JP2009130354A - 構造物と能動減衰システムとの組合せ、およびリソグラフィ装置 - Google Patents
構造物と能動減衰システムとの組合せ、およびリソグラフィ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009130354A JP2009130354A JP2008290446A JP2008290446A JP2009130354A JP 2009130354 A JP2009130354 A JP 2009130354A JP 2008290446 A JP2008290446 A JP 2008290446A JP 2008290446 A JP2008290446 A JP 2008290446A JP 2009130354 A JP2009130354 A JP 2009130354A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- actuator
- active damping
- damping system
- active
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/002—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion characterised by the control method or circuitry
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】構造物の少なくとも一部分の振動を減衰させるための能動減衰システムであって、構造物の位置量を求めるデバイスと、求められた位置量に依存して構造物に力を加えるアクチュエータとを含み、デバイスがアクチュエータ信号に基づいて構造物の位置量を計算する計算デバイスである、能動減衰システム。
【選択図】図2
Description
vC=1/K(UC−IR)
ここで、Kはモータ定数であり、Rはアクチュエータの抵抗である。
vM=−F(1/mRs)
によって求めることができ、ここで、Fは加えられる力であり、KIに等しく、mRは反作用マス9のマスである。インターフェースマス3の絶対速度vAは、
vA=vC+vM
として計算することができる。
Claims (30)
- 構造物の少なくとも一部分の振動を減衰させる能動減衰システムであって、
前記構造物の位置量を求める計算機と、
前記求められた位置量に依存して前記構造物に力を加えるアクチュエータとを備え、
前記計算機が、アクチュエータ信号に基づいて前記構造物の前記位置量を計算する、能動減衰システム。 - 前記位置量の計算のために使用される前記アクチュエータ信号がクランプ電圧および電流である、請求項1に記載の能動減衰システム。
- インターフェースマスが前記構造物に取り付けられ、前記能動減衰システムが前記インターフェースマスに接続される、請求項1に記載の能動減衰システム。
- 前記アクチュエータが、反作用力が加えられる慣性反作用マスに接続される、請求項1に記載の能動減衰システム。
- 前記位置量が、前記構造物と前記反作用マスとの相対速度と、前記反作用マスの速度との差によって求められる前記構造物の速度である、請求項4に記載の能動減衰システム。
- 前記相対速度が、前記アクチュエータのクランプ電圧と、電流と前記アクチュエータの抵抗との積との差に基づく、請求項5に記載の能動減衰システム。
- 前記反作用マスの速度が、前記統合された加えられる力から求められる、請求項5に記載の能動減衰システム。
- 制御装置ユニットをさらに備え、前記計算機が前記制御装置ユニット内に少なくとも部分的に備えられる、請求項1に記載の能動減衰システム。
- 前記構造物が投影システムである、請求項1に記載の能動減衰システム。
- 前記アクチュエータが圧電アクチュエータまたはローレンツアクチュエータである、請求項1に記載の能動減衰システム。
- 放射ビームを調節する照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えてパターニングされた放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
構造物の少なくとも一部分の振動を減衰させる能動減衰システムとを備え、前記能動減衰システムが、
前記構造物の位置量を求める計算機と、
前記求められた位置量に依存して前記構造物に力を加えるアクチュエータとを備え、
前記計算機が、アクチュエータ信号に基づいて前記構造物の前記位置量を計算する、リソグラフィ装置。 - 前記構造物が前記投影システムである、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータが圧電アクチュエータまたはローレンツアクチュエータである、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 構造物の少なくとも一部分の振動を減衰させる能動減衰システムであって、
前記構造物の位置量を求めるデバイスであって、
低周波数範囲で前記構造物の位置量を測定する第1のセンサと、
高周波数範囲で前記構造物の位置量を測定する第2のセンサと、
前記第1のセンサの第1の信号をフィルタする低域フィルタと、
前記第2のセンサの第2の信号をフィルタする高域フィルタと、
前記低域フィルタおよび前記高域フィルタの出力信号を合成して合成信号を生成する加算器とを含むデバイスと、
前記求められた位置量に依存して前記構造物に力を加えるためのアクチュエータと
を備える、能動減衰システム。 - 前記合成信号が、前記アクチュエータ用の入力信号を提供するために、制御装置ユニットの制御装置に供給される、請求項14に記載の能動減衰システム。
- 前記低域フィルタと前記高域フィルタと前記加算デバイスとが、前記制御装置ユニットの一部である、請求項15に記載の能動減衰システム。
- 前記アクチュエータが、反作用力が加えられる慣性反作用マスに接続される、請求項14に記載の能動減衰システム。
- インターフェースマスが前記構造物に取り付けられ、前記第1のセンサと前記第2のセンサと前記アクチュエータとが、前記インターフェースマスに配置される、請求項14に記載の能動減衰システム。
- 前記構造物が制御装置ユニットである、請求項14に記載の能動減衰システム。
- 前記投影システムがリソグラフィ装置の一部である、請求項19に記載の能動減衰システム。
- 前記アクチュエータが圧電アクチュエータまたはローレンツアクチュエータである、請求項14に記載の能動減衰システム。
- 構造物の少なくとも一部分の振動を減衰させる能動減衰システムであって、
前記構造物の位置量を求めるデバイスと、
低周波数範囲で、前記求められた位置量に依存して前記構造物に力を加える第1のアクチュエータと、
高周波数範囲で、前記求められた位置量に依存して前記構造物に力を加える第2のアクチュエータと
を備える、能動減衰システム。 - 前記デバイスによって求められた前記位置量に基づいて制御信号を提供する制御装置と、
前記制御信号をフィルタする低域フィルタであって、前記低域フィルタの出力信号が前記第1のアクチュエータに供給される、低域フィルタと、
前記制御信号をフィルタする高域フィルタであって、前記高域フィルタの出力信号が前記第2のアクチュエータに供給される、高域フィルタと
をさらに備える、請求項22に記載の能動減衰システム。 - 前記制御装置と前記低域フィルタと前記高域フィルタとが、制御装置ユニット内に備えられる、請求項23に記載の能動減衰システム。
- 前記第1のアクチュエータが第1の慣性反作用マスに接続され、前記第2のアクチュエータが第2の慣性反作用マスに接続され、前記第1の慣性反作用マスのマスが前記第2の慣性反作用マスのマスよりも大きい、請求項22に記載の能動減衰システム。
- インターフェースマスが前記構造物に取り付けられ、前記第1のアクチュエータと前記第2のアクチュエータとが、前記インターフェースマスに配置される、請求項22に記載の能動減衰システム。
- 前記構造物が投影システムである、請求項22に記載の能動減衰システム。
- 前記投影システムがリソグラフィ装置の一部である、請求項27に記載の能動減衰システム。
- 前記デバイスがセンサである、請求項22に記載の能動減衰システム。
- 第1および第2のアクチュエータの各々が、圧電アクチュエータまたはローレンツアクチュエータを含む、請求項22に記載の能動減衰システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US99650307P | 2007-11-20 | 2007-11-20 | |
