JP5133851B2 - 能動減衰システムおよびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
vC=1/K(UC−IR)
ここで、Kはモータ定数であり、Rはアクチュエータの抵抗である。
vM=−F(1/mRs)
によって求めることができ、ここで、Fは加えられる力であり、KIに等しく、mRは反作用マス9のマスである。インターフェースマス3の絶対速度vAは、
vA=vC+vM
として計算することができる。
Claims (10)
- 構造物の少なくとも一部分の振動を減衰させる能動減衰システムであって、
前記構造物の位置量を求める計算機と、
前記求められた位置量に依存して前記構造物に力を加えるアクチュエータとを備え、
前記計算機が、アクチュエータ信号に基づいて前記構造物の前記位置量を計算し、
前記位置量の計算のために使用される前記アクチュエータ信号がクランプ電圧および電流であり、
前記アクチュエータが、反作用力が加えられる慣性反作用マスに接続され、
前記位置量が、前記構造物と前記反作用マスとの相対速度と、前記反作用マスの速度との差によって求められる前記構造物の速度である、能動減衰システム。 - インターフェースマスが前記構造物に取り付けられ、前記能動減衰システムが前記インターフェースマスに接続される、請求項1に記載の能動減衰システム。
- 前記相対速度が、前記アクチュエータのクランプ電圧と、電流と前記アクチュエータの抵抗との積との差に基づく、請求項1または2に記載の能動減衰システム。
- 前記反作用マスの速度が、前記加えられる力から求められる、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の能動減衰システム。
- 制御装置ユニットをさらに備え、前記計算機が前記制御装置ユニット内に少なくとも部分的に備えられる、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の能動減衰システム。
- 前記構造物が投影システムである、請求項1ないし5のいずれか一項に記載の能動減衰システム。
- 前記アクチュエータが圧電アクチュエータまたはローレンツアクチュエータである、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の能動減衰システム。
- 放射ビームを調節する照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えてパターニングされた放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
構造物の少なくとも一部分の振動を減衰させる能動減衰システムとを備え、前記能動減衰システムが、
前記構造物の位置量を求める計算機と、
前記求められた位置量に依存して前記構造物に力を加えるアクチュエータとを備え、
前記計算機が、アクチュエータ信号に基づいて前記構造物の前記位置量を計算し、
前記位置量の計算のために使用される前記アクチュエータ信号がクランプ電圧および電流であり、
前記アクチュエータが、反作用力が加えられる慣性反作用マスに接続され、
前記位置量が、前記構造物と前記反作用マスとの相対速度と、前記反作用マスの速度との差によって求められる前記構造物の速度である、
リソグラフィ装置。 - 前記構造物が前記投影システムである、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータが圧電アクチュエータまたはローレンツアクチュエータである、請求項8または9に記載のリソグラフィ装置。
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