KR102162035B1 - 간단화된 제조를 갖는 광학 영상화 장치 - Google Patents

간단화된 제조를 갖는 광학 영상화 장치 Download PDF

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칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
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Abstract

특히 마이크로리소그래피를 위해, 광학 영상화 장치에 사용되는 광학 영상화 장치 모듈(117.1)이 제공되고, 광학 요소 지지 서브구조체(118.1), 및 보조 지지 서브구조체(119.1)를 포함한다. 광학 요소 지지 서브구조체는 광학 요소(106.2)를 지지하도록 구성되고 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖는다. 광학 요소는 노광광을 사용하는 노광 프로세스에서, 마스크의 패턴의 화상을 기판 상에 전사하도록 구성된 광학 영상화 장치의 광학 요소의 그룹의 부분을 형성하도록 구성된다. 보조 지지 서브구조체(119.1)는 보조 구성요소(115)를 지지하도록 구성되고 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖고, 보조 구성요소는 노광 프로세스 중에, 기판 상의 패턴의 화상의 전사 이외의 노광 프로세스의 보조 기능을 실행하도록 구성된다. 보조 구성요소(115)는 노광 프로세스 중에, 광학 요소에 공간적으로 연계되고, 광학 요소 지지 서브구조체(118.1)로부터 기계적으로 분리된 방식으로 보조 지지 서브구조체(119.1)를 포함하는 보조 지지 구조체에 의해 지지되도록 구성된다. 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 적어도 광학 영상화 장치의 조립 중에 광학 요소 지지 서브구조체(118.1)를 거쳐 보조 지지 서브구조체(119.1)를 일시적으로 지지하도록 구성된 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스(121)와 해제 가능하게 협동하도록 구성된다.

Description

간단화된 제조를 갖는 광학 영상화 장치 {OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT WITH SIMPLIFIED MANUFACTURE}
본 발명은 노광 프로세스에 사용되는 광학 영상화 장치 모듈(optical imaging apparatus module)에 관한 것으로서, 특히 마이크로리소그래피 시스템(microlithography systems)용 광학 영상화 장치 모듈에 관한 것이다. 본 발명은 또한 광학 영상화 장치에 사용되는 광학 모듈의 구성요소를 지지하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 마이크로전자 디바이스, 특히 반도체 디바이스를 제조하기 위한 포토리소그래피 프로세스용 광학 영상화 장치의 제조 및 사용의 맥락에서, 또는 이러한 포토리소그래피 프로세스 중에 사용되는 마스크 또는 레티클(reticle)과 같은 디바이스를 제조하는 맥락에서 사용될 수도 있다.
통상적으로, 반도체 디바이스와 같은 마이크로전자 디바이스를 제조하는 맥락에서 사용된 광학 시스템은 광학 시스템의 광로 내에 배열된 렌즈 및 미러 등과 같은 광학 요소를 포함하는 복수의 광학 모듈을 포함한다. 이들 광학 요소는, 노광 프로세스의 주 기능으로서, 마스크, 레티클 등 상에 형성된 패턴의 화상을 웨이퍼와 같은 기판 상에 전사하도록 협동한다. 상기 광학 요소들은 일반적으로 하나 이상의 기능적으로 별개의 광학 요소 그룹으로 조합된다. 이들 별개의 광학 요소 그룹은 별개의 광학 노광 유닛에 의해 유지될 수도 있다. 특히 주로 굴절 시스템에서, 이러한 광학 노광 유닛은 종종 하나 이상의 광학 요소를 유지하는 광학 요소 모듈의 스택으로부터 구성된다. 이들 광학 요소 모듈은 일반적으로 이어서 광학 요소를 각각 유지하는 하나 이상의 광학 요소 홀더를 지지하는 외부의 일반적으로 링형 지지 디바이스를 포함한다.
반도체 디바이스의 계속되는 소형화에 기인하여, 이들 반도체 디바이스를 제조하기 위해 사용된 광학 시스템의 향상된 분해능에 대한 영구적인 요구가 존재한다. 향상된 분해능에 대한 이 요구는 광학 시스템의 증가된 개구수(numerical aperture: NA) 및 증가된 영상화 정확도에 대한 요구를 명백하게 압박하고 있다.
향상된 분해능을 성취하기 위한 일 접근법은 노광 프로세스에 사용된 광의 파장을 감소시키는 것이다. 최근에, 5 nm 내지 20 nm의 범위, 통상적으로 약 13 nm의 파장을 사용하여 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하는 접근법이 시도되어 왔다. 이 EUV 범위에서, 통상의 굴절 광학 기기를 사용하는 것이 더 이상 가능하지 않다. 이는, 이 EUV 범위에서, 굴절 광학 요소를 위해 통상적으로 사용된 재료가 상업적으로 허용 가능한 규모에서 고품질 노광 결과를 얻기에는 너무 높은 흡수도를 나타낸다는 사실에 기인한다. 따라서, EUV 범위에서, 미러 등과 같은 반사 요소를 포함하는 반사 시스템이 마스크 상에 형성된 패턴의 화상을 예를 들어, 웨이퍼와 같은 기판 상에 전사하기 위해 노광 프로세스에서 사용된다.
EUV 범위에서 높은 개구수(예를 들어, NA > 0.4 내지 0.5)의 반사 시스템의 사용으로의 이행은 광학 영상화 장치의 디자인과 관련하여 상당한 과제를 유도한다.
결정적인 정확도 요건 중 하나는 가시선(line of sight: LoS) 정확도라 또한 칭하는, 기판 상의 화상의 위치의 정확도이다. 가시선 정확도는 통상적으로 대략적으로 개구수의 역수로 스케일링된다. 따라서, 가시선 정확도는 NA = 0.33의 개구수를 갖는 광학 영상화 장치의 것보다 개구수 NA = 0.45를 갖는 광학 영상화 장치에 대해 1.4의 팩터 더 작다. 통상적으로, 가시선 정확도는 NA = 0.45의 개구수에 대해 0.5 nm 미만의 범위이다. 이중 패터닝이 또한 노광 프로세스에서 허용되면, 정확도는 통상적으로 1.4의 추가의 팩터만큼 감소되어야 할 것이다. 따라서, 이 경우에, 가시선 정확도는 심지어 0.3 nm 미만의 범위일 것이다.
무엇보다도, 상기 사항은 노광 프로세스에 참여하는 구성요소들 사이의 상대 위치와 관련하여 매우 엄격한 요건을 유도한다. 더욱이, 고품질 반도체 디바이스를 신뢰적으로 얻기 위해, 높은 정도의 영상화 정확도를 나타내는 광학 시스템을 제공하는 것만이 필요한 것은 아니다. 이러한 높은 정도의 정확도를 전체 노광 프로세스 전체에 걸쳐 그리고 시스템의 수명에 걸쳐 유지하는 것이 또한 필요하다. 그 결과, 예를 들어 노광 프로세스에서 협동하는 광학 영상화 장치 구성요소, 즉 마스크, 광학 요소 및 웨이퍼는 고품질 노광 프로세스를 제공하는데 필요한 상기 광학 영상화 장치 구성요소들 사이의 미리 결정된 공간 관계를 유지하기 위해 규정된 방식으로 지지되어야 한다.
전체 노광 프로세스 전체에 걸쳐 상기 미리 결정된 공간 관계를 유지하기 위해, 심지어 진동(무엇보다도, 장치를 지지하는 지면 구조체를 거쳐 그리고/또는 가속된 질량체, 예를 들어 이동 구성요소, 난류 유체 스트림 등과 같은 진동 교란의 내부 소스를 거쳐 도입됨)의 영향 하에서, 뿐만 아니라 열적으로 유도된 위치 변경의 영향 하에서, 보조 프로세스에서 광학 영상화 장치의 특정 구성요소들 사이의 공간 관계를 적어도 간헐적으로 포착하고 이 보조 포착 프로세스의 결과의 함수로서 광학 영상화 장치의 구성요소들 중 적어도 하나의 위치를 조정하는 것이 필요하다.
통상적으로, 보조 포착 프로세스는 영상화 장치의 능동적으로 조정된 부분의 운동을 즉시 동기화하는 것을 가능하게 하기 위해 공통 기준으로서 광학 투영 시스템 및 기판 시스템을 위한 중앙 지지 구조체를 사용하여 계측 시스템의 보조 구성요소를 거쳐 행해진다.
다른 한편으로, 개구수의 증가는 통상적으로, 광학 요소의 광학 푸트프린트라 또한 칭하는, 사용된 광학 요소의 증가된 크기를 유도한다. 사용된 광학 요소의 증가된 광학 푸트프린트는 상기 조정을 성취하는데 사용된 이들의 동적 특성 및 제어 시스템에 부정적인 영향을 갖는다. 더욱이, 증가된 광학 푸트프린트는 통상적으로 더 큰 광선 입사각을 유도한다. 그러나, 이러한 증가된 광선 입사각에서, 광학 요소의 반사면을 생성하기 위해 통상적으로 사용되는 다층 코팅의 투과율은 극적으로 감소되어, 흡수에 기인하는 광학 요소의 증가된 가열 및 광 출력의 원하지 않는 손실을 명백히 유도한다. 그 결과, 더욱 더 대형의 광학 요소가 상업적으로 수용 가능한 규모로 이러한 영상화를 가능하게 하기 위해 사용되어야 한다. 이들 상황은 최대 1 m×1 m의 광학 푸트프린트를 갖고 60 mm 미만으로 범위가 축소된 상호 거리를 갖고 서로 매우 근접하게 배열된 상당히 큰 광학 요소를 갖는 광학 영상화 장치를 유도한다.