US60/996,503 | 2007-11-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009130354A true JP2009130354A (ja) | 2009-06-11 |
JP5133851B2 JP5133851B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=40820916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008290446A Expired - Fee Related JP5133851B2 (ja) | 2007-11-20 | 2008-11-13 | 能動減衰システムおよびリソグラフィ装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8245824B2 (ja) |
JP (1) | JP5133851B2 (ja) |
NL (1) | NL1036161A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012067920A (ja) * | 2011-12-26 | 2012-04-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 振動低減装置および振動低減方法 |
JP2016106272A (ja) * | 2012-04-26 | 2016-06-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US9387925B2 (en) | 2010-02-17 | 2016-07-12 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Vibration reduction device and vibration reduction method |
JP2019049752A (ja) * | 2013-10-29 | 2019-03-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 粒子ビーム装置 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8488106B2 (en) | 2009-12-28 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
EP2447777B1 (en) * | 2010-10-27 | 2019-08-07 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus for transferring pattern from patterning device onto substrate, and damping method |
CN103765315B (zh) * | 2011-07-01 | 2016-03-30 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 具有各个主动支撑组件的光学成像布置 |
US8899393B2 (en) | 2012-06-08 | 2014-12-02 | Technical Manufacturing Corporation | Active vibration isolation system |
US10184539B2 (en) | 2014-09-30 | 2019-01-22 | Technical Manufacturing Corporation | Vibration isolation system |
US20190078643A1 (en) * | 2016-03-15 | 2019-03-14 | Technical Manufacturing Corporation | User-tuned, active vibration-isolation system |
KR20230147750A (ko) | 2017-08-15 | 2023-10-23 | 테크니컬 매뉴팩처링 코포레이션 | 바닥 피드포워드 지원을 이용한 정밀 진동-격리 시스템 |
US11543756B2 (en) | 2018-01-04 | 2023-01-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
WO2019206517A1 (en) * | 2018-04-25 | 2019-10-31 | Asml Netherlands B.V. | Pneumatic support device and lithographic apparatus with pneumatic support device |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11257417A (ja) * | 1998-03-10 | 1999-09-21 | Canon Inc | アクティブ除振装置 |
JP2001351856A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-12-21 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
JP2003009494A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-10 | Canon Inc | 能動制振装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
WO2005073592A1 (en) * | 2004-01-26 | 2005-08-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Actuator arrangement for active vibration isolation using a payload as an inertial reference mass |
WO2005085671A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Nikon Corporation | 防振装置、露光装置、及び防振方法 |
WO2006132777A2 (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Technical Manufacturing Corporation | Systems and methods for active vibration damping |
JP2007120646A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Canon Inc | 制振装置およびそれを備えた露光装置 |
JP2009127861A (ja) * | 2007-11-20 | 2009-06-11 | Asml Netherlands Bv | 構造物と2以上の能動減衰システムの組合せ、リソグラフィ装置、および投影アセンブリ |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5033028A (en) * | 1989-12-27 | 1991-07-16 | At&T Bell Laboratories | Reaction mass actuator |
US5660255A (en) * | 1994-04-04 | 1997-08-26 | Applied Power, Inc. | Stiff actuator active vibration isolation system |
JPH11230246A (ja) * | 1998-02-18 | 1999-08-27 | Tokkyo Kiki Kk | アクティブ除振装置 |
AU3167299A (en) * | 1998-04-09 | 1999-11-01 | Nikon Corporation | Vibration eliminating device and exposure system |
KR100555930B1 (ko) * | 2001-01-19 | 2006-03-03 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그 디바이스 |
