KR20190021431A - 리소그래피 장치, 리소그래피 투영 장치 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents

리소그래피 장치, 리소그래피 투영 장치 및 디바이스 제조 방법 Download PDF

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KR20190021431A
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한스 버틀러
버나드 마티아스 구펄트
에릭 로엘로프 룹스트라
모리스 빌렘 조제프 에티안 비크만스
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에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
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Abstract

본 발명은 리소그래피 장치에 관한 것이며, 리소그래피 장치는: 리소그래피 장치(1)를 지지면(9) 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임(10); 및 투영 시스템(20)을 포함하고, 투영 시스템(20)은: 힘 프레임(30); 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소(21); 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임(40); 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서 요소를 포함하는 적어도 하나의 센서(25); 베이스 프레임 상에서 힘 프레임을 지지하도록 구성되는 힘 프레임 지지체(31); 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임(45); 센서 프레임을 중간 프레임에 커플링하도록 구성되는 센서 프레임 커플러(41); 및 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 베이스 프레임 상에서 중간 프레임을 지지하도록 구성되는 중간 프레임 지지체(46)를 포함한다.

Description

리소그래피 장치, 리소그래피 투영 장치 및 디바이스 제조 방법
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2016년 7월 22일자로 출원된 EP 출원 제16180675.7호에 대해 우선권을 주장하며, 이러한 문헌의 내용은 원용에 의해 전체적으로 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 리소그래피 장치, 리소그래피 투영 장치 및 리소그래피 장치를 사용하여 디바이스를 제조하는 방법에 관한 것이다.
리소그래피 장치는 기판 상에, 일반적으로 기판의 타겟부 상에 원하는 패턴을 적용하는 기기이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어, 집적 회로(IC)의 제조에 사용될 수 있다. 그러한 경우, 마스크 또는 레티클이라고도 칭하는 패터닝 디바이스가 IC의 개별 층상에 형성될 회로 패턴을 생성하는 데 사용될 수 있다. 이러한 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 상의 타겟부(예를 들어, 다이의 일부, 하나의 다이 또는 수 개의 다이를 포함) 상으로 전사될 수 있다. 패턴의 전사는 전형적으로 기판 상에 제공된 방사선-감응 재료(레지스트)의 층 상으로의 이미징을 통해 이루어진다. 일반적으로, 단일 기판은 연속적으로 패터닝되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다. 종래의 리소그래피 장치는, 전체 패턴을 한번에 타겟부 상에 노광함으로써 각각의 타겟부가 조사되는 소위 스테퍼와, 주어진 방향("스캐닝"- 방향)으로 방사선 빔을 통해 패턴을 스캐닝함과 동시에 이러한 방향에 평행 또는 반평행으로 기판을 스캐닝함으로써 각각의 타겟부가 조사되는 소위 스캐너를 포함한다. 패턴을 기판 상에 임프린트함으로써 패터닝 디바이스로부터 기판으로 패턴을 전사하는 것도 가능하다.
리소그래피 장치는 종종 미러 또는 렌즈와 같은 적어도 하나의 광학 요소를 포함하는 투영 시스템을 포함한다. 조명 시스템은 패터닝 디바이스로 보내지는 방사선 빔을 컨디셔닝한다. 패터닝 디바이스로부터, 빔은 투영 시스템으로 진입하고, 투영 시스템은 방사선 빔을 기판에 전사한다.
원하는 투영 정확도를 달성하기 위해 광학 요소는 적어도 방사선 빔에 대해 정확하게 위치될 필요가 있으며, 그에 따라 기판상의 이미지의 오버레이 오차를 감소시킬 필요가 있다.
선택적으로, 투영 시스템은 다수의 광학 요소들을 포함한다. 이러한 경우, 원하는 투영 정확도를 얻기 위해서는 광학 요소들의 서로에 대한 위치를 정확하게 제어할 필요가 있다. 이러한 위치 제어는, 예를 들어 기판의 열팽창을 보상하기 위해, 하나 이상의 광학 요소가 스캐닝 동작을 수행하는 것이 요구될 때 더욱 복잡해진다.
양호한 투영 정확도를 얻을 수 있는 리소그래피 장치 및 리소그래피 투영 장치를 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 리소그래피 장치가 제공되며, 이러한 장치는: 리소그래피 장치를 지지면 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임; 및 투영 시스템을 포함하고, 투영 시스템은: 힘 프레임; 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소; 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임; 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서 요소를 포함하는 적어도 하나의 센서; 베이스 프레임 상에서 힘 프레임을 지지하도록 구성되는 힘 프레임 지지체; 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임; 센서 프레임을 중간 프레임에 커플링하도록 구성되는 센서 프레임 커플러; 및 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 베이스 프레임 상에서 중간 프레임을 지지하도록 구성되는 중간 프레임 지지체를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면 리소그래피 장치가 제공되는데, 이러한 장치는: 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성되는 조명 시스템; 패터닝된 방사선 빔을 형성하도록 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성되는 지지체; 리소그래피 장치를 지지면 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임; 기판을 유지하도록 구성되는 기판 테이블; 및 패터닝된 방사선 빔을 기판의 타겟부 상으로 투영하도록 구성되는 투영 시스템을 포함하고, 투영 시스템은: 힘 프레임; 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소; 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임; 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서; 힘 프레임과 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 힘 프레임 지지체; 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임; 센서 프레임과 중간 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 센서 프레임 커플러; 및 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 중간 프레임과 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 중간 프레임 지지체를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면 패터닝 디바이스로부터의 패턴을 기판 상으로 투영하도록 구성되는 리소그래피 투영 장치가 제공되는데, 이러한 리소그래피 투영 장치는: 리소그래피 장치를 지지면 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임; 및 투영 시스템을 포함하고, 투영 시스템은: 힘 프레임; 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소; 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임; 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서; 힘 프레임과 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 힘 프레임 지지체; 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임; 센서 프레임과 중간 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 센서 프레임 커플러; 및 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 중간 프레임과 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 중간 프레임 지지체를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예로서 디바이스 제조 방법이 제공되며, 이는 본 발명에 따른 리소그래피 장치를 이용하여, 패터닝 디바이스로부터의 패턴을 기판 상으로 전사하는 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예로서 디바이스 제조 방법이 제공되며, 이는 본 발명에 따른 리소그래피 장치를 이용하여, 패터닝된 방사선 빔을 기판 상으로 투영하는 단계를 포함한다.
이제 본 발명의 실시예에 관해, 대응하는 도면 부호가 상응하는 부분을 나타내는 첨부된 개략적인 도면을 참조로 하여 단지 예시의 목적으로 설명할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 나타내고,
도 2는 본 발명에 따른 리소그래피 장치의 제1 실시예를 개략적으로 나타내며,
도 3는 본 발명에 따른 리소그래피 장치의 제2 실시예를 개략적으로 나타내며,
도 4는 본 발명에 따른 리소그래피 장치의 제3 실시예를 개략적으로 나타내며,
도 5는 본 발명에 따른 리소그래피 장치의 제4 실시예를 개략적으로 나타내며,
도 6는 본 발명에 따른 리소그래피 장치의 제5 실시예를 개략적으로 나타낸다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 나타낸다. 이러한 장치는 방사선 빔(B)(예를 들어, UV 방사선 또는 임의의 다른 적절한 방사선)을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템(조명기)(IL), 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고 특정 파라미터들에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치설정하도록 구성된 제1 위치설정 디바이스(PM)에 연결되는 마스크 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT)를 포함한다. 또한, 상기 장치는 기판(예를 들어, 레지스트 코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하고 특정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치설정하도록 구성된 제2 위치설정 디바이스(PW)에 연결되는 기판 테이블(예컨대, 웨이퍼 테이블)(WT) 또는 "기판 지지체"를 포함한다. 상기 장치는 기판(W)의 타겟부(C)(예를 들어, 하나 이상의 다이를 포함) 상에 패터닝 디바이스(MA)에 의해 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영 시스템(예를 들어, 굴절형 투영 렌즈 시스템)(PS)을 더 포함한다.
조명 시스템은 방사선을 지향, 성형 또는 제어하기 위해 굴절형, 반사형, 자기형, 전자기형, 정전기형 또는 기타 다른 유형의 광학 컴포넌트 또는 이들의 조합과 같은 다양한 유형의 광학 컴포넌트를 포함할 수 있다.
마스크 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 지지, 즉 그 무게를 지탱한다. 이는 패터닝 디바이스의 배향, 리소그래피 장치의 설계, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에 유지되는지의 여부와 같은 다른 조건에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스를 유지한다. 마스크 지지 구조체는 기계식, 진공식, 정전기식 또는 다른 클램핑 기술을 사용하여 패터닝 디바이스를 유지할 수 있다. 마스크 지지 구조체는 필요에 따라 고정되거나 이동할 수 있는, 예를 들어 프레임 또는 테이블일 수 있다. 마스크 지지 구조체는 패터닝 디바이스가 예를 들어 투영 시스템에 대해 원하는 위치에 있도록 보장할 수 있다. 본 명세서에서 "레티클" 또는 "마스크"라는 용어의 어떠한 사용도 "패터닝 디바이스"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는 데 사용될 수 있는 임의의 디바이스를 지칭하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은, 예를 들어 패턴이 위상-시프팅 피처 또는 소위 어시스트 피처를 포함하는 경우, 기판의 타겟부에서의 원하는 패턴과 정확히 일치하지 않을 수 있다는 점에 주목해야 한다. 일반적으로, 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성되는 디바이스의 특정 기능 층에 해당할 것이다.
패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예는 마스크, 프로그램 가능한 미러 어레이 및 프로그램 가능한 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피에서 잘 알려져 있으며 바이너리, 교번 위상 시프트 및 감쇠 위상 시프트와 같은 마스크 유형은 물론 다양한 하이브리드 마스크 유형을 포함한다. 프로그램 가능한 미러 어레이의 예는 입사하는 방사선 빔을 다양한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있는 작은 미러의 매트릭스 배열을 채용한다. 기울어진 미러는 미러 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.
본 명세서에서 사용된 "투영 시스템"이라는 용어는, 사용되는 노광 방사선에 적합하거나 액침액의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 요인들에 대해 적합한 것으로서, 굴절형, 반사형, 반사굴절형, 자기형, 전자기형 및 정전기형 광학 시스템 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 임의의 유형의 투영 시스템을 포괄하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서에서 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영 시스템"이라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.
도시된 바와 같이, 상기 장치는 투과형(예를 들어, 투과형 마스크를 채택)이다. 대안적으로, 상기 장치는 반사형(예를 들어, 상기 언급된 바와 같은 유형의 프로그램 가능한 미러 어레이를 채택하거나, 반사형 마스크를 채택)일 수 있다.
리소그래피 장치는 2개(듀얼 스테이지) 또는 그 이상의 기판 테이블 또는 "기판 지지체"(및/또는 2개 이상의 마스크 테이블 또는 "마스크 지지체")를 갖는 형태일 수 있다. 이러한 "다중 스테이지" 기기에서는 추가적인 테이블 또는 지지체를 병행하여 사용할 수 있으며, 또는 하나 이상의 다른 테이블 또는 지지체를 노광용으로 사용하면서 하나 이상의 테이블 또는 지지체 상에서 준비 단계를 수행할 수 있다.
또한, 리소그래피 장치는 투영 시스템과 기판 사이의 공간을 채우기 위해, 기판의 적어도 일부가 비교적 높은 굴절률을 갖는 액체, 예를 들어 물에 의해 덮일 수 있는 유형일 수 있다. 또한, 액침액은 리소그래피 장치의 다른 공간, 예를 들어, 마스크와 투영 시스템 사이에 적용될 수 있다. 액침 기술은 투영 시스템의 개구수를 증가시키는 데 사용될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 "액침"이라는 용어는 기판과 같은 구조체가 액체에 잠겨야 함을 의미하는 것이 아니라 오히려 액체가 노광 중에 투영 시스템과 기판 사이에 위치한다는 것을 의미한다.
도 1을 참조하면, 조명기(IL)는 방사선 소스(SO)로부터 방사선 빔을 수광한다. 예를 들어, 방사선 소스가 엑시머 레이저인 경우, 방사선 소스 및 리소그래피 장치는 별개의 개체일 수 있다. 그러한 경우에, 방사선 소스는 리소그래피 장치의 일부를 형성하는 것으로 여겨지지 않으며, 방사선 빔은 예를 들어 적절한 지향 미러 및/또는 빔 확장기를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로 방사선 소스(SO)로부터 조명기(IL)로 전달된다. 이와 다른 경우, 예를 들어 방사선 소스가 수은 램프인 경우, 소스는 리소그래피 장치에 통합된 부분일 수 있다. 방사선 소스(SO) 및 조명기(IL)는 필요에 따라 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템으로 지칭될 수 있다.
조명기(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하도록 구성된 조정기(AD)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 조명기의 퓨필 평면 내의 세기 분포의 적어도 외측 반경 및/또는 내측 반경 치수(일반적으로 각각 외측-σ 및 내측-σ로 지칭 됨)가 조정될 수 있다. 또한, 조명기(IL)는 집속기(IN) 및 집광기(CO)와 같은 다양한 다른 컴포넌트들을 포함할 수 있다. 조명기는 단면에 원하는 균일성과 세기 분포를 갖도록 방사선 빔을 컨디셔닝하는 데 사용될 수 있다.
방사선 빔(B)은 마스크 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블(MT)) 상에 유지되는 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크(MA)) 상에 입사되고, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 마스크(MA)를 거친 후에, 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하게 되며, 투영 시스템(PS)은 기판(W)의 타겟부(C) 상으로 빔을 포커싱한다. 제2 위치설정 디바이스(PW) 및 위치 센서(IF)(예를 들어, 간섭계 디바이스, 선형 인코더 또는 용량성 센서)의 도움으로, 기판 테이블(WT)은 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로에 다양한 타겟부(C)를 위치설정하도록 정확하게 이동될 수 있다. 마찬가지로, 제1 위치설정 디바이스(PM) 및 또 다른 위치 센서(도 1에는 명확히 도시되지는 않음)가, 예를 들어 마스크 라이브러리로부터의 기계적 회수 후에, 또는 스캔 중에, 방사선 빔(B)의 경로에 대해 마스크(MA)를 정확히 위치설정하는 데 사용될 수 있다. 일반적으로, 마스크 테이블(MT)의 이동은 제1 위치설정 디바이스(PM)의 일부를 형성하는 롱-스트로크 모듈(개략적 위치설정) 및 숏-스트로크 모듈(미세 위치설정)의 도움으로 실현될 수 있다. 유사하게, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 이동은 제2 위치설정기(PW)의 일부를 형성하는 롱-스트로크 모듈 및 숏-스트로크 모듈을 사용하여 실현될 수 있다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 마스크 테이블(MT)은 숏-스트로크 액츄에이터에만 연결되거나 고정될 수 있다. 마스크(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬 마크(M1, M2) 및 기판 정렬 마크(P1, P2)를 사용하여 정렬될 수 있다. 도시된 바와 같이 기판 정렬 마크가 전용화된 타겟부를 점유하지만, 이들은 타겟부 사이의 공간에 위치할 수도 있다(이들은 스크라이브- 레인 정렬 마크(scribe-lane alignment mark)로 알려져 있다). 유사하게, 둘 이상의 다이가 마스크(MA) 상에 제공되는 상황에서, 마스크 정렬 마크는 다이 사이에 위치될 수 있다.
도시된 장치는 다음 모드들 중 적어도 하나로 사용될 수 있다:
1. 스텝 모드에서는, 방사선 빔에 부여된 전체 패턴이 한번에 타겟부(C) 상에 투영되는 동안, 마스크 테이블(MT) 또는 "마스크 지지체" 및 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"는 실질적으로 정지 상태로 유지된다(단일 정적 노광). 그 다음, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"는 상이한 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다. 스텝 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 정적 노광으로 이미징된 타겟부(C)의 크기를 제한한다.
2. 스캔 모드에서는, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안, 마스크 테이블(MT) 또는 "마스크 지지체" 및 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"는 동기적으로 스캐닝된다(즉, 단일 동적 노광). 마스크 테이블(MT) 또는 "마스크 지지체"에 대한 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 배율(축소율) 및 이미지 반전 특성에 의해 결정될 수 있다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광에서 타겟부의 (비-스캐닝 방향으로의)폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.
3. 또 다른 모드에서, 마스크 테이블(MT) 또는 "마스크 지지체"는 프로그램 가능한 패터닝 디바이스를 유지하면서 실질적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"가 이동 또는 스캐닝된다. 이러한 모드에서는, 일반적으로 펄스형 방사선 소스가 채용되고, 프로그램 가능 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 각각의 이동 후에 또는 스캔 중에 연속적인 방사선 펄스 사이에서 필요에 따라 업데이트된다. 이러한 동작 모드는 상술한 바와 같은 유형의 프로그램 가능한 미러 어레이 등의 프로그램 가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크 없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
상술된 사용 모드들의 조합 및/또는 변형 또는 완전히 다른 사용 모드들이 또한 채용될 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 리소그래피 장치(1)의 제1 실시예를 나타낸다.
리소그래피 장치(1)는 베이스 프레임(10)을 포함한다. 베이스 프레임(10)은 지지면(9) 상에 리소그래피 장치(1)를 장착하기에 적합하다. 지지면(9)은 예를 들어 공장 바닥, 기초 또는 받침대일 수 있다. 베이스 프레임(10)은 도 2에서 스프링(8)에 의해 개략적으로 나타낸 하나 이상의 지지체에 의해 지지면 상에 선택적으로 배치된다.
리소그래피 장치(1)는 투영 시스템(20)을 더 포함한다. 투영 시스템(20)은 적어도 하나의 광학 요소(21)를 포함하며, 이는 본 예에서 미러이다.
투영 시스템(20)은 힘 프레임(30)을 더 포함한다. 도 2에 도시된 실시예에서, 광학 요소(21)는 자기 중력 보상기(24)에 의해 힘 프레임 상에 지지된다. 액추에이터(22)는, 예를 들어 광학 요소(21)의 위치를 제어하거나 광학 요소(21)가 스캐닝 동작을 수행할 수 있도록, 광학 요소(21)를 이동시키기 위해 제공된다. 탄성 장착된 반응 질량체(23)가 액추에이터(22)에 제공된다. 선택적으로, 반응 질량체(23)에는 진동 격리기가 제공된다. 광학 요소(21)는 힘 프레임(30)에 대해 이동 가능하다.
투영 장치(20)는 센서 프레임(40)을 더 포함한다. 센서 프레임(40)은 힘 프레임(30)과 분리되어 있다. 따라서 힘 프레임(30)은 센서 프레임(40)과는 독립적으로 이동될 수 있다. 힘 프레임(30)이 이동되거나 변형될 때, 이러한 이동 또는 변형은 센서 프레임(40)으로 직접 전달되지 않는다. 이러한 배치는 힘 프레임(30)과 센서 프레임(40) 사이의 추가적인 단절을 제공하여, 힘 프레임(30)의 진동, 힘 및 변형이 센서 프레임(40)으로 전달되지 않거나 또는 적어도 보다 적게 전달되도록 한다.
투영 시스템은 센서를 더 포함한다. 센서는 센서 프레임(40) 상에 배치되는 적어도 하나의 센서 요소(25)를 포함한다. 센서는 광학 요소(21)를 모니터링하도록 되어 있다.
선택적으로, 센서는 센서 프레임(40)에 대한 광학 요소(21)의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성된다. 센서는 예를 들어 간섭계 장치, (예컨대, 선형 인코더를 포함하는) 인코더-기반 장치 또는 용량성 센서를 포함할 수 있다.
센서는 선택적으로 센서 송신기/수신기 요소 및 센서 타겟 요소를 포함한다. 센서가 인코더 기반 디바이스인 경우, 센서는 선택적으로, 예를 들어 광학 요소(21) 상에 배치되는 격자, 예컨대 1 차원 또는 2 차원 격자와, 빔 소스 및 격자로부터 빔을 수광하도록 구성되는 적어도 하나의 수신기 요소를 포함하는 인코더 헤드를 포함하며, 인코더 헤드는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배열된다. 대안적으로, 격자는 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있으며, 인코더 헤드는 광학 요소(21) 상에 배치될 수 있다.
센서가 간섭계 기반인 경우, 센서는, 예를 들어 광학 요소(21) 상에 배치되는 미러 요소, 광학 빔을 위한 소스 및 미러 요소로부터 빔을 수광하도록 구성되는 수신기를 포함한다. 광학 빔을 위한 소스는 광학 빔이 광학 요소(21) 상의 미러 요소와 충돌하도록 배열된다. 대안적으로, 미러 요소는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있다.
리소그래피 장치(1)는 베이스 프레임(10) 상에서 힘 프레임(30)을 지지하도록 구성된 힘 프레임 지지체(31)를 더 포함한다.
또한, 리소그래피 장치(1)는 힘 프레임(30)과 분리되어 있는 중간 프레임(45)을 포함한다. 따라서 힘 프레임(30)은 중간 프레임(45)과는 독립적으로 이동될 수 있다. 힘 프레임(30)이 이동되거나 변형될 때, 이러한 이동 또는 변형은 중간 프레임(45)으로 직접 전달되지 않는다. 이러한 배치는 힘 프레임(30)과 센서 프레임(40) 사이의 추가적인 단절을 제공하여, 힘 프레임(30)의 진동, 힘 및 변형이 센서 프레임(40)으로 전달되지 않거나 또는 적어도 보다 적게 전달되도록 한다. 도 2의 실시예에서, 중간 프레임(45)은 센서 프레임(40) 아래에 배치되지만, 대안적인 실시예에서는 중간 프레임(45)이 센서 프레임(40) 위에 배치될 수 있다.
센서 프레임(40)은 센서 프레임 커플러(41)에 의해 중간 프레임(45)에 커플링된다. 센서 프레임 커플러(41)는 예를 들어, 진동 격리기를 갖는 센서 프레임 지지체 또는 자기 중력 보상기와 같은 자기 커플링 디바이스일 수 있거나 이를 포함할 수 있다.
중간 프레임(45)은 힘 프레임 지지체(31)와는 분리되어 있는 중간 프레임 지지체(46)에 의해 베이스 프레임(10) 상에 지지된다.
이러한 배치는, 예컨대 힘 프레임(30)에 대한 광학 요소(21)의 이동에 의해(예를 들어 광학 요소(21)를 빔에 대해 또는 투영 시스템의 다른 광학 요소들에 대해 위치설정하기 위해, 또는 광학 요소(21) 상에 부여되는 스캐닝 운동으로 인해) 야기되는 힘 프레임(30)의 이동 및 변형이 센서 프레임(40)으로 직접 전달되지 않도록 한다. 이러한 배치는 힘 프레임(30)과 센서 프레임(40) 사이의 추가적인 단절을 제공하여, 힘 프레임(30)의 진동, 힘 및 변형이 센서 프레임(40)으로 전달되지 않거나 또는 적어도 보다 적게 전달되도록 한다. 이는 센서 프레임(40)의 안정성 및 위치 정확도를 높여, 예를 들어 광학 요소(21)의 위치를 보다 정확하게 결정할 수 있게 한다. 광학 요소(21)의 위치의 보다 정확한 결정에 의해, 광학 요소(21)를 보다 정확하게 위치설정할 수 있고, 이는 투영 정확도를 높이며 그에 따라 오버레이를 감소시킨다.
또한, 베이스 프레임(10)에 대한 힘 프레임(30)으로부터의 진동 격리 및 베이스 프레임(10)으로부터의 센서 프레임의 진동 격리가 서로 독립적으로 최적화될 수 있다. 이는, 이들 서브 시스템 각각에 있어서의 특정 요건 및 상황을 고려하여, 힘 프레임(30) 및 센서 프레임(40)의 진동 격리의 특유의 최적화를 개별적으로 허용한다. 예를 들어, 힘 프레임(30)의 진동 격리는 광학 요소(21)의 상대적으로 큰 변위를 수용하도록(예를 들어, 광학 요소(21)의 스캐닝 운동이 요구되는 경우) 설계될 수 있는 한편, 이와 동시에 센서 프레임(40)에는 비교적 낮은 주파수에서 높은 수준의 진동 격리가 제공될 수 있다. 본 발명을 적용함으로써, 때로는 상충되는 요건 사이에서 타협을 할 필요가 없다.
본 발명은 이러한 종류의 개별 최적화를 허용하기 때문에, 센서 프레임(40)의 안정성 및 위치설정 정확도가 증가될 수 있다. 반복하자면, 이에 의해 광학 요소(21)의 위치를 보다 정확하게 결정할 수 있고, 광학 요소(21)의 위치의 보다 정확한 결정에 의해 광학 요소(21)를 보다 정확하게 위치설정할 수 있으며, 이는 투영 정확도를 높이고 그에 따라 오버레이를 감소시킨다.
도 2의 실시예에서, 힘 프레임 지지체(31)는 진동 격리기(32)를 포함한다. 센서 프레임 커플러(41)는 진동 격리기(42)를 포함한다. 중간 프레임 지지체(46)는 진동 격리기(47)를 포함한다.
선택적으로, 각각의 진동 격리기(32, 42, 47)는 공압식 진동 격리 디바이스 또는 복수의 공압식 진동 격리 디바이스를 포함한다. 공압식 진동 격리 디바이스를 사용하면, 제품 사양의 특정한 조합을 각각 가지는, 다양한 범위의 가용 제품으로부터 특정 격리 주파수(이를 넘어서면 진동이 효과적으로 감쇠되는 주파수)를 선택할 수 있는데, 이는 공압식 진동 격리 디바이스를 다양한 모양과 크기로 쉽게 구할 수 있기 때문이다.
선택적으로, 힘 프레임 지지체(31) 및 중간 프레임 지지체(46) 모두는 격리 주파수를 갖는 진동 격리기(32, 47)를 포함한다. 진동 격리기는 격리 주파수보다 높은 진동을 효과적으로 감쇠시켜, 격리 주파수보다 높은 주파수를 갖는 진동에 대해 진동 격리가 효율적으로 이루어진다. 힘 프레임 지지체(31)의 진동 격리기(32)의 격리 주파수는 선택적으로 중간 프레임 지지체(46)의 진동 격리기(47)의 격리 주파수보다 높다. 이는, 비교적 낮은 주파수에서 이미 시작되는 센서 프레임(40)의 효과적인 진동 격리를 허용한다. 힘 프레임(30)의 저주파 범위에서의 진동 격리에 대한 요건은 센서 프레임(40)의 저주파 범위에서의 진동 격리에 대한 요건만큼 엄격하지 않으므로, 힘 프레임 지지체(31)에는 보다 단순하고 및/또는 보다 저렴한 진동 격리기가 제공될 수 있다.
선택적으로, 센서 프레임 커플러(41) 및 중간 프레임 지지체(46) 모두는 격리 주파수를 갖는 진동 격리기(42, 47)를 포함한다. 센서 프레임 커플러(41)의 진동 격리기(42)의 격리 주파수는 선택적으로 중간 프레임 지지체(46)의 진동 격리기(47)의 격리 주파수보다 높다. 따라서 센서 프레임(40)의 진동 격리는 진동 격리의 설계를 최적화할 수 있는 2단계 배치이다. 직렬로 2개의 진동 격리기(42, 47)를 구비하는 이러한 배치는 고주파수의 진동에 대한 증가된 격리를 제공한다.
선택적으로, 도 2에 따른 리소그래피 장치(1)는 힘 프레임 제어 시스템(50)을 더 포함한다. 힘 프레임 제어 시스템(50)은 힘 프레임 위치 센서(51), 힘 프레임 액추에이터(33) 및 힘 프레임 액추에이터 제어 디바이스(52)를 포함한다.
힘 프레임 위치 센서(51)는 센서 프레임(40)에 대한 힘 프레임(30)의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성된다. 힘 프레임 위치 센서(51)는 예를 들어 간섭계 장치, (예컨대, 선형 인코더를 포함하는) 인코더-기반 장치 또는 용량성 센서를 포함할 수 있다. 선택적으로, 힘 프레임 위치 센서(51)는 복수의 센서 요소를 포함한다.
힘 프레임 위치 센서(51)는 선택적으로 센서 송신기/수신기 요소 및 센서 타겟 요소를 포함한다. 선택적으로, 힘 프레임 위치 센서는 복수의 센서 송신기/수신기 요소 및 센서 타겟 요소를 포함한다. 힘 프레임 위치 센서(51)가 인코더 기반 디바이스인 경우, 센서는 선택적으로, 예를 들어 힘 프레임(30) 상에 배치되는 격자, 예컨대 1 차원 또는 2 차원 격자와, 빔 소스 및 격자로부터 빔을 수광하도록 구성되는 적어도 하나의 수신기 요소를 포함하는 인코더 헤드를 포함하며, 인코더 헤드는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배열된다. 대안적으로, 격자는 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있으며, 인코더 헤드는 힘 프레임(30) 상에 배치될 수 있다.
센서가 간섭계 기반인 경우, 센서는, 예를 들어 힘 프레임(30) 상에 배치되는 미러 요소, 광학 빔을 위한 소스 및 미러 요소로부터 빔을 수광하도록 구성되는 수신기를 포함한다. 광학 빔을 위한 소스는 광학 빔이 힘 프레임(30) 상의 미러 요소와 충돌하도록 배열된다. 대안적으로, 미러 요소는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있다.
힘 프레임 액추에이터(33)는 센서 프레임(40)에 대해 힘 프레임(30)을 이동시키도록 구성된다. 선택적으로, 힘 프레임 액추에이터(33)는 힘 프레임 지지체(31)에 통합되어, 힘 프레임 지지체(31)가 능동형 지지체가 된다. 액추에이터의 추가에 의해, 힘 프레임 지지체가 힘 프레임(30)을 센서 프레임(40)에 대해(그리고 베이스 프레임(10)에 대해) 상대적으로 이동시키게 되며, 이는 센서 프레임(40)에 대한 힘 프레임(30)의 상대 위치를 능동적으로 제어할 수 있게 한다. 이는 광학 요소(21)의 위치설정 정확도를 높일 수 있고, 그에 따라 투영 정확도의 향상 및 오버레이의 감소를 가능하게 한다. 힘 프레임 액추에이터(33)는 예를 들어 로렌츠 액추에이터 또는 릴럭턴스 액추에이터와 같은 전자기 액추에이터이다.
힘 프레임 제어 시스템(50)의 힘 프레임 액추에이터 제어 디바이스(52)는 힘 프레임 위치 센서(51)로부터 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 힘 프레임 액추에이터(33)를 제어하도록 구성된다.
선택적으로, 도 2의 실시예에서, 센서 프레임 커플러(41) 및/또는 중간 프레임 지지체(46)는 수동형이다. 이러한 변형 예에서, 센서 프레임 커플러(41)에는 액추에이터가 제공되지 않으므로, 센서 프레임(40)은 중간 프레임(45)에 대하여 능동적으로 이동하지 않는다. 마찬가지로, 중간 프레임 지지체(46)에는 액추에이터가 제공되지 않으므로, 중간 프레임(45)은 베이스 프레임(10)에 대하여 능동적으로 이동하지 않는다. 선택적으로, 센서 프레임 커플러(41) 및/또는 중간 프레임 지지체(46)는 중간 프레임(45)에 대해 센서 프레임(40)을 능동적으로 이동시키고 및/또는 베이스 프레임(10)에 대해 중간 프레임(45)을 능동적으로 이동시키기 위해 액추에이터를 포함할 수 있다.
도 3는 본 발명에 따른 리소그래피 장치(1)의 제2 실시예를 나타내며, 이는 도 2의 실시예의 변형예이다.
도 3의 실시예에서, 베이스 프레임은 제1 베이스 프레임 섹션(10a) 및 제2 베이스 프레임 섹션(10b)을 포함한다. 제1 및 제2 베이스 프레임 섹션(10a, 10b)은 서로에 대해 이동 가능하다. 선택적으로, 제1 및 제2 베이스 프레임 섹션(10a, 10b)은 서로 분리되어 있다. 대안적으로, 제1 및 제2 베이스 프레임 섹션(10a, 10b)은 가요성 연결부, 예컨대 탄성 힌지에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 제1 및 제2 베이스 프레임 섹션(10a, 10b)은 진동 격리기를 포함하는 커넥터에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 제1 베이스 프레임 섹션(10a)과 제2 베이스 프레임 섹션(10b)은 제1 베이스 프레임 섹션(10a)과 제2 베이스 프레임 섹션(10b) 사이의 간극을 채우도록 배치되는 변형 가능한 밀봉부에 의해 서로 연결될 수 있다.
베이스 프레임 섹션(10a, 10b)은 지지면(9) 상에 리소그래피 장치(1)를 장착하기에 적합하다. 지지면(9)은 예를 들어 공장 바닥, 기초 또는 받침대일 수 있다. 베이스 프레임 섹션(10a, 10b)은 도 3에서 스프링(8a, 8b)에 의해 개략적으로 나타낸 하나 이상의 지지체에 의해 지지면 상에 선택적으로 배치된다.
도 3에 따른 실시예에서, 힘 프레임 지지체(31)는 제1 베이스 프레임 섹션(10a)에 연결되고 중간 프레임 지지체(46)는 제2 베이스 프레임 섹션(10b)에 연결된다. 이러한 배치는 힘 프레임(30)과 센서 프레임(40) 사이의 추가적인 단절을 제공하여, 힘 프레임(30)의 진동, 힘 및 변형이 센서 프레임(40)으로 전달되지 않거나 또는 적어도 보다 적게 전달되도록 한다.
도 4는 본 발명에 따른 리소그래피 장치(1)의 제3 실시예를 나타내며, 이는 도 2의 실시예의 변형예이다.
도 4의 실시예에서, 리소그래피 장치는 웨이퍼 스테이지(60) 및 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61)을 더 포함한다. 또한, 중간 프레임(45)에 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61)을 커플링하도록 되어 있는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 커플러(62)가 제공된다. 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61)은 중간 프레임(45)의 위 또는 아래에 배치될 수 있다. 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 커플러(62)는 예를 들어, 진동 격리기를 갖는 센서 프레임 지지체 또는 자기 중력 보상기와 같은 자기 커플링 디바이스일 수 있거나 이를 포함할 수 있다.
웨이퍼 스테이지(60)는 기판을 지지하고 위치설정하는 데 적합하다. 웨이퍼 스테이지(60)의 위치는 정확하게 모니터링될 필요가 있다. 이를 위해, 예를 들어 간섭계 기반 센서, 인코더 기반 센서 및/또는 용량성 센서 등의 적어도 하나의 위치 센서가 제공된다. 센서는 각각 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61) 상에 배치되는 적어도 하나의 센서 요소를 포함한다. 선택적으로, 도 4에 따른 리소그래피 장치는 도 6에 도시된 유형의 웨이퍼 스테이지 측정 제어 시스템(90)을 더 포함한다.
도 5는 본 발명에 따른 리소그래피 장치(1)의 제4 실시예를 나타내며, 이는 도 4의 실시예의 변형예이다.
도 5의 실시예에서, 중간 프레임은 제1 중간 프레임 섹션(45a) 및 제2 중간 프레임 섹션(45b)을 포함한다. 제1 및 제2 중간 프레임 섹션(45a, 45b)은 서로에 대해 이동 가능하다. 선택적으로, 제1 및 제2 중간 프레임 섹션(45a, 45b)은 서로 분리되어 있다. 선택적으로, 제1 및 제2 중간 프레임 섹션(45a, 45b)은 가요성 연결부, 예컨대 탄성 힌지에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 제1 및 제2 중간 프레임 섹션(45a, 45b)은 진동 격리기를 포함하는 커넥터에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 제1 중간 프레임 섹션(45a)과 제2 중간 프레임 섹션(45b)은 제1 중간 프레임 섹션(45a)과 제2 중간 프레임 섹션(45b) 사이의 간극을 채우도록 배치되는 변형 가능한 밀봉부에 의해 서로 연결될 수 있다.
도 5에 따른 실시예에서, 센서 프레임 커플러(41)는 제1 중간 프레임 섹션(45a)에 연결되고 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 커플러(62)는 제2 중간 프레임 섹션(45b)에 연결된다. 이러한 배치는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61)과 센서 프레임(40) 사이의 단절을 제공하여, 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61)의 진동, 힘 및 변형이 센서 프레임(40)으로 전달되지 않거나 또는 적어도 보다 적게 전달되도록 한다. 이와 더불어, 리소그래피 장치 내에서 제1 중간 프레임 섹션(45a) 및 제2 중간 프레임 섹션(45b)의 위치를 선택하는 것과 관련하여 설계의 자유도를 허용한다.
선택적으로, 도 5에 따른 실시예에서, 중간 프레임 지지체(46)는 제1 중간 프레임 섹션(45a)에 연결된다. 리소그래피 장치(1)는 2차 중간 프레임 지지체(63)을 포함한다. 2차 중간 프레임 지지체(63)는 제2 중간 프레임 섹션(45b)을 베이스 프레임(10)에 연결하도록 되어 있다.
선택적으로 2차 중간 프레임 지지체(63)는 진동 격리기(64)를 포함한다. 선택적으로, 진동 격리기(64)는 공압식 진동 격리 디바이스 또는 복수의 공압식 진동 격리 디바이스를 포함한다.
선택적으로, 이러한 실시예에서, 베이스 프레임(10)은 2차 중간 프레임 지지체(63)가 연결되는 제3 베이스 프레임 섹션을 포함한다. 베이스 프레임은 선택적으로 제1 베이스 프레임 섹션 및 제2 베이스 프레임 섹션을 더 포함한다. 제1, 제2 및 제3 베이스 프레임 섹션은 서로에 대해 이동 가능하다. 선택적으로, 제1, 제2 및 제3 베이스 프레임 섹션은 서로 분리되어 있다. 대안적으로, 제1, 제2 및 제3 베이스 프레임 섹션 중 적어도 두 개는 가요성 연결부, 예컨대 탄성 힌지에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 제1, 제2 및 제3 베이스 프레임 섹션 중 적어도 두 개는 진동 격리기를 포함하는 커넥터에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 제1, 제2 및 제3 베이스 프레임 섹션 중 적어도 두 개는 개개의 베이스 프레임 섹션들 사이의 갭을 채우도록 배치되는 변형 가능한 밀봉부에 의해 서로 연결될 수 있다. 선택적으로, 힘 프레임 지지체(31)는 제1 베이스 프레임 섹션에 연결되고 중간 프레임 지지체(46)는 제2 베이스 프레임 섹션에 연결된다.
대안으로서, 베이스 프레임(10)은 1차 베이스 프레임 섹션 및 2차 베이스 프레임 섹션을 포함한다. 1차 및 2차 베이스 프레임 섹션은 서로에 대해 이동 가능하다. 선택적으로, 1차 및 2차 베이스 프레임 섹션은 서로 분리되어 있다. 대안적으로, 1차 및 2차 베이스 프레임 섹션은 가요성 연결부, 예컨대 탄성 힌지에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 1차 및 2차 베이스 프레임 섹션은 진동 격리기를 포함하는 커넥터에 의해 서로 연결될 수 있다. 또 다른 대안으로서, 1차 및 2차 베이스 프레임 섹션은 개개의 베이스 프레임 섹션들 사이의 갭을 채우도록 배치되는 변형 가능한 밀봉부에 의해 서로 연결될 수 있다. 선택적으로, 힘 프레임 지지체(31)는 1차 베이스 프레임 섹션에 연결되고 2차 중간 프레임 지지체(63)는 2차 베이스 프레임 섹션에 연결된다. 선택적으로, 힘 프레임 지지체(31) 및 2차 중간 프레임 지지체(63) 양자 모두는 1차 베이스 프레임 섹션에 연결되고 중간 프레임 지지체(46)는 2차 베이스 프레임 섹션에 연결된다.
선택적으로, 도 5의 실시예에서, 리소그래피 장치는 제2 중간 프레임 섹션 제어 시스템(70)을 더 포함한다. 제2 중간 프레임 섹션 프레임 제어 시스템(70)은 제2 중간 프레임 섹션 위치 센서(71), 제2 중간 프레임 섹션 액추에이터(65) 및 제2 중간 프레임 섹션 액추에이터 제어 디바이스(72)를 포함한다.
2차 중간 프레임 위치 센서(71)는 센서 프레임(40)에 대한 2차 중간 프레임(45b)의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성된다. 2차 중간 프레임 위치 센서(71)는 예를 들어 간섭계 장치, (예컨대, 선형 인코더를 포함하는) 인코더-기반 장치 또는 용량성 센서를 포함할 수 있다.
2차 중간 프레임 위치 센서(71)는 선택적으로 센서 송신기/수신기 요소 및 센서 타겟 요소를 포함한다. 2차 중간 프레임 위치 센서(71)가 인코더 기반 디바이스인 경우, 센서는 선택적으로, 예를 들어 2차 중간 프레임(45b) 상에 배치되는 격자, 예컨대 1 차원 또는 2 차원 격자와, 빔 소스 및 격자로부터 빔을 수광하도록 구성되는 적어도 하나의 수신기 요소를 포함하는 인코더 헤드를 포함하며, 인코더 헤드는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배열된다. 대안적으로, 격자는 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있으며, 인코더 헤드는 2차 중간 프레임(45b) 상에 배치될 수 있다.
센서가 간섭계 기반인 경우, 센서는, 예를 들어 2차 중간 프레임(45b) 상에 배치되는 미러 요소, 광학 빔을 위한 소스 및 미러 요소로부터 빔을 수광하도록 구성되는 수신기를 포함한다. 광학 빔을 위한 소스는 광학 빔이 2차 중간 프레임(45b) 상의 미러 요소와 충돌하도록 배열된다. 대안적으로, 미러 요소는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있다.
2차 중간 프레임 액추에이터(65)는 센서 프레임(40)에 대해 2차 중간 프레임(45b)을 이동시키도록 구성된다. 선택적으로, 2차 중간 프레임 액추에이터(65)는 2차 중간 프레임 지지체(63)에 통합되어, 2차 중간 프레임 지지체(63)가 능동형 지지체가 된다. 액추에이터의 추가에 의해, 2차 중간 프레임 지지체가 2차 중간 프레임(45b)을 센서 프레임(40)에 대해(그리고 베이스 프레임(10)에 대해) 상대적으로 이동시키게 되며, 이는 센서 프레임(40)에 대한 2차 중간 프레임(45b)의 상대 위치를 능동적으로 제어할 수 있게 한다. 이는 광학 요소(21)의 위치설정 정확도를 높일 수 있고, 그에 따라 투영 정확도의 향상 및 오버레이의 감소를 가능하게 한다. 또한, 일부 실시예에서, 웨이퍼 스테이지(60)의 위치 측정 시스템에 대한 요건의 수준이, 예를 들면 요구되는 측정 범위와 관련하여 낮아질 수 있다. 2차 중간 프레임 액추에이터(65)는 예를 들어 로렌츠 액추에이터 또는 릴럭턴스 액추에이터와 같은 전자기 액추에이터이다.
2차 중간 프레임 제어 시스템(70)의 2차 중간 프레임 액추에이터 제어 디바이스(72)는 2차 중간 프레임 위치 센서(71)로부터 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 2차 중간 프레임 액추에이터(65)를 제어하도록 구성된다.
선택적으로, 도 4에 따른 리소그래피 장치는 도 6에 도시된 유형의 웨이퍼 스테이지 측정 제어 시스템(90)을 더 포함한다.
도 6는 본 발명에 따른 리소그래피 장치(1)의 제5 실시예를 나타내며, 이는 도 5의 실시예의 변형예이다.
도 6의 실시예에서, 리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성되는 조명 시스템(80)을 더 포함한다. 조명 시스템(80)은 조명기 프레임(81) 및 조명기 프레임 지지체(82)를 포함한다. 또한, 일반적으로 패터닝 시스템(75)도 존재할 것이다. 패터닝 시스템(75)은 조명 시스템(80)과 투영 시스템(20) 사이에 배치된다.
조명기 프레임(81)은 투영 시스템(20)의 센서 프레임(40)으로부터 분리되어 있다. 조명기 프레임 지지체(82)는 조명기 프레임(81)을 베이스 프레임(10)에 연결하도록 되어 있다. 조명기 프레임 지지체(82)는 힘 프레임 지지체(31) 및 중간 프레임 지지체(46)로부터 분리되어 있다. 선택적으로, 베이스 프레임(10)은 1차 베이스 프레임 섹션 및 2차 베이스 프레임 섹션을 포함하고 조명기 프레임 지지체(82)는 1차 베이스 프레임 섹션 상에 배치되고 중간 프레임 지지체(46)는 2차 베이스 프레임 섹션 상에 배치된다.
도 6의 실시예에서, 조명기 프레임 지지체(82)는 진동 격리기(83)를 포함한다. 선택적으로, 진동 격리기(83)는 공압식 진동 격리 디바이스 또는 복수의 공압식 진동 격리 디바이스를 포함한다.
선택적으로, 도 6의 실시예에서, 리소그래피 장치는 조명기 프레임 제어 시스템(85)을 더 포함한다. 조명기 프레임 제어 시스템(85)은 조명기 프레임 위치 센서(86), 조명기 프레임 액추에이터(84) 및 조명기 프레임 액추에이터 제어 디바이스(87)를 포함한다.
조명기 프레임 위치 센서(86)는 센서 프레임(40)에 대한 조명기 프레임(81)의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성된다. 조명기 프레임 위치 센서(86)는 예를 들어 간섭계 장치, (예컨대, 선형 인코더를 포함하는) 인코더-기반 장치 또는 용량성 센서를 포함할 수 있다.
조명기 프레임 위치 센서(86)는 선택적으로 센서 송신기/수신기 요소 및 센서 타겟 요소를 포함한다. 조명기 프레임 위치 센서(86)가 인코더 기반 디바이스인 경우, 센서는 선택적으로, 예를 들어 조명기 프레임(81) 상에 배치되는 격자, 예컨대 1 차원 또는 2 차원 격자와, 빔 소스 및 격자로부터 빔을 수광하도록 구성되는 적어도 하나의 수신기 요소를 포함하는 인코더 헤드를 포함하며, 인코더 헤드는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배열된다. 대안적으로, 격자는 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있으며, 인코더 헤드는 조명기 프레임(81) 상에 배치될 수 있다.
센서가 간섭계 기반인 경우, 센서는, 예를 들어 조명기 프레임(81) 상에 배치되는 미러 요소, 광학 빔을 위한 소스 및 미러 요소로부터 빔을 수광하도록 구성되는 수신기를 포함한다. 광학 빔을 위한 소스는 광학 빔이 조명기 프레임(81) 상의 미러 요소와 충돌하도록 배열된다. 대안적으로, 미러 요소는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있다.
조명기 프레임 액추에이터(84)는 센서 프레임(40)에 대해 조명기 프레임(81)을 이동시키도록 구성된다. 선택적으로, 조명기 프레임 액추에이터(84)는 조명기 프레임 지지체(82)에 통합되어, 조명기 프레임 지지체(82)가 능동형 지지체가 된다. 액추에이터의 추가에 의해, 조명기 프레임 지지체가 조명기 프레임(81)을 센서 프레임(40)에 대해(그리고 베이스 프레임(10)에 대해) 상대적으로 이동시키게 되며, 이는 센서 프레임(40)에 대한 조명기 프레임(81)의 상대 위치를 능동적으로 제어할 수 있게 한다. 조명기 프레임 액추에이터(84)는 예를 들어 로렌츠 액추에이터 또는 릴럭턴스 액추에이터와 같은 전자기 액추에이터이다.
조명기 프레임 제어 시스템(85)의 조명기 프레임 액추에이터 제어 디바이스(87)는 조명기 프레임 위치 센서(86)로부터 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 조명기 프레임 액추에이터(84)를 제어하도록 구성된다.
선택적으로, 도 6의 실시예에서, 리소그래피 장치는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 제어 시스템(90)을 더 포함한다. 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 제어 시스템(90)은 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서(91), 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터(93) 및 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터 제어 디바이스(92)를 포함한다.
웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서(91)는 센서 프레임(40)에 대한 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61)의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성된다. 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서(91)는 예를 들어 간섭계 장치, (예컨대, 선형 인코더를 포함하는) 인코더-기반 장치 또는 용량성 센서를 포함할 수 있다.
웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서(91)는 선택적으로 센서 송신기/수신기 요소 및 센서 타겟 요소를 포함한다. 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서(91)가 인코더 기반 디바이스인 경우, 센서는 선택적으로, 예를 들어 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61) 상에 배치되는 격자, 예컨대 1 차원 또는 2 차원 격자와, 빔 소스 및 격자로부터 빔을 수광하도록 구성되는 적어도 하나의 수신기 요소를 포함하는 인코더 헤드를 포함하며, 인코더 헤드는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배열된다. 대안적으로, 격자는 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있으며, 인코더 헤드는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61) 상에 배치될 수 있다.
센서가 간섭계 기반인 경우, 센서는, 예를 들어 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61) 상에 배치되는 미러 요소, 광학 빔을 위한 소스 및 미러 요소로부터 빔을 수광하도록 구성되는 수신기를 포함한다. 광학 빔을 위한 소스는 광학 빔이 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61) 상의 미러 요소와 충돌하도록 배열된다. 대안적으로, 미러 요소는 예를 들어 센서 프레임(40) 상에 배치될 수 있다.
웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터(93)는 센서 프레임(40)에 대해 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(61)을 이동시키도록 구성된다. 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터(93)는 예를 들어 로렌츠 액추에이터 또는 릴럭턴스 액추에이터와 같은 전자기 액추에이터이다.
웨이퍼 스테이지 측정 프레임 제어 시스템(90)의 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터 제어 디바이스(92)는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서(91)로부터 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터(93)를 제어하도록 구성된다.
선택적으로 또는 부가적으로, 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서(91)에 의해 생성된 측정 신호는 센서 프레임(40)에 대한 웨이퍼 스테이지(60)의 위치를 계산하는 데 사용된다. 측정 신호는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임(60)의 위치 또는 웨이퍼 스테이지 위치 측정 구성의 일부의 위치를 능동적으로 제어하는 데 사용될 수 있다.
웨이퍼 스테이지 측정 제어 시스템(90)은 또한 도 4 및 도 5의 실시예들에 적용될 수 있다.
본 명세서에서는, 집적회로(IC)의 제조에 있어서 리소그래피 장치의 사용예에 대해 특정하게 언급하였지만, 본원에서 설명된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리(magnetic domain memory)용 유도 및 검출 패턴, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같은 기타 다른 응용예들을 가질 수 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 다른 응용예와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 어떠한 용어의 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟부"와 같은 좀더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예컨대 트랙(전형적으로 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 계측 툴, 및/또는 검사 툴에서 처리될 수 있다. 적용 가능한 경우, 상기 기판 처리 툴과 여타 기판 처리 툴에 본 명세서의 개시 내용이 적용될 수 있다. 또한, 예컨대 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 복수 회 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러 번 처리된 층들을 포함한 기판을 지칭할 수도 있다.
광학 리소그래피의 맥락에서 본 발명의 실시예를 이용하는 것에 대해 특정하게 언급하였지만, 본 발명은 다른 응용예, 예를 들어 임프린트 리소그래피에서도 이용될 수 있고, 문맥이 허용하는 한 광학 리소그래피로 제한되지 않음이 인식될 것이다. 임프린트 리소그래피에서 패터닝 디바이스의 토포그래피(topography)는 기판 상에 생성된 패턴을 규정한다. 패터닝 디바이스의 토포그래피는 기판에 공급된 레지스트 층으로 가압될 수 있고, 그 위에서 레지스트는 전자기 방사선, 열, 압력 또는 이들의 조합을 가함으로써 경화된다. 패터닝 디바이스는 레지스트가 경화된 후 레지스트로부터 떨어지도록 분리되어 레지스트에 패턴을 남겨둔다.
본원에서 사용된 "방사선" 및 "빔"이라는 용어는, 자외(UV)선(예컨대, 약 365, 248, 193, 157, 또는 126 nm의 파장을 가짐) 및 극자외(EUV)선(예컨대, 5-20 nm 범위의 파장을 가짐)을 포함하는 모든 유형의 전자기 방사선 뿐만 아니라 이온 빔 또는 전자 빔 등의 입자 빔을 포괄한다.
문맥이 허용하는 경우, "렌즈"라는 용어는 굴절형, 반사형, 자기형, 전자기형 및 정전형 광학 컴포넌트를 포함하는 다양한 타입의 광학 컴포넌트 중 어느 하나 또는 그 조합을 지칭할 수도 있다.
이상에서 발명의 특정 실시예들이 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어, 본 발명의 실시예는 위에서 개시된 것과 같은 방법을 기술하는 기계 판독가능 명령의 하나 이상의 시퀀스를 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 내부에 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되어 있는 데이터 저장 매체(예를 들어, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수 있다.
상기 명세서는 예시적인 것으로 의도되며, 제한적인 것으로 의도되지 않는다. 따라서, 이하 제시되는 청구 범위로부터 벗어남이 없이, 기술된 본 발명에 대해 수정이 이루어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다.