다수의 문제점이 이 상황으로부터 발생한다. 첫째로, 광학 요소의 소위 형상비(aspect ratio)(즉, 두께 대 직경비)에 무관하게, 대형 광학 요소는 일반적으로 낮은 공진 주파수를 나타내어, 이러한 광학 영상화 장치의 환경에서 통상적으로 경험되는 진동 교란에 더 민감하게 한다. 예를 들어, 150 mm(직경)의 광학 푸트프린트 및 25 mm의 두께를 갖는 미러는 통상적으로 4000 Hz 초과의 공진 주파수를 갖지만, 700 mm의 광학 푸트프린트를 갖는 미러는 통상적으로, 200 mm의 두께에서도 1500 Hz 초과의 공진 주파수에 거의 도달하지 못한다.
더욱이, 사용된 광학 요소 상의 증가된 열 부하(광 에너지 흡수에 기인하는) 및 이러한 시스템을 위해 요구된 증가된 처리량은 냉각기와 같은 추가의 보조 구성요소를 거쳐 증가된 냉각 노력 및 특히 사용된 냉각 유체의 더 높은 유량을 필요로 한다. 이 증가된 냉각 유량은 냉각 매체 난류에 기인하여 시스템 내로 도입된 진동 교란의 증가를 유도하기 쉽고, 이어서 감소된 가시선 정확도를 유도한다. 따라서, 노광 프로세스에 사용된 광학 요소의 지지부 및 계측 시스템 및 냉각 시스템의 보조 구성요소의 지지부를 서로로부터 뿐만 아니라 다른 내부 및 외부 진동 소스로부터 가능한 한 멀리 기계적으로 분리하는 요구가 존재한다.
광학 영상화 장치 및 다수의 보조 구성요소의 증가된 크기는 고도로 복잡한 교직된(interleaved) 그러나 상호 기계적으로 분리된 지지 구조체를 유도한다. 이러한 교직된 그러나 분리된 지지 구조체는, 개별의 최종적으로 기계적으로 분리된 구성요소가 교직된 배열에 기인하여, 이 목적을 위해 거의 액세스 가능하지 않으면서 규정된 상호 위치 및 배향으로 유지되어야 하기 때문에, 광학 영상화 장치의 조립 중에 상당한 문제점을 제시한다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기 단점을 적어도 몇몇 정도로 극복하고, 광학 영상화 장치의 구성요소의 간단한 제조 및 조립을 허용하면서 노광 프로세스에 사용된 광학 영상화 장치의 양호하고 장기간 신뢰적인 영상화 특성을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 노광 프로세스에 사용된 광학 영상화 장치의 영상화 정확도를 적어도 유지하면서 광학 영상화 장치의 조립을 위해 필요한 노력을 감소시키는 것이다.
이들 목적은 일 태양에 따라, 광학 요소의 주 광학 요소 지지 구조체(노광 프로세스의 주 기능을 실행함) 및 보조 구성요소의 보조 지지 구조체(노광 프로세스의 주 기능 이외의 보조 기능을 실행함)가 개별의 지지 서브구조체로 분할되면, 광학 영상화 장치의 영상화 정확도를 적어도 유지하면서 광학 영상화 장치의 구성요소의 제조 및 조립을 위해 필요한 노력의 전체 감소가 성취될 수도 있다는 기술적인 교시에 기초하는 본 발명에 따라 성취된다. 하나 이상의 개별의 광학 요소에 공간적으로(그리고 결국에는 또한 기능적으로) 연계된 주 및 보조 지지 서브구조체는 이어서 개별 구성요소의 향상된 액세스 가능성에 의해 간단한 방식으로 분리된 개별적인 광학 모듈로서 조립될 수 있다. 이 개별적인 광학 모듈 조립 후에, 궁극적으로 노광 프로세스 중에 기계적으로 분리된 방식으로 유지될 주 및 보조 지지 서브구조체는 하나 이상의 일시적인 연결 디바이스를 사용하여 이들의 상호 상대 위치 및 배향으로 일시적으로 결합되고 고정된다.
이에 의해, 각각의 주 및 보조 지지 구조체(서로로부터 상호 기계적으로 분리되도록 구성됨)를 형성하기 위해, 개별 광학 모듈의 주 및 보조 지지 서브구조체를 추가의 주 및 보조 지지 서브구조체에 각각 연결함으로써, 이들 개별적인(미리 장착된, 그리고 결국에는 또한 미리 시험된) 개별의 광학 모듈 중 하나 이상으로부터 광학 영상화 장치를 조립하는 것이 가능하다. 일단 이러한 것이 행해지면, 일시적인 연결 디바이스를 거쳐 주 및 보조 지지 서브구조체의 일시적인 연결은 주 및 보조 지지 구조체를 거쳐 상호 기계적으로 분리된 지지를 성취하도록 간단히 해제된다.
이러한 일시적인 연결 디바이스는 광학 영상화 장치의 조립 후에도 용이하게 액세스 가능한 위치에 배치될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 따라서, 일시적인 연결 디바이스의 해제는 광학 영상화 장치의 조립 직후에 후속될 수도 있다. 특정 경우에, 이들 일시적인 연결 디바이스들 중 하나 이상은 예를 들어 조립된 또는 미리 조립된 광학 영상화 장치의 그 최종 목적지로의 선적 중에, 더 장시간에 걸쳐 작동 유지될 수도 있다.
본 발명에 따라, 광학 영상화 장치의 제조 및 조립이 상당히 용이해질 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 이는 전체 광학 영상화 장치의 임의적으로 복잡한 및/또는 교직된 디자인이 하나 이상의 용이하게 액세스 가능한 일시적인 연결 디바이스를 거쳐 서로 일시적으로 고정된 주 및 보조 지지 서브구조체를 포함하는 개별의 상당히 덜 복잡하고 더 용이하게 관리 가능한 모듈로 분할될 수도 있다는 사실에 기인한다. 이들 모듈은 이어서 일시적인 고정을 해제하기에 앞서 각각의 주 및 보조 지지 구조체를 최종적으로 형성하도록 간단히 조립될 수도 있다.
추가의 지지 서브구조체의 임의의 하나는 다른 개별 광학 모듈의 부분을 형성할 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 따라서, 몇몇 경우에, 광학 영상화 장치는 복수의 이러한 개별 광학 모듈에 의해서만 형성될 수도 있다. 그러나, 본 발명의 특정 실시예에서, 이러한 추가의 주 및/또는 보조 지지 서브구조체는 분리된 개별 지지 구조체일 수도 있는데, 예를 들어 기부 구조체에 장착될 수도 있다(통상적으로, 기부 구조체를 거쳐 구조체 소유 진동의 전달을 회피하기 위해 적합한 진동 격리를 거쳐).
본 발명의 개념에서, 개별 광학 영상화 장치 모듈은 반드시 광학 요소 및/또는 보조 구성요소를 포함할 필요는 없다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 오히려, 사용된 광학 영상화 장치 모듈의 적어도 하나는 단지 각각의 주 및/또는 보조 지지 서브구조체를 포함할 수도 있고, 각각의 광학 요소 및/또는 보조 구성요소는 예를 들어, 본 발명에 따른 추가의 광학 영상화 장치 모듈의 부분으로서, 광학 영상화 장치의 조립 중에 이후의 시간 지점에 장착된다. 그러나, 본 발명의 특정 실시예에서, 광학 영상화 장치 모듈은 광학 요소 및/또는 보조 구성요소를 미리 포함한다.
(주) 광학 요소 지지 서브구조체는 하나 이상의 광학 요소를 지지할 수도 있다는 것이 또한 이해될 수 있을 것이다. 더욱이, 보조 지지 서브구조체는 하나 이상의 보조 구성요소를 지지할 수도 있다. 더욱이, 광학 영상화 장치 모듈은 상이한 유형의 보조 구성요소를 포함할 수도 있다. 더욱이, 광학 영상화 장치 모듈은 결국에는, 광학 영상화 장치의 조립 후에, 특히 노광 프로세스 중에, 또한 상호 기계적으로 분리될 수도 있는 복수의 상이한 보조 지지 서브구조체를 포함할 수도 있다.
따라서, 본 발명의 제1 태양에 따르면, 특히 마이크로리소그래피를 위해, 광학 영상화 장치에 사용되는 광학 영상화 장치 모듈이 제공되고, 광학 요소 지지 서브구조체, 및 보조 지지 서브구조체를 포함한다. 광학 요소 지지 서브구조체는 광학 요소를 지지하도록 구성되고 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖는다. 광학 요소는 노광광을 사용하는 노광 프로세스에서, 마스크의 패턴의 화상을 기판 상에 전사하도록 구성된 광학 영상화 장치의 광학 요소의 그룹의 부분을 형성하도록 구성된다. 보조 지지 서브구조체는 보조 구성요소를 지지하도록 구성되고 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖고, 보조 구성요소는 노광 프로세스 중에, 기판 상의 패턴의 화상의 전사 이외의 노광 프로세스의 보조 기능을 실행하도록 구성된다. 보조 구성요소는 노광 프로세스 중에, 광학 요소에 공간적으로 연계되고, 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 보조 지지 서브구조체를 포함하는 보조 지지 구조체에 의해 지지되도록 구성된다. 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 적어도 광학 영상화 장치의 조립 중에 광학 요소 지지 서브구조체를 거쳐 보조 지지 서브구조체를 일시적으로 지지하도록 구성된 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 해제 가능하게 협동하도록 구성된다.
본 발명의 제2 태양에 따르면, 특히 마이크로리소그래피를 위해, 광학 영상화 장치에 사용되는 광학 영상화 장치 모듈의 구성요소를 지지하는 방법이 제공된다. 방법은 광학 요소 지지 서브구조체 및 보조 지지 서브구조체를 제공하는 단계를 포함하고, 광학 요소 지지 서브구조체는 노광광을 사용하는 노광 프로세스에서, 마스크의 패턴의 화상을 기판 상에 전사하도록 구성된 광학 영상화 장치의 광학 요소의 그룹의 부분을 형성하는 광학 요소를 지지하도록 구성되고, 보조 지지 서브구조체는 노광 프로세스 중에, 기판 상의 패턴의 화상의 전사 이외의 노광 프로세스의 보조 기능을 실행하도록 구성된 보조 구성요소를 지지하도록 구성된다. 방법은 제1 조립 단계에서, 광학 요소 지지 서브구조체를 거쳐 보조 지지 서브구조체를 일시적으로 지지하기 위해 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스를 사용하여 보조 지지 서브구조체와 광학 요소 지지 서브구조체를 해제 가능하게 연결하는 단계를 더 포함한다. 방법은 제2 조립 단계에서, 광학 요소 지지 서브구조체를 지지하기 위해 광학 요소 지지 서브구조체를 추가의 광학 요소 지지 서브구조체에 연결하고, 보조 지지 서브구조체를 지지하기 위해 보조 지지 서브구조체를 추가의 보조 지지 서브구조체에 연결하는 단계를 더 포함한다. 방법은 제3 조립 단계에서, 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 보조 지지 서브구조체를 거쳐 보조 구성요소를 지지하기 위해 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스를 해제하는 단계를 더 포함한다.
광학 요소 지지 구조체 및 보조 지지 구조체는 임의적으로 복합한 교직된 디자인을 가질 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 통상적으로, 광학 요소 지지 서브구조체는 원주방향에서 광학 요소를 둘러싸도록 구성되어, 광학 요소가 반경방향에서, 광학 요소 지지 서브구조체의 내향으로 위치되게 된다. 보조 구성요소는 반경방향에서, 광학 요소 지지 서브구조체의 내향으로 위치된다. 광학 요소 지지 서브구조체는 반경방향에서 광학 요소 지지 서브구조체를 통해 연장하는 리세스를 갖는다. 바람직하게는, 보조 지지 서브구조체는 반경방향에서, 리세스 부근에 위치되고 그리고/또는 리세스 내로 돌출하고 그리고/또는 리세스를 통해 돌출한다. 더욱이, 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및/또는 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치의 인터페이스 구성요소는 리세스 부근에 위치되고 그리고/또는 광학 요소 지지 서브구조체의 외부측에 위치된다. 모든 이들 경우에, 일시적인 연결 디바이스는 일시적인 연결 디바이스의 이후의 해제를 위해 용이하게 액세스 가능하다.
일시적인 연결 디바이스는 각각의 광학 영상화 장치 모듈의 정상 취급 및 조립 중에 예측될 임의의 상황, 특히 임의의 가속도 하에서 충분히 안정한 연결을 제공하기 위한 임의의 적합한 디자인을 가질 수도 있다. 바람직하게는, 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치의 제1 인터페이스 구성요소 및 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치의 제2 인터페이스 구성요소는 일반적으로 링형 및/또는 판형 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성되고, 일시적인 연결 디바이스는, 광학 영상화 장치의 조립 중에, 리세스 부근에서 광학 요소 지지 서브 구조체 및 보조 지지 서브구조체에 일시적으로 연결된다. 부가적으로 또는 대안으로서, 일시적인 연결 디바이스는, 광학 영상화 장치의 조립 중에, 일반적으로 링형 일시적인 연결 디바이스의 내주부에서 보조 지지 서브구조체에 일시적으로 연결될 수도 있다.
광학 요소 지지 서브구조체와 보조 지지 서브구조체 사이의 연결은 임의의 적합한 유형일 수도 있다. 바람직하게는, 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성되어, 보조 지지 서브구조체가 광학 영상화 장치의 조립 중에, 통계적으로 결정된 방식으로(또한 평형 방식이라 칭함) 광학 요소 지지 서브구조체에 의해 일시적으로 지지되게 된다. 이에 의해, 기생 변형의 도입을 회피하는 특히 바람직한 지지가 성취된다.
부가적으로 또는 대안으로서, 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 복수의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성되어, 광학 영상화 장치의 조립 중에, 일시적인 연결 디바이스 중 적어도 하나가 적어도 2개의 자유도에서 보조 지지 서브구조체와 광학 요소 지지 서브구조체 사이의 운동을 한정하게 된다. 이러한 구성에 의해, 평형 일시적인 장착을 허용하는 특히 간단한 디자인이 성취될 수도 있다.
기본적으로, 임의의 원하는 해제 가능한 연결 기술이 일시적인 연결을 위해 사용될 수도 있다(단독으로 또는 임의의 조합으로). 임의의 경우에, 광학 시스템을 오염시키기 쉬운 입자 또는 부스러기의 발생을 회피하기 위해 협동 구성요소들 사이의 마찰 상대 운동을 가능한 한 적게 요구하는 연결 시스템을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 특정 바람직한 실시예에서, 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및/또는 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치의 인터페이스 구성요소는 포지티브 연결로 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성된다. 부가적으로 또는 대안으로서, 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및/또는 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치의 인터페이스 구성요소는 마찰 연결로 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성될 수도 있다. 본 발명의 특정 바람직한 실시예에서, 제1 일시적인 지지 인터페이스 및/또는 제2 일시적인 지지 인터페이스의 인터페이스 구성요소는 클램핑 인터페이스를 형성하고, 클램핑 인터페이스는 클램핑 연결로 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 결합하도록 구성된다.
광학 요소 지지 구조체 및 보조 지지 구조체의 상호 기계적으로 분리된 지지는 임의의 적합한 방식으로 후속될 수도 있다. 바람직하게는, 광학 요소 지지 서브구조체는 제3 인터페이스 장치를 갖고, 제3 인터페이스 장치는 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스의 해제 후에 보조 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 광학 요소 지지 서브구조체를 지지하기 위해 추가의 광학 요소 지지 서브구조체의 제4 인터페이스 장치와 협동하도록 구성된다. 부가적으로 또는 대안적으로서, 보조 지지 서브구조체는 제5 인터페이스 장치를 갖고, 제5 인터페이스 장치는 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스의 해제 후에 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 보조 지지 서브구조체를 지지하기 위해 추가의 보조 지지 서브구조체의 제6 인터페이스 장치와 협동하도록 구성된다.
광학 요소 및/또는 보조 구성요소는 임의의 적합한 시간 지점에 각각의 지지 구조체에 연결될 수도 있어 각각의 연결을 용이하게 설정한다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
전술된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에서, 보조 구성요소는 일시적인 연결 디바이스를 거쳐 일시적인 연결을 설정하기 전 또는 후에 보조 지지 서브구조체에 의해 미리 지지된다. 임의의 시간 지점에 노광 프로세스를 위한 보조 기능을 수행하는 임의의 유형의 보조 구성요소가 선택될 수도 있다. 이러한 보조 기능은 반드시 노광 프로세스 중에 실행될 필요는 없다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 예를 들어, 특정 보조 기능은 또한 노광 프로세스의 후속의 단계 중에 간헐적으로 실행될 수도 있다.
본 발명의 특정 바람직한 실시예에서, 보조 구성요소는 노광 프로세스에 사용되는 계측 장치의 구성요소이다. 이러한 계측 구성요소는 반드시 광학 요소와 기능적으로 연계되어야만 하는 것은 아니라는 것을 알 수 있을 것이다. 대신, 광학 요소에 대한 공간적 연계로 충분할 수 있다. 특히, 각각의 계측 구성요소는 공간적으로 연계된 광학 요소 이외의 광학 영상화 요소에 기능적으로 연계될 수 있다.
바람직하게는, 그러나, 보조 구성요소는 광학 요소에 연계되고 광학 요소의 상태를 표현하는 변수를 포착하도록 구성된 계측 장치의 구성요소이다. 이 경우에, 특히 광학 영상화 장치의 조립에 앞서 포괄적인 예비 시험을 허용하는 매우 치밀한 기능적으로 고도로 일체화된 모듈이 형성될 수도 있다.
본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 보조 구성요소는 특히 노광 프로세스 중에, 광학 영상화 장치의 구성요소의, 특히 광학 요소의 온도를 조정하기 위해 사용된 온도 조정 장치의 구성요소이다. 통상적으로, 이러한 온도 조정 장치는 냉각 디바이스를 포함한다. 그러나, 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 이러한 온도 조정 장치는 능동 가열 요소를 또한 포함할 수도 있다.
전술된 바와 같이, 광학 요소는 일시적인 연결 디바이스를 거쳐 일시적인 연결을 설정하기 전 또는 후에 광학 요소 지지 서브구조체에 의해 미리 지지된다. 일반적으로, 노광 프로세스에 사용된 광의 파장에 따라, 임의의 원하는 유형의 광학 요소(굴절, 반사 또는 회절)가 각각의 광학 영상화 장치 모듈에서 단독으로 또는 임의의 조합으로 사용될 수도 있다.
더욱이, 본 발명은 노광 프로세스에 사용된 광을 위한 임의의 파장을 사용하여 임의의 유형의 광학 영상화 프로세스를 위해 사용될 수도 있다. 바람직하게는, 그러나, 노광광은 EUV 범위, 특히 5 nm 내지 20 nm의 범위의 파장을 갖는데, 이 경우에 본 발명의 장점이 특히 주목할만하기 때문이다.
본 발명은 더욱이 본 발명에 따른 적어도 하나의 광학 영상화 장치 모듈을 포함하는 광학 영상화 장치에 관한 것이다. 이 경우에, 광학 요소 지지 서브구조체는 보조 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 광학 요소 지지 서브구조체를 지지하기 위해 추가의 광학 요소 지지 서브구조체에 연결될 수도 있다. 부가적으로 또는 대안으로서, 보조 지지 서브구조체는 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 보조 지지 서브구조체를 지지하기 위해 추가의 보조 지지 서브구조체에 연결될 수도 있다.
기계적으로 분리된 지지부는 임의의 적합한 방식으로 후속될 수도 있다. 바람직하게는, 추가의 광학 요소 지지 서브구조체 및 추가의 보조 지지 서브구조체는 진동 격리 공진 주파수 범위에서 기부 지지 구조체 상에 개별적으로 진동 격리된 방식으로 지지되고, 격리 공진 주파수 범위는 바람직하게는 0.8 Hz 내지 30 Hz이다. 본 발명의 특정 실시예에서, 격리 공진 주파수는 바람직하게는 0.05 Hz 내지 8.0 Hz, 더 바람직하게는 0.1 Hz 내지 1.0 Hz, 더 바람직하게는 0.2 Hz 내지 0.6 Hz의 범위이다. 더욱이, 본 발명의 특정 다른 실시예에서, 격리 공진 주파수는 바람직하게는 8 Hz 내지 15 Hz 또는 22 Hz 내지 30 Hz의 범위이다. 이에 의해, 특히 효과적인 기계적 분리가 개별의 분리된 지지 구조체 사이에 성취될 수도 있다.
본 발명의 특정 바람직한 실시예에서, 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 또한 추가의 광학 요소를 지지하도록 구성된다. 이를 위해, 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 본 발명에 따른 추가의 광학 영상화 장치 모듈의 부분을 형성할 수도 있다. 이에 의해, 제조, 취급 및 조립될 매우 치밀한 구성이 성취된다.
추가의 광학 요소 지지 서브구조체가 광학 영상화 장치 모듈을 수용하는 실질적으로 트레이형 구성요소이면, 특히 바람직한 구조적으로 안정하고 신뢰적인 경량의 디자인이 성취될 수도 있다.
본 발명의 다른 양태 및 실시예는 종속 청구항 및 첨부 도면을 참조하는 이하의 바람직한 실시예의 설명으로부터 명백해질 것이다. 개시된 특징의 모든 조합은, 청구범위에 명시적으로 인용되어 있건 아니건간에, 본 발명의 범주 내에 있다.
도 1은 본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예가 실행될 수도 있는 본 발명에 따른 광학 영상화 장치의 바람직한 실시예의 개략도이다.
도 2는 도 1의 광학 영상화 장치의 다른 개략도이다.
도 3은 도 1의 광학 영상화 장치에 의해 실행될 수도 있는 광학 영상화 장치 모듈의 구성요소를 지지하는 방법의 바람직한 실시예의 블록도이다.
도 4는 도 1의 광학 영상화 장치에 사용될 수도 있는 본 발명에 따른 광학 영상화 장치 모듈의 제1 실시예의 개략도이다.
도 5는 도 4의 광학 영상화 장치 모듈의 상세의 개략 단면도이다(도 4의 라인 IV-IV를 따른).
도 6은 도 1의 광학 영상화 장치에 사용될 수도 있는 본 발명에 따른 광학 영상화 장치 모듈의 제2 실시예의 개략도이다.
도 7은 제1 상태에서 도 4 및 도 6의 광학 영상화 장치 모듈의 조립된 조합의 개략도이다.
도 8은 제2 상태에서 도 4 및 도 6의 광학 영상화 장치 모듈의 조립된 조합의 개략도이다.
도 9는 제3 상태에서 도 4 및 도 6의 광학 영상화 장치 모듈의 조립된 조합의 개략도이다.
이하, 본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예가 실행될 수도 있는 본 발명에 따른 광학 영상화 장치(101)의 바람직한 실시예가 도 1 내지 도 9를 참조하여 설명될 것이다. 이하의 설명의 이해를 용이하게 하기 위해, xyz 좌표계가 도면에 도입되는데, 여기서 z-방향은 수직 방향(즉, 중력의 방향)을 나타낸다.
도 1은 13 nm의 파장에서 EUV 범위에서 작동하는 광학 노광 장치(101)의 형태의 광학 영상화 장치의 고도로 개략적인 실제 축적은 아닌 도면이다. 광학 노광 장치(101)는 광학 노광 장치(101)의 주 기능으로서 마스크(103.1)[마스크 유닛(103)의 마스크 테이블(103.2) 상에 위치됨] 상에 형성된 패턴의 화상을 기판(104.1)[기판 유닛(104)의 기판 테이블(104.2) 상에 위치됨] 상에 전사하도록 구성된 광학 투영 유닛(102)을 포함한다. 이를 위해, 광학 노광 장치(101)는 적절한 도광 시스템(light guide system)(도시 생략)을 거쳐 반사 마스크(103.1)를 조명하는 조명 시스템(105)을 포함한다. 광학 투영 유닛(102)은 마스크(103.1)로부터 반사된 광[그 주광선(105.1)에 의해 표현됨]을 수용하고, 마스크(103.1) 상에 형성된 패턴의 화상을 예를 들어, 웨이퍼 등과 같은 기판(104.1) 상에 투영한다.
이를 위해, 광학 투영 유닛(102)은 광학 요소 유닛(106.1 내지 106.6)의 광학 요소 유닛 그룹(106)을 유지한다. 이 광학 요소 유닛 그룹(106)은 광학 요소 지지 구조체(102.1) 내에 유지된다. 광학 요소 지지 구조체(102.1)는 이하에 투영 광학 박스 구조체(POB)(102.1)라 또한 칭하는 광학 투영 유닛(102)의 하우징 구조체의 형태를 취할 수도 있다. 그러나, 이 광학 요소 지지 구조체는 광학 요소 유닛 그룹(106)의 완전한 또는 심지어 기밀한 봉입체를 형성해야 할 필요는 없다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 오히려, 이 광학 요소 지지 구조체는 또한 본 예의 경우에서와 같이 개방 구조체로서 부분적으로 형성될 수도 있다.
투영 광학 박스 구조체(102.1)는 테이블 지지 디바이스(103.3)를 거쳐 마스크 테이블(103.2)을, 그리고 기판 테이블 지지 디바이스(104.3)를 거쳐 기판 테이블(104.2)을 또한 지지하는 기부 구조체(107) 상에 진동 격리 방식으로 지지된다.
투영 광학 박스 구조체(102.1)는 양호한 진동 격리를 성취하기 위해 복수의 진동 격리 디바이스 및 적어도 하나의 중간 지지 구조체 유닛을 거쳐 캐스케이드 방식으로 지지될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 일반적으로, 이들 진동 격리 디바이스는 이하에 더 상세히 설명되는 바와 같이 넓은 주파수 범위에 걸쳐 양호한 진동 격리를 성취하기 위해 상이한 격리 주파수를 가질 수도 있다.
광학 요소 유닛 그룹(106)은 총 6개의 광학 요소 유닛, 즉 제1 광학 요소 유닛(106.1), 제2 광학 요소 유닛(106.2), 제3 광학 요소 유닛(106.3), 제4 광학 요소 유닛(106.4), 제5 광학 요소 유닛(106.5) 및 제6 광학 요소 유닛(106.6)을 포함한다. 본 실시예에서, 각각의 광학 요소 유닛(106.1 내지 106.6)은 미러의 형태의 광학 요소로 이루어진다.
그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 각각의 광학 요소 유닛은 예를 들어, 광학 요소를 유지하고 결국에는 광학 요소 유닛을 지지 구조체에 연결하는 지지 유닛을 위한 인터페이스를 형성하는 개구 정지부, 홀더 또는 리테이너와 같은 다른 구성요소(광학 요소 자체를 지나는)를 또한 포함할 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 다른 실시예에서, 다른 수의 광학 요소 유닛이 사용될 수도 있다는 것이 또한 이해될 수 있을 것이다. 바람직하게는, 4개 내지 8개의 광학 요소 유닛이 제공된다. 미러(106.1 내지 106.6)의 각각의 하나는 연계된 지지 디바이스(108.1 내지 108.6)에 의해 투영 광학 박스 구조체(102.1)에 의해 형성된 지지 구조체 상에 지지된다. 지지 디바이스(108.1 내지 108.6)의 각각의 하나는 각각의 미러(106.1 내지 106.6)가 규정된 제어 대역폭에서 능동 지지되도록 능동 디바이스로서 형성된다.
그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 임의의 다른 유형의 지지 디바이스가 각각의 미러(106.1 내지 106.6)에 대해 선택될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 특히, 수동 지지 요소, 반능동(또는 간헐적 능동) 지지 요소 뿐만 아니라 능동 지지 요소가 단독으로 또는 임의의 조합으로 사용될 수도 있다.
본 예에서, 광학 요소 유닛(106.6)은 광학 요소 유닛 그룹(106)의 제1 광학 요소 유닛을 형성하는 대형의 무거운 구성요소이고, 반면에 다른 광학 요소 유닛(106.1 내지 106.5)은 광학 요소 유닛(106)의 복수의 제2 광학 요소 유닛을 형성한다. 제1 광학 요소 유닛(106.6)의 낮은 제1 제어 대역폭에서 능동 지지되고, 반면에 제2 광학 요소 유닛(106.1 내지 106.5)은 제2 제어 대역폭에서 능동 지지되어, 제1 광학 요소 유닛(106.6)에 대해 제2 광학 요소 유닛(106.1 내지 106.5)의 각각의 소정의 공간 관계를 실질적으로 유지한다.
본 예에서, 유사한 능동 지지 개념이 제3 및 제4 제어 대역폭에서 각각 또한 모두 능동 지지된 마스크 테이블 지지 디바이스(103.3) 및 기판 테이블 지지 디바이스(104.3)에 대해 선택되어, 제1 광학 요소 유닛(106.6)에 대한 마스크 테이블(103.2) 및 기판 테이블(104.2)의 소정의 공간 관계를 각각 실질적으로 유지한다.
그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 다른 지지 개념 또는 공간 조정 개념이 각각 광학 요소 유닛(106.1 내지 106.6) 및/또는 마스크 테이블(103.2) 및/또는 기판 테이블(104.2)에 대해 선택될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
마스크(103.1) 상에 형성된 패턴의 화상은 일반적으로 크기가 축소되고, 기판(104.1)의 다수의 타겟 영역에 전사된다. 마스크(103.1) 상에 형성된 패턴의 화상은 광학 노광 장치(101)의 디자인에 따라 2개의 상이한 방식으로 기판(104.1) 상의 각각의 타겟 영역에 전사될 수도 있다. 광학 노광 장치(101)가 소위 웨이퍼 스텝퍼 장치로서 설계되면, 마스크(103.1) 상에 형성된 전체 패턴을 조사함으로써 패턴의 전체 화상이 하나의 단일 스텝에서 기판(104.1) 상의 각각의 타겟 영역에 전사된다. 광학 노광 장치(101)가 소위 스텝 앤드 스캔 장치(step-and-scan apparatus)로서 설계되면, 패턴의 화상은 기판 테이블(104.2) 및 따라서 기판(104.1)의 대응 스캐닝 이동을 동시에 수행하면서 투영빔 하에서 마스크 테이블(103.2) 및 따라서 마스크(103.1) 상에 형성된 패턴을 점진적으로 스캐닝함으로써 기판(104.1) 상의 각각의 타겟 영역에 전사된다.
양 경우에, 서로에 대한 뿐만 아니라 마스크(103.1)에 대한 그리고 기판(104.1)에 대한 노광 프로세스에 참여하는 구성요소들 사이의[즉, 광학 요소 유닛 그룹(106)의 광학 요소, 즉 미러(106.1 내지 106.6) 사이의] 소정의 공간 관계는 고품질 영상화 결과를 얻기 위해 미리 결정된 한계 내에서 유지되어야 한다.
광학 노광 장치(101)의 작동 중에, 서로에 대한 뿐만 아니라 마스크(103.1) 및 기판(104.1)에 대한 미러(106.1 내지 106.6)의 상대 위치는 시스템 내로 도입된 내적 및 외적 모두의 교란으로부터 발생하는 변경을 받게 된다. 이러한 교란은 예를 들어 시스템 자체 내에 발생될 뿐만 아니라 시스템의 주변부, 예를 들어 기부 지지 구조체(107)[이는 자체로 지면 구조체(111) 상에 지지되어 있음]를 거쳐 또한 도입된 힘으로부터 발생하는 진동의 형태의 기계적 교란일 수도 있다. 이들 교란은 또한 열적으로 유도된 교란, 예를 들어 시스템의 부분의 열팽창에 기인하는 위치 변경일 수도 있다.
서로에 대한 뿐만 아니라 마스크(103.1) 및 기판(104.1)에 대한 미러(106.1 내지 106.6)의 공간 관계의 상기 미리 결정된 한계를 유지하기 위해, 미러(106.1 내지 106.6)의 각각의 하나는 이들의 지지 디바이스(108.1 내지 108.6) 각각을 거쳐 공간 내에 능동 위치된다. 유사하게, 마스크 테이블(103.2) 및 기판 테이블(104.2)은 각각의 지지 디바이스(103.3, 104.3)를 각각 거쳐 공간 내에 능동 위치된다.
이하에는, 영상화 프로세스에 참여하는 구성요소(106.1 내지 106.6, 103.1, 104.1)의 공간 조정을 위한 제어 개념이 도 1 및 도 2를 참조하여 설명될 것이다. 전술된 바와 같이, 모든 6개의 자유도에서 구성요소(106.1 내지 106.6, 103.1, 104.1)의 조정의 제어는 특정 조정 제어 대역폭에서 지지 디바이스(108.1 내지 108.6, 103.3, 104.3)의 각각의 하나에 접속되어 대응 제어 신호를 제공하는[제어 유닛(109) 및 각각의 지지 디바이스에서 실선 및 점선에 의해 도 1에 지시되어 있는 바와 같이] 제어 유닛(109)을 사용하여 행해진다.
제어 유닛(109)은 노광 프로세스의 보조 기능으로서, 모든 6개의 자유도(도 1 및 도 2에 점선에 의해 지시되어 있는 바와 같이)에서 구성요소(106.1 내지 106.6, 103.1, 104.1)의 각각의 하나의 위치 및 배향을 포착하는 계측 장치(110)의 계측 신호의 함수로서 그 제어 신호를 발생한다. 전술된 바와 같이, 계측 장치(110)는 영상화 프로세스에 참여하는 모든 다른 구성요소(106.1 내지 106.5, 103.1, 104.1)가 참조하는 관성 기준으로서(즉, 기준 광학 요소 유닛으로서) 대형 광학 푸트프린트 제6 미러(106.6)를 사용한다. 도 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 제6 미러(106.6)는 광로에서, 마스크(103.1) 상에 형성된 패턴의 화상을 기판(104.1) 상에 전사할 때 노광광(105.1)에 의해 최종으로 타격되는 최종 미러 유닛이다.
이를 위해, 계측 장치는 도 1(고도로 개략적으로) 및 도 2에 지시되어 있는 바와 같이 기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)에 기계적으로 연결된 계측 디바이스(110.5) 뿐만 아니라 투영 광학 박스 구조체(102.1)에 의해 이후에 지지되는 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 형태의 보조 지지 구조체에 기계적으로 연결된 복수의 계측 디바이스(110.2, 110.3, 110.4)를 포함하는 계측 유닛(110.1)을 사용한다. 본 실시예에서, 각각의 계측 디바이스(110.2, 110.3, 110.4, 110.5)는 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1) 또는 기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)에 각각 연결되고 각각의 미러(106.1, 106.6), 마스크 테이블 지지 디바이스(103.3), 기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2) 및 기판 테이블 지지 디바이스(104.3)에 각각 직접 기계적으로 연결된 기준 요소(110.6)와 협동하는 센서 헤드(110.7)의 형태의 보조 구성요소를 포함한다.
용어 "직접 기계적으로 연결된"은 본 발명의 개념에서, 다른 부분의 위치를 측정함으로써 하나의 부분의 위치를 신뢰적으로 결정하는 것을 허용하는 부분들 사이의 짧은 거리(존재한다면)를 포함하는, 2개의 부분들 사이의 직접 연결로서 이해되어야 한다. 특히, 용어는 예를 들어 열 또는 진동 효과에 기인하는 위치 결정의 불확실성을 도입하는 다른 부분의 개재가 없는 것을 의미할 수도 있다. 본 발명의 특정 실시예에서, 기준 요소는 미러에 연결된 개별 구성요소가 아닐 수도 있고, 예를 들어 미러의 제조시에 개별 프로세스에서 형성된 격자 등으로서 미러의 표면 상에 직접 또는 일체로 형성될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
본 실시예에서, 계측 디바이스(110.2, 110.3, 110.4, 110.5)는 인코더 원리에 따라 작동하는데, 즉 센서 헤드는 구조화된 표면을 향해 센서 광빔을 방출하고 기준 요소의 구조화된 표면으로부터 반사된 판독 광빔을 검출한다. 구조화된 표면은 예를 들어 일련의 병렬 라인(1차원 격자) 또는 상호 경사진 라인의 그리드(2차원 격자) 등을 포함하는 격자일 수도 있다. 위치 변경은 기본적으로 판독빔을 거쳐 성취된 신호로부터 유도될 수도 있는 센서빔에 의해 통과된 라인을 카운팅하는 것으로부터 포착된다.
그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 인코더 원리와는 별개로, 임의의 다른 유형의 비접촉식 측정 원리(예를 들어, 간섭성 측정 원리, 용량성 측정 원리, 유도성 측정 원리 등)가 단독으로 또는 임의의 조합으로 사용될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 임의의 적합한 접촉 기반 계측 장치가 마찬가지로 사용될 수도 있다는 것이 또한 이해될 수 있을 것이다. 접촉 기반 작동 원리로서, 자기왜곡 또는 전기왜곡 작동 원리 등이 예로서 사용될 수도 있다. 특히, 작동 원리의 선택은 정확도 요구의 함수로서 이루어질 수도 있다.
제6 미러(106.6)에 연계된 계측 디바이스(110.2)(모든 6개의 자유도에서)는 투영 시스템 계측 지지 구조체(112)와 관성 기준을 형성하는 제6 미러(106.6) 사이의 제1 공간 관계를 포착한다.
더욱이, 영상화 프로세스에 참여하는 다른 구성요소(106.1 내지 106.5, 103.1, 104.1)에 연계된 계측 디바이스(110.2, 110.3, 110.4, 110.5)(모든 6개의 자유도에서)는 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)와 연계된 구성요소(106.1 내지 106.5, 103.1, 104.1) 사이의 공간 관계를 포착한다.
기판(104.1)의 경우에, 이는 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)에 연결된 계측 디바이스(110.4)[기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)에 직접 기계적으로 연결된 기준 요소(110.6)와 조합하여] 및 기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)에 기계적으로 연결된 기판 시스템 계측 디바이스(110.5)[기판 테이블 지지 디바이스(104.3)에 직접 기계적으로 연결된 기준 요소(110.6)와 조합하여]를 사용하여 캐스케이드 방식으로 행해진다(도 2 참조).
마지막으로, 계측 장치(110)는 제1 공간 관계 및 제2 공간 관계를 사용하여 제6 미러(106.6)와 각각의 다른 구성요소(106.1 내지 106.5, 103.1, 104.1) 사이의 공간 관계를 결정한다. 이들 계측 신호의 함수로서, 이후에 각각의 지지 디바이스(108.1 내지 108.6, 103.3, 104.3)를 위한 대응 제어 신호를 발생하는 대응 계측 신호가 이어서 제어 유닛(109)에 제공된다.
본 발명의 다른 실시예에서, 영상화 프로세스에 참여하는 각각의 다른 구성요소[예를 들어, 미러(106.1 내지 106.5), 마스크(103.1) 및 기판(104.1)] 중 임의의 하나와 기준 광학 요소(예를 들어, 제6 미러) 사이의 공간 관계의 직접 측정이 또한 제공될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 공간 경계 조건에 따라, 이러한 직접 및 간접 측정의 임의의 조합이 또한 사용될 수도 있다.
전술된 바와 같이, 투영 광학 박스 구조체(102.1) 내로(및 따라서, 투영 시스템 내로) 도입된 진동 교란 에너지의 양을 감소시키기 위해, 그리고 최종적으로 이러한 진동 교란 에너지의 악영향을 감소시키기 위해, 투영 광학 박스 구조체(102.1)는 제1 진동 격리 디바이스(113)를 거쳐 기부 지지 구조체(107) 상에 지지된다. 유사한 것이 제2 진동 격리 디바이스(114)를 거쳐 투영 광학 박스 구조체(102.1) 상에[및 따라서, 기부 지지 구조체(107) 상에] 지지된 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)에 적용되어, 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)가 투영 광학 박스 구조체(102.1)로부터 기계적으로 분리되게 된다.
그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)에 의해 형성된[투영 광학 박스 구조체(102.1) 상에 지지되는 대신에] 보조 지지 구조체가 또한 제2 진동 격리 디바이스(114)를 거쳐 기부 지지 구조체(107) 상에 직접 지지될 수도 있어(점선에 의해 도 2에 지시된 바와 같이), 이에 의해 투영 광학 박스 구조체(102.1)로부터 추가의 기계적 분리를 성취한다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)는 제2 진동 격리 디바이스(114)를 거쳐 기부 지지 구조체(107) 상에 지지된다. 기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)로부터 분리하여 투영 광학 박스 구조체(102.1) 및 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 이 지지에 의해, 광학 요소(106.1 내지 106.6) 뿐만 아니라 계측 유닛(110.1)은 기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)(냉각 매체 상의 난류에 기인하여, 각각 2차 진동 교란을 발생하고 2차 진동 교란 에너지를 해제함)의 냉각 회로(더 상세히 도시되어 있지 않음)와 같은 2차 내부 진동 교란의 소스의 지지부(112.2)로부터 기계적으로 분리된다.
바람직하게는, 유사한 접근법이 기판 테이블 지지 디바이스(104.3)와 같은 진동 교란의 1차 소스의 지지를 위해 그리고 이어서 또한 대응 진동 격리 디바이스(더 상세히 도시되어 있지 않음)를 거쳐 기부 지지 구조체(107) 상에 지지되는 마스크 테이블 지지 디바이스(103.3)의 지지를 위해 선택된다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
제1 진동 격리 디바이스(113)는 약 0.5 Hz의 제1 진동 격리 공진 주파수를 가져, 이에 의해 이 위치에서 유리한 저역 통과 진동 격리를 성취한다. 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 제1 진동 격리 공진 주파수는 0.05 Hz 내지 8.0 Hz의 범위, 0.1 Hz 내지 1.0 Hz의 범위, 또는 0.2 Hz 내지 0.6 Hz의 범위에 위치되도록 선택될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 이들 케이스 중 임의의 하나에서, 유리한 저역 통과 진동 격리가 성취된다. 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 제1 진동 격리 공진 주파수는 0.05 Hz 내지 30 Hz의 범위에 위치되도록 선택될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 더욱이, 본 발명의 특정 실시예에서, 제1 진동 격리 공진 주파수는 바람직하게는 8 Hz 내지 15 Hz 또는 22 Hz 내지 30 Hz의 범위이다.
제2 진동 격리 디바이스(114)는 약 3 Hz의 제2 진동 격리 공진 주파수를 갖는다. 기부 구조체(107) 상의 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 2단 진동 격리된 지지에 의해[진동 격리 디바이스(114, 113)를 거친], 적어도 2단, 다수의 경우에 심지어 진동 교란의 1차 소스[기판 테이블 지지 디바이스(104.3) 및 마스크 테이블 지지 디바이스(103.3)의 지지와 같은]로부터 그리고 진동 교란의 2차 소스[광학 투영 유닛(102)의 내부 냉각 디바이스(115) 및 기판 시스템 계측 지지 구조체(112.2)와 같은]로부터 3단 진동 격리가 성취된다는 것이 또한 이해될 수 있을 것이다.
달리 말하면, 한편으로는, 유리한 방식으로 1차 및 2차 진동 교란 에너지를 갖는 구조체는 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)에 도달하기 전에(그렇다 해도) 기부 지지 구조체(107) 및 투영 광학 박스 구조체(102.1)를 거쳐 우회하여, 이에 의해 1차 및 2차 진동 교란이 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)에 도달하도록 진행해야 할 구조적 경로의 길이를 유리하게 증가시키고, 따라서 1차 및 2차 진동 교란이 감쇠를 유리하게 증가시킨다.
이는 궁극적으로는, 시스템의 제어 성능에 매우 유리한 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 특히 높은 진동 안정화를 유도한다.
도 2 및 도 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 내부 2차 진동 교란 소스를 또한 형성하는 광학 투영 유닛(102)의 내부 냉각 디바이스(115)의 형태의 추가의 보조 구성요소에 대해 유사한 지지 전략이 또한 선택된다. 내부 냉각 디바이스(115)는 대응 냉각 도관(더 상세히 도시되어 있지 않음)을 지지하고 광학 요소(106.1 내지 106.6) 및 계측 디바이스(110.2)(도 4 참조)의 부분을 둘러싸는 슬리브(115.1)의 형태의 보조 지지 구조체를 포함한다. 내부 냉각 디바이스(115)는 광학 요소(106.1 내지 106.6), 이들의 연계된 지지 디바이스(108.1 내지 108.6) 및 투영 광학 박스 구조체(102.1)와 즉각적인 물리적 또는 구조적 접촉을 갖지 않도록 설계된다. 유사한 것이 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 구성요소에 대해 적용된다.
내부 냉각 디바이스(115)는 단지 내부 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)를 거쳐 기부 구조체(107)와 즉각적인 물리적 또는 구조적 접촉만을 갖는다. 본 예에서, 내부 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)는 추가의 진동 격리 디바이스(115.3)를 거쳐 기부 지지 구조체(107) 상에 지지된다. 그러나, 이러한 추가의 진동 격리 디바이스는 또한 생략될 수도 있다.
하나 이상의 추가의 냉각 디바이스, 특히 투영 광학 박스 구조체(102.1)를 둘러싸는 외부 냉각 디바이스가 제공되어, 점선 윤곽(116)에 의해 도 2에 지시되어 있는 바와 같이, 내부 냉각 디바이스(115)와 유사한 방식으로[즉, 광학 요소(106.1 내지 106.6), 이들의 연계된 지지 디바이스(108.1 내지 108.6) 및 투영 광학 박스 구조체(102.1)와의 즉각적인 물리적 또는 구조적 접촉 없이] 기부 지지 구조체(107) 상에 지지될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
특히 도 2 및 도 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 이러한 즉각적인 물리적 또는 구조적 접촉을 회피하기 위해, 내부 냉각 디바이스(115)는 지지 디바이스(108.1 내지 108.6)가 각각 내부 냉각 디바이스(115)와 접촉하지 않고 이를 통해 도달할 수도 있는 대응 개구 또는 리세스(115.2)를 갖는다. 더욱이, 내부 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)는 그에 물리적으로 접촉하지 않고 투영 광학 박스 구조체(102.1) 내에 제공된 대응 개구 또는 리세스(102.2)를 통해 도달한다.
따라서, 명백하게, 투영 광학 박스 구조체(102.1)에 의해 형성된 주 지지 구조체 뿐만 아니라 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1) 및 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)에 의해 형성된 보조 지지 구조체는 광학 영상화 장치(101)의 제조 및 조립 중에 상당한 과제를 제시하는 상호 기계적으로 분리된 구조체의 고도로 복잡한 교직된 상호 관통 시스템을 형성한다.
광학 영상화 장치(101)의 제조 및 조립을 용이하게 하기 위해, 본 발명에 따르면, 투영 광학 박스 구조체(102.1), 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1) 및 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)는 개별의 주 및 보조 지지 서브구조체로 분할된다. 공간적으로 및 결국에는 또한 기능적으로 서로[특히, 하나 이상의 미러(106.1, 106.6)에] 연계된 주 및 보조 지지 서브구조체의 부분은, 도 4 내지 도 9를 참조하여 이하에 더 상세히 설명되는 바와 같이, 광학 영상화 장치(101)의 조립에 앞서 개별의 그리고 결국에는 또한 미리 시험된 개별 광학 영상화 장치 모듈(117.1 내지 117.4)로 조합되어 조립된다.
이러한 미리 조립된 상태에서 제1 광학 영상화 장치 모듈(117.1)을 도시하는 도 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 제1 광학 영상화 장치 모듈(117.1)은 미러(106.2)를 원주방향으로 둘러싸는 투영 광학 박스 구조체(102.1)의 일반적으로 링형 힘 프레임 요소(118.1)에 의해 3개의 지지 디바이스(108.1)를 거쳐 지지된 미러(106.2)를 포함한다.
양각대(bipod)의 방식으로 각각 형성되는 3개의 지지 디바이스(108.1)가 미러(106.2)의 원주에 실질적으로 균일하게 분포되어, 육각대(hexapod)의 방식의 평형 지지부가 성취된다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서 미러(106.2)의 임의의 다른 원하는 유형의 지지가 실현될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
도 4로부터 더 알 수 있는 바와 같이, 미러(106.2)는 보조 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)의 부분을 형성하고 냉각 디바이스(115)(더 상세히 도시되어 있지 않음)의 냉각 도관을 지지하는 일반적으로 링형 냉각기 프레임 요소(119.1)의 형태의 보조 지지 서브구조체에 의해 둘러싸인다. 반경방향(R)[미러(106.2) 및/또는 링형 힘 프레임 요소(118.1)에 의해 규정됨]에서, 냉각기 프레임 요소(119.1)는 미러(106.2)와 힘 프레임 요소(118.1) 사이에, 즉 힘 프레임 요소(118.1)의 반경방향 내향으로 위치된다.
더욱이, 미러(106.2)는 보조 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 부분을 형성하고 계측 디바이스(110)의 하나 이상의 센서 헤드(110.7)를 지지하는 일반적으로 링형 계측 프레임 요소(120.1)의 형태의 보조 지지 서브구조체에 의해 둘러싸인다. 반경방향(R)에서, 계측 프레임 요소(120.1)는 미러(106.2)와 힘 프레임 요소(118.1)와 냉각기 프레임 요소(119.1) 각각 사이에서 힘 프레임 요소(118.1)의 반경방향 내향으로 위치된다.
냉각기 프레임 요소(119.1)와 계측 프레임 요소(120.1)의 모두는 일시적 연결 디바이스(121)를 거쳐 힘 프레임 요소(118.1)에 일시적으로 장착된다. 이를 위해, 냉각기 프레임 요소(119.1)는 힘 프레임 요소(118.1) 내의 연계된 리세스(102.2)를 통해 측방향 외향으로[반경방향(R)에서] 돌출하는 복수의 반경방향 돌출부(119.2)를 포함한다.
유사하게, 계측 프레임 요소(120.1)는 냉각기 프레임 요소(119.1) 내의 연계된 리세스(115.2) 뿐만 아니라 힘 프레임 요소(118.1) 내의 연계된 리세스(102.2)를 통해 측방향으로 외향으로[반경방향(R)으로] 돌출하는 복수의 반경방향 돌출부(120.2)를 포함한다.
본 예에서, 3개의 반경방향 돌출부(119.2) 및 3개의 반경방향 돌출부(120.2)는 냉각기 프레임 요소(119.1) 및 계측 프레임 요소(120.1) 각각의 원주를 따라 실질적으로 균일하게 분포된다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 임의의 다른 수의 반경방향 돌출부 및/또는 이들 반경방향 돌출부의 분포가 선택될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 특히, 통상적으로 보조 지지 구조체의 크기 및 중량에 따라, 하나의 단일의 반경방향 돌출부가 어느 경우에나 충분할 수도 있다.
일시적인 연결 디바이스(121)를 거쳐 힘 프레임 요소(118.1)와 냉각기 프레임 요소(119.2)를 일시적으로 연결하기 위해, 힘 프레임 요소(118.1)는 그 외부측에서, 냉각기 프레임 요소(119.1)의 각각의 돌출부(119.2)에 연계된 각각의 리세스(102.2)의 영역에 위치된 제1 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(122.1)를 포함하는 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치(122)를 갖는다.
유사하게, 제1 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(122.1)에 인접하여 위치된 돌출부(119.2)의 영역에서, 각각의 돌출부(119.2)는 냉각기 프레임 요소(119.1)의 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치(123)의 제2 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(123.1)를 형성한다.
도 4 및 도 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 일시적인 연결 디바이스(121)는 제1 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(122.1)의 영역에서 힘 프레임 요소(119.1)에 연결되고 제2 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(123.1)의 영역에서 냉각기 프레임 요소(120.1)에 연결된 일반적으로 링형 및 판형 커넥터 요소(121.1)를 포함한다. 따라서, 일시적으로, 냉각기 프레임 요소(119.1)는 힘 프레임 요소(118.1)를 거쳐 지지된다.
이들 연결 중 어느 하나는 임의의 연결 기술(포지티브 연결, 마찰 연결 및 접착 연결, 모노리식 연결 또는 이들의 임의의 조합을 포함함)에 의해 형성될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 이들 연결 중 적어도 하나는 해제 가능한 연결이다.