US7292317B2 (en) * | 2005-06-08 | 2007-11-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating |
US8044373B2 (en) * | 2007-06-14 | 2011-10-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP2045664B1 (en) * | 2007-10-04 | 2013-03-06 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, projection assembly and active damping |
US8164737B2 (en) * | 2007-10-23 | 2012-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having an active damping subassembly |
-
2008
- 2008-11-06 NL NL1036161A patent/NL1036161A1/nl active Search and Examination
- 2008-11-10 US US12/267,809 patent/US8245824B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-13 JP JP2008290446A patent/JP5133851B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11257417A (ja) * | 1998-03-10 | 1999-09-21 | Canon Inc | アクティブ除振装置 |
JP2001351856A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-12-21 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム |
JP2003009494A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-10 | Canon Inc | 能動制振装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
WO2005073592A1 (en) * | 2004-01-26 | 2005-08-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Actuator arrangement for active vibration isolation using a payload as an inertial reference mass |
WO2005085671A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Nikon Corporation | 防振装置、露光装置、及び防振方法 |
WO2006132777A2 (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Technical Manufacturing Corporation | Systems and methods for active vibration damping |
JP2007120646A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Canon Inc | 制振装置およびそれを備えた露光装置 |
JP2009127861A (ja) * | 2007-11-20 | 2009-06-11 | Asml Netherlands Bv | 構造物と2以上の能動減衰システムの組合せ、リソグラフィ装置、および投影アセンブリ |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9387925B2 (en) | 2010-02-17 | 2016-07-12 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Vibration reduction device and vibration reduction method |
JP2012067920A (ja) * | 2011-12-26 | 2012-04-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 振動低減装置および振動低減方法 |
JP2016106272A (ja) * | 2012-04-26 | 2016-06-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US10551751B2 (en) | 2012-04-26 | 2020-02-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithography apparatus and device manufacturing method |
JP2019049752A (ja) * | 2013-10-29 | 2019-03-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 粒子ビーム装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090180092A1 (en) | 2009-07-16 |
US8245824B2 (en) | 2012-08-21 |
JP5133851B2 (ja) | 2013-01-30 |
NL1036161A1 (nl) | 2009-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5133851B2 (ja) | 能動減衰システムおよびリソグラフィ装置 | |
JP4954967B2 (ja) | 構造物と2以上の能動減衰システムの組合せ、リソグラフィ装置、および投影アセンブリ | |
JP4871340B2 (ja) | アクティブ制振サブアセンブリを有するリソグラフィ装置 | |
JP5009991B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
TWI474124B (zh) | 微影裝置,投影組件及主動阻尼 | |
JP4891377B2 (ja) | 投影組立体およびリソグラフィ装置 | |
JP4881215B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5008630B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4824054B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6316973B2 (ja) | ステージ位置決めシステムおよびリソグラフィ装置 | |
JP6741739B2 (ja) | 粒子ビーム装置 | |
JP4932866B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP5572113B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP6209234B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP2011135076A (ja) | アクティブマウント、アクティブマウントを備えるリソグラフィ装置、およびアクティブマウントを調整する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110502 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110509 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120720 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121029 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |