-30 | 2020-01-24 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种主动吸振器及微动台 |
DE102017002542A1 (de) * | 2017-03-16 | 2018-09-20 | Applied Materials, Inc. (N.D.Ges.D. Staates Delaware) | Vorrichtung zum Halten, Positionieren und/oder Bewegen eines Objekts |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2753893B2 (ja) * | 1990-10-05 | 1998-05-20 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
US6392741B1 (en) * | 1995-09-05 | 2002-05-21 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus having active vibration isolator and method of controlling vibration by the active vibration isolator |
JPH11230246A (ja) | 1998-02-18 | 1999-08-27 | Tokkyo Kiki Kk | アクティブ除振装置 |
WO1999053217A1 (fr) * | 1998-04-09 | 1999-10-21 | Nikon Corporation | Systeme d'elimination des vibrations et d'exposition |
JPH11325821A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-26 | Nikon Corp | ステージ制御方法および露光装置 |
JP2001102286A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-13 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2001140972A (ja) * | 1999-11-18 | 2001-05-22 | Canon Inc | 除振装置 |
JP2001148341A (ja) | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Nikon Corp | 露光装置 |
DE10062786A1 (de) * | 2000-12-15 | 2002-06-20 | Zeiss Carl | System zur Dämpfung von Schwingungen |
EP1225482A1 (en) | 2001-01-19 | 2002-07-24 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR100555930B1 (ko) * | 2001-01-19 | 2006-03-03 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그 디바이스 |
DE10106605A1 (de) * | 2001-02-13 | 2002-08-22 | Zeiss Carl | System zur Beseitigung oder wenigstens Dämpfung von Schwingungen |
US6912041B2 (en) | 2001-06-29 | 2005-06-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
DE10134387A1 (de) * | 2001-07-14 | 2003-01-23 | Zeiss Carl | Optisches System mit mehreren optischen Elementen |
EP1321822A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-06-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20030169412A1 (en) * | 2002-03-08 | 2003-09-11 | Hazelton Andrew J. | Reaction frame for a wafer scanning stage with electromagnetic connections to ground |
US6906786B2 (en) | 2002-06-07 | 2005-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2004343075A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 投影システム及びその使用方法 |
US7075623B2 (en) * | 2003-11-17 | 2006-07-11 | Asml Holding N.V. | Flexure-supported split reaction mass |
US7110083B2 (en) * | 2003-11-19 | 2006-09-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007522393A (ja) * | 2004-01-26 | 2007-08-09 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 慣性基準質量としてペイロードを使用するアクティブ振動絶縁のためのアクチュエータ配置 |
US7817243B2 (en) * | 2004-04-12 | 2010-10-19 | Asml Netherlands B.V. | Vibration isolation system |
JP2005311165A (ja) | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Canon Inc | アクティブマウントおよび露光装置 |
US7180571B2 (en) | 2004-12-08 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and actuator |
JP2006250291A (ja) | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Tokyo Univ Of Agriculture & Technology | 防振装置 |
CN1658075A (zh) * | 2005-03-25 | 2005-08-24 | 上海微电子装备有限公司 | 一种曝光装置 |
US7726452B2 (en) * | 2005-06-02 | 2010-06-01 | Technical Manufacturing Corporation | Systems and methods for active vibration damping |
JP2007120646A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Canon Inc | 制振装置およびそれを備えた露光装置 |
US20070097340A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | Nikon Corporation | Active damper with counter mass to compensate for structural vibrations of a lithographic system |
US8908144B2 (en) * | 2006-09-27 | 2014-12-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8044373B2 (en) * | 2007-06-14 | 2011-10-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8421994B2 (en) * | 2007-09-27 | 2013-04-16 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
-
2008
- 2008-10-02 EP EP08165761A patent/EP2045664B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-10-03 JP JP2008258221A patent/JP4933509B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-10-03 TW TW97138343A patent/TWI474124B/zh active
- 2008-10-03 SG SG200807527-7A patent/SG151244A1/en unknown
- 2008-10-03 SG SG201102389-2A patent/SG170831A1/en unknown
- 2008-10-03 US US12/244,879 patent/US8203694B2/en active Active
- 2008-10-06 CN CN201110039984.0A patent/CN102096340B/zh active Active
- 2008-10-06 KR KR1020080097609A patent/KR101155066B1/ko active IP Right Grant
- 2008-10-06 CN CN2008101893357A patent/CN101452222B/zh active Active
-
2012
- 2012-01-04 KR KR1020120001217A patent/KR101428619B1/ko active IP Right Grant
- 2012-02-16 JP JP2012031504A patent/JP5284502B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101823449B1 (ko) | 2013-07-02 | 2018-01-30 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 리소그래피 장치에 사용되는 위치설정 시스템 및 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101452222A (zh) | 2009-06-10 |
CN102096340A (zh) | 2011-06-15 |
EP2045664A2 (en) | 2009-04-08 |
EP2045664A3 (en) | 2012-01-04 |
JP5284502B2 (ja) | 2013-09-11 |
SG151244A1 (en) | 2009-04-30 |
US8203694B2 (en) | 2012-06-19 |
TWI474124B (zh) | 2015-02-21 |
CN101452222B (zh) | 2011-04-13 |
KR101428619B1 (ko) | 2014-08-13 |
KR101155066B1 (ko) | 2012-06-11 |
CN102096340B (zh) | 2014-03-19 |
EP2045664B1 (en) | 2013-03-06 |
US20090091725A1 (en) | 2009-04-09 |
JP2012104862A (ja) | 2012-05-31 |
JP2009111366A (ja) | 2009-05-21 |
TW200923593A (en) | 2009-06-01 |
SG170831A1 (en) | 2011-05-30 |
KR20090034782A (ko) | 2009-04-08 |
KR20120007086A (ko) | 2012-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5284502B2 (ja) | リソグラフィ装置および投影アセンブリ | |
JP4871340B2 (ja) | アクティブ制振サブアセンブリを有するリソグラフィ装置 | |
JP4954967B2 (ja) | 構造物と2以上の能動減衰システムの組合せ、リソグラフィ装置、および投影アセンブリ | |
JP5133851B2 (ja) | 能動減衰システムおよびリソグラフィ装置 | |
JP4891377B2 (ja) | 投影組立体およびリソグラフィ装置 | |
JP5323160B2 (ja) | パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するためのリソグラフィ装置、および制振方法 | |
KR20030076200A (ko) | 리소그래피장치 및 디바이스제조방법 | |
JP4824054B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6316973B2 (ja) | ステージ位置決めシステムおよびリソグラフィ装置 | |
JP2005109441A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP6741739B2 (ja) | 粒子ビーム装置 | |
JP6209234B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2011135076A (ja) | アクティブマウント、アクティブマウントを備えるリソグラフィ装置、およびアクティブマウントを調整する方法 | |
JP4740970B2 (ja) | 振動絶縁サポートデバイスを含むリソグラフィ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110816 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120117 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4933509 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150224 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |