JP2016106272A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構築された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
1.ステップモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えられたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動させられる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MTは、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルス間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (19)
- リソグラフィ装置であって、
支持ステージと、
センサ部及び基準部を備える測定システムであって、基準フレームに対する、前記支持ステージ又は前記支持ステージ上に搭載されたコンポーネントの位置及び/又は配向を、前記基準部と相互作用する前記センサ部を用いて決定する測定システムと、を備え、
前記基準フレームが、第1の基準周波数より低い振動に対して主に単一の剛体として、かつ、第2の基準周波数より高い振動に対して主にN個の物体のシステムとして挙動するようにともに結合されたN個のサブフレームを備え、Nが1より大きい整数である、リソグラフィ装置。 - 1)前記センサ部が、前記支持ステージ又は前記支持ステージ上に搭載された前記コンポーネントに固定的に搭載され、かつ、前記基準部が、前記基準フレームに固定的に搭載される又は前記基準フレームと一体である、若しくは、
2)前記基準部が、前記支持ステージ又は前記支持ステージ上に搭載された前記コンポーネントに固定的に搭載される又は前記コンポーネントと一体であり、かつ、前記センサ部が前記基準フレームに固定的に搭載される、請求項1に記載の装置。 - 前記第1の基準周波数が、15〜60Hzの範囲内にあり、前記第2の基準周波数以下である、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記第2の基準周波数が15〜60Hzの範囲内にあり、前記第1の基準周波数以上である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第2の基準周波数が、前記基準フレームが全周波数で単一の剛体として挙動する場合、前記基準フレームに関連付けられる最小の内部固有振動数より低い、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- N=2である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- パターン付放射ビームを提供するパターニングデバイスと、
前記パターン付放射ビームを基板上に投影する投影システムと、をさらに備え、
前記支持ステージが、前記基板、前記パターニングデバイス、前記投影システムの光学要素のうち1つを支持する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。 - 前記第1の基準周波数が、前記基板のための前記支持ステージが前記リソグラフィ装置によってスキャン可能な最大周波数より高い、請求項7に記載の装置。
- 1)基準フレームに対する、前記支持ステージ又は前記支持ステージ上に搭載されたコンポーネントの位置及び/又は配向の決定を、2)同じ前記基準フレームに対するさらなるコンポーネントの位置及び/又は配向の決定と組み合わせることによって、前記リソグラフィ装置の前記さらなるコンポーネントに対する、前記支持ステージ又は前記支持ステージ上に搭載されたコンポーネントの位置及び/又は配向を決定する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記支持ステージが、投影システムによってその上にパターン付放射ビームが投影される基板を保持する基板テーブルであり、前記さらなるコンポーネントが前記投影システム又はそのコンポーネントである、請求項9に記載の装置。
- N個のサブフレーム間の結合を提供する結合システムをさらに備える、請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
- 前記結合システムが能動的である、請求項11に記載の装置。
- 前記結合システムが、複数の前記サブフレームのうち2つのサブフレーム間の相対力を測定する力センサと、前記力センサからの出力に基づいて前記2つのサブフレーム間の前記結合を適合させるコントローラと、を備える、請求項12に記載の装置。
- 前記結合システムが、複数の前記サブフレームのうち2つのサブフレーム間の相対移動を測定する移動センサと、前記移動センサからの出力に基づいて前記2つのサブフレーム間の前記結合を適合させるコントローラと、を備える、請求項12又は13に記載の装置。
- 前記結合システムが、弾性復元力を提供する弾性部材と、エネルギーを放散させる減衰部材と、を備える、請求項12〜14のいずれか1項に記載の装置。
- 前記結合システムが、前記2つのサブフレーム間の結合の適合を実行するために前記弾性部材及び前記減衰部材の一方又は両方の挙動を変化させる、請求項15に記載の装置。
- 前記結合システムが受動的である、請求項11に記載の装置。
- 前記センサ部と前記基準部との間の前記相互作用が、前記基準部から反射した放射を検出することを含む、請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
リソグラフィ装置のための支持ステージを提供するステップと、
センサ部及び基準部を備える測定システムを用いて、基準フレームに対する、前記支持ステージ又は前記支持ステージ上に搭載されたコンポーネントの位置及び/又は配向を、前記基準部と相互作用する前記センサ部を用いることによって決定するステップと、を含み、
前記基準フレームが、第1の基準周波数より低い振動に対して主に単一の剛体として、かつ、第2の基準周波数より高い振動に対して主にN個の物体のシステムとして挙動するように結合されたN個のサブフレームを備え、Nが1より大きい整数である、デバイス製造方法。
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