Claims (21)

  1. 리소그래피 장치로서,
    상기 리소그래피 장치를 지지면 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임; 및
    투영 시스템을 포함하고, 상기 투영 시스템은:
    힘 프레임;
    상기 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소;
    상기 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임;
    상기 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 상기 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서 요소를 포함하는 적어도 하나의 센서;
    상기 베이스 프레임 상에서 상기 힘 프레임을 지지하도록 구성되는 힘 프레임 지지체;
    상기 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임;
    상기 센서 프레임을 상기 중간 프레임에 커플링하도록 구성되는 센서 프레임 커플러; 및
    상기 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 상기 베이스 프레임 상에서 상기 중간 프레임을 지지하도록 구성되는 중간 프레임 지지체를 포함하는, 리소그래피 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 힘 프레임 지지체, 상기 센서 프레임 커플러 및 상기 중간 프레임 지지체 중 적어도 하나는 진동 격리기를 포함하는, 리소그래피 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 힘 프레임 제어 시스템을 더 포함하고, 상기 힘 프레임 제어 시스템은:
    상기 센서 프레임에 대한 상기 힘 프레임의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성되는 힘 프레임 위치 센서;
    상기 센서 프레임에 대해 상기 힘 프레임을 이동시키도록 구성되는 힘 프레임 액추에이터; 및
    상기 힘 프레임 위치 센서로부터 상기 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 상기 힘 프레임 액추에이터를 제어하도록 구성되는 힘 프레임 액추에이터 제어 디바이스를 포함하는, 리소그래피 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 힘 프레임 액추에이터는 상기 힘 프레임 지지체의 일부를 형성하는, 리소그래피 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 센서 프레임 커플러는 수동형인, 리소그래피 장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 베이스 프레임은 제1 베이스 프레임 섹션 및 제2 베이스 프레임 섹션을 포함하고, 상기 제1 베이스 프레임 섹션과 제2 베이스 프레임 섹션은 서로에 대해 이동 가능하며, 상기 힘 프레임 지지체는 상기 제1 베이스 프레임 섹션에 연결되고 상기 중간 프레임 지지체는 상기 제2 베이스 프레임 섹션에 연결되는, 리소그래피 장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 힘 프레임 지지체와 상기 중간 프레임 지지체 양자 모두는 격리 주파수를 갖는 진동 격리기를 포함하고, 상기 힘 프레임 지지체의 진동 격리기의 격리 주파수는 상기 중간 프레임 지지체의 진동 격리기의 격리 주파수보다 높은, 리소그래피 장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 센서 프레임 커플러와 상기 중간 프레임 지지체 양자 모두는 격리 주파수를 갖는 진동 격리기를 포함하고, 상기 센서 프레임 커플러의 진동 격리기의 격리 주파수는 상기 중간 프레임 지지체의 진동 격리기의 격리 주파수보다 높은, 리소그래피 장치.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 및 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 커플러를 포함하고, 상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 커플러는 상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임을 상기 중간 프레임에 커플링하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 중간 프레임은 제1 중간 프레임 섹션 및 제2 중간 프레임 섹션을 포함하고, 상기 제1 중간 프레임 섹션과 제2 중간 프레임 섹션은 서로에 대해 이동 가능하며, 상기 센서 프레임 커플러는 상기 제1 중간 프레임 섹션에 연결되고 상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 커플러는 상기 제2 중간 프레임 섹션에 연결되는, 리소그래피 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 중간 프레임 지지체는 상기 제1 중간 프레임 섹션에 연결되고,
    상기 리소그래피 장치는, 상기 제2 중간 프레임 섹션을 상기 베이스 프레임에 연결하도록 구성되는 2차 중간 프레임 지지체를 더 포함하는, 리소그래피 장치.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 제2 중간 프레임 섹션 제어 시스템을 더 포함하고, 상기 제2 중간 프레임 섹션 제어 시스템은:
    상기 센서 프레임에 대한 상기 제2 중간 프레임 섹션의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성되는 제2 중간 프레임 섹션 위치 센서;
    상기 센서 프레임에 대해 상기 제2 중간 프레임 섹션을 이동시키도록 구성되는 제2 중간 프레임 섹션 액추에이터; 및
    상기 제2 중간 프레임 섹션 위치 센서로부터 상기 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 상기 제2 중간 프레임 섹션 액추에이터를 제어하도록 구성되는 제2 중간 프레임 섹션 액추에이터 제어 디바이스를 포함하는, 리소그래피 장치.
  13. 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 제어 시스템을 더 포함하고, 상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 제어 시스템은:
    상기 센서 프레임에 대한 상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성되는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서를 포함하는, 리소그래피 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 제어 시스템은:
    상기 센서 프레임에 대해 상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임을 이동시키도록 구성되는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터; 및
    상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 위치 센서로부터 상기 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 상기 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터를 제어하도록 구성되는 웨이퍼 스테이지 측정 프레임 액추에이터 제어 디바이스를 더 포함하는, 리소그래피 장치.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성되는 조명 시스템을 더 포함하고, 상기 조명 시스템은:
    상기 투영 시스템의 센서 프레임과 분리되어 있는 조명기 프레임; 및
    상기 조명기 프레임을 상기 베이스 프레임에 연결하도록 구성되고, 상기 힘 프레임 지지체 및 상기 중간 프레임 지지체와 분리되어 있는 조명기 프레임 지지체를 포함하는, 리소그래피 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 조명기 프레임 제어 시스템을 더 포함하고, 상기 조명기 프레임 제어 시스템은:
    상기 센서 프레임에 대한 상기 조명기 프레임의 상대 위치에 관한 측정 데이터를 생성하도록 구성되는 조명기 프레임 위치 센서;
    상기 센서 프레임에 대해 상기 조명기 프레임을 이동시키도록 구성되는 조명기 프레임 액추에이터; 및
    상기 조명기 프레임 위치 센서로부터 상기 측정 데이터를 수신하고 수신된 측정 데이터에 기초하여 상기 조명기 프레임 액추에이터를 제어하도록 구성되는 조명기 프레임 액추에이터 제어 디바이스를 포함하는, 리소그래피 장치.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리소그래피 장치는 패터닝 디바이스로부터의 패턴을 기판 상으로 전사하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
  18. 리소그래피 장치로서,
    방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성되는 조명 시스템;
    패터닝된 방사선 빔을 형성하도록 상기 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성되는 지지체;
    상기 리소그래피 장치를 지지면 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임;
    기판을 유지하도록 구성되는 기판 테이블; 및
    상기 패터닝된 방사선 빔을 상기 기판의 타겟부 상으로 투영하도록 구성되는 투영 시스템을 포함하고, 상기 투영 시스템은:
    힘 프레임;
    상기 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소;
    상기 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임;
    상기 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 상기 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서;
    상기 힘 프레임과 상기 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 힘 프레임 지지체;
    상기 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임;
    상기 센서 프레임과 상기 중간 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 센서 프레임 커플러; 및
    상기 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 상기 중간 프레임과 상기 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 중간 프레임 지지체를 포함하는, 리소그래피 장치.
  19. 패터닝 디바이스로부터의 패턴을 기판 상으로 투영하도록 구성되는 리소그래피 투영 장치로서,
    리소그래피 장치를 지지면 상에 장착하도록 구성되는 베이스 프레임; 및
    투영 시스템을 포함하고, 상기 투영 시스템은:
    힘 프레임;
    상기 힘 프레임에 대해 이동 가능한 광학 요소;
    상기 힘 프레임과 분리되어 있는 센서 프레임;
    상기 광학 요소를 모니터링하도록 구성되고, 상기 센서 프레임에 장착되는 적어도 하나의 센서;
    상기 힘 프레임과 상기 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 힘 프레임 지지체;
    상기 힘 프레임과 분리되어 있는 중간 프레임;
    상기 센서 프레임과 상기 중간 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 센서 프레임 커플러; 및
    상기 힘 프레임 지지체와 분리되어 있고 상기 중간 프레임과 상기 베이스 프레임을 서로 연결하도록 구성되는 중간 프레임 지지체를 포함하는, 리소그래피 투영 장치.
  20. 제1항에 따른 리소그래피 장치를 이용하여, 패터닝 디바이스로부터의 패턴을 기판 상으로 전사하는 단계를 포함하는 디바이스 제조 방법.
  21. 제1항에 따른 리소그래피 장치를 이용하여, 패터닝된 방사선 빔을 기판 상으로 투영하는 단계를 포함하는 디바이스 제조 방법.
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