본 예에서, 도 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 일시적인 연결 디바이스(121)는 커넥터 요소(121.1)의 내주부에 형성된 일반적으로 V형 리세스(121.3)와 제2 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(123.1)의 일(상부)측에 형성된 일반적으로 V형 리세스(123.2)를 결합하는 일반적으로 볼형 제1 인터페이스 요소(121.2)를 포함한다. 제2 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(123.1)의 대향(하부)측은 커넥터 요소(121.1) 내의 대응 나사산에 결합하는 클램핑 나사 요소(121.4)의 일반적으로 반구형 클램핑 헤드에 의해 접촉된다.
힘 프레임 요소(118.1)와 냉각기 프레임 요소(119.1)를 연결하기 위해, 볼 요소(121.2)는 V형 리세스(121.3, 123.2) 내에 삽입된다. 그 후에, 클램핑 나사 요소(121.4)는 매우 약간 조여져서[기본적으로, 단지 볼 요소(121.2)와 리세스(121.3, 123.2)의 벽 사이의 적절한 접촉을 보장하기 위해], 약간의 클램핑 연결(즉, 마찰 연결)과 포지티브 연결의 조합이 힘 프레임 요소(118.1)와 냉각기 프레임 요소(119.1) 사이에 형성되어 실질적으로 2개의 자유도(degrees of freedom: DOF)만으로 운동을 한정한다. 따라서, 실질적으로 평형 장착부가 3개의 일시적인 연결 디바이스(121)를 거쳐 성취된다.
동일한 연결이 3개의 일시적 연결 디바이스(121)를 거쳐 힘 프레임 요소(118.1)와 계측 프레임 요소(120.1)를 연결하는데 사용되어, 계측 프레임 요소(120.1)가 또한 힘 프레임 요소(118.1)를 거쳐 일시적으로 지지되게 된다. 따라서, 단지 이와 관련하여 상기에 제공된 설명만을 여기서 참조한다.
이후에 시간 지점에 일시적인 연결 디바이스(121)를 거쳐 각각의 연결을 해제하기 위해, 클램핑 나사 요소(121.4)가 해제되고 볼 요소(121.2)가 제거되어, 투영 광학 박스 구조체(102.1), 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1) 및 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)를 각각 거쳐 기계적으로 분리된 방식으로 최종적으로 지지된, 힘 프레임 요소(118.1)와 냉각기 프레임 요소(119.1)와 계측 프레임 요소(120.1) 각각 사이에 충분한 간극이 형성되게 된다.
일시적인 커넥터 요소(121.1)는 일시적인 연결의 해제 후에 적소에 유지될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 특정 실시예에서, 일시적인 커넥터 요소(121.1)는 또한 힘 프레임 요소(118.1)와 모노리식으로 형성될 수도 있다는 것이 주목되어야 한다. 그러나, 본 발명의 특정 다른 실시예에서, 일시적인 커넥터 요소(121.1)는 또한 힘 프레임 요소(118.1)로부터 제거될 수도 있다.
일시적 연결 디바이스(121)를 거친 일시적 연결에 의해, 광학 영상화 장치 모듈(117.1)의 제조, 취급 및 조립은 개별 지지 서브구조체(118.1, 119.1, 120.1)의 복잡한 교직된 디자인에도 불구하고 상당히 용이해진다는 것이 또한 이해될 수 있을 것이다. 특히, 전체 광학 영상화 장치 모듈(117.1)의 취급은 간단히 힘 프레임 요소(118.1) 상에 인가된 대응 취급력을 거쳐 후속할 수도 있다.
더욱이, 각각의 지지 서브구조체(118.1, 119.1, 120.1)는 노광 프로세스 중에 성취될 이들의 최종 위치 및 배향에 대해 특정 미리 규정된 공차(이들의 상호 상대 위치 및 배향에 관련하여) 이내에 일시적으로 고정될 수도 있기 때문에, 광학 영상화 장치 모듈(117.1)은 광학 영상화 장치(101)의 조립에 앞서 미리 시험될 수도 있다.
본 발명의 다른 실시예에서, 임의의 다른 적합한 유형의 연결이 일시적인 연결 디바이스(121)를 거쳐 선택될 수도 있다는 것이 또한 이해될 수 있을 것이다. 특히, 그렇지 않으면 광학 시스템을 오염시킬 수도 있는 입자 또는 부스러기의 발생을 회피하기 위해 장치의 구성요소들 사이에 가능한 한 적은 마찰 운동을 필요로 하는 연결을 실현하는 것이 바람직하다. 특히, 예를 들어, 액추에이터 요소(예를 들어, 압전 액추에이터 등)가 일시적인 연결 장치의 구성요소들 사이에 인가된 유지력(통상적으로, 클램핑력)을 발생시키거나 해제하는 능동 해결책이 구현될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
도 6은 제2 광학 영상화 장치 모듈(117.2)의 형태의 본 발명에 따른 추가의 광학 영상화 장치 모듈의 개략 단면도를 도시하고 있다. 광학 영상화 장치 모듈(117.2)은 미리 조립된 상태로 도시되어 있고, 여기서 이는 투영 광학 박스 구조체(102.1)의 상부 부분을 형성하는 일반적으로 트레이형 힘 프레임 요소(124.1)를 포함한다.
일반적으로 링형 냉각기 프레임 요소(125.1)의 형태의 보조 지지 서브구조체는 힘 프레임 요소(124.1)의 반경방향 내향으로[트레이형 힘 프레임 요소(124.1)에 의해 규정된 반경방향(R)으로] 위치되고, 냉각 디바이스(115)의 냉각 도관(더 상세히 도시되어 있지 않음)을 지지하는 보조 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)의 부분을 형성한다.
더욱이, 힘 프레임 요소(124.1)는 보조 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 부분을 형성하는 일반적으로 링형 계측 프레임 요소(126.1)의 형태의 보조 지지 서브구조체를 수용한다. 반경방향(R)에서, 계측 프레임 요소(126.1)는 또한 힘 프레임 요소(124.1)의 반경방향 내향으로 또한 위치된다.
냉각기 프레임 요소(125.1)와 계측 프레임 요소(126.1)의 모두는 제1 광학 영상화 장치 모듈(117.1)의 대응 구성요소(119.1, 120.1)의 맥락에서 전술된 바와 동일한 방식으로 일시적인 연결 디바이스(121)를 거쳐 힘 프레임 요소(124.1)에 일시적으로 장착된다. 따라서, 명시적인 참조가 상기에 제공된 설명에 대해 이루어진다.
재차, 냉각기 프레임 요소(125.1)는 힘 프레임 요소(124.1) 내의 연계된 리세스(102.2)를 통해 측방향으로 외향으로[반경방향(R)으로] 돌출하는 복수의 반경방향 돌출부(125.2)를 포함한다. 유사하게, 계측 프레임 요소(126.1)는 힘 프레임 요소(124.1) 내의 연계된 리세스(102.2)를 통해 측방향으로 외향으로[반경방향(R)으로] 돌출하는 복수의 반경방향 돌출부(126.2)를 포함한다.
재차, 본 예에서, 3개의 반경방향 돌출부(125.2) 및 3개의 반경방향 돌출부(126.2)는 냉각기 프레임 요소(125.1) 및 계측 프레임 요소(126.1)를 따라 각각 실질적으로 균일하게 분포된다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 임의의 다른 수의 반경방향 돌출부 및/또는 이들 반경방향 돌출부의 분포가 선택될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 특히, 통상적으로 보조 지지 서브구조체의 크기 및 중량에 따라, 하나의 단일의 반경방향 돌출부가 어느 경우에나 충분할 수도 있다.
일시적인 연결 디바이스(121)를 거쳐 힘 프레임 요소(124.1)와 냉각기 프레임 요소(125.2)를 해제 가능하게 그리고 일시적으로 연결하기 위해, 힘 프레임 요소(124.1)는 그 외부측에서, 냉각기 프레임 요소(125.1)의 각각의 돌출부(125.2)에 연계된 각각의 리세스(102.2)의 영역에 위치된 제1 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(127.1)를 포함하는 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치(127)를 갖는다. 유사하게, 제1 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(127.1)에 인접하여 위치된 돌출부(125.2)의 영역에서, 각각의 돌출부(125.2)는 냉각기 프레임 요소(125.1)의 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치(128)의 제2 일시적인 지지 인터페이스 구성요소(128.1)를 형성한다.
일시적인 연결 디바이스(121)는 도 5의 맥락에서 설명된 바와 동일한 방식으로 설계된다. 따라서, 명시적 참조가 상기에 제공된 설명에 이루어진다.
동일한 해제 가능한 연결이 3개의 일시적 연결 디바이스(121)를 거쳐 힘 프레임 요소(124.1)와 계측 프레임 요소(126.1)를 연결하는데 사용되어, 계측 프레임 요소(126.1)가 또한 힘 프레임 요소(124.1)를 거쳐 일시적으로 지지되게 된다. 따라서, 단지 이와 관련하여 상기에 제공된 설명만을 여기서 참조한다.
여기서, 마찬가지로, 일시적 연결 디바이스(121)를 거친 일시적 연결에 기인하여, 광학 영상화 장치 모듈(117.2)의 제조, 취급 및 조립은 개별 지지 서브구조체(124.1, 125.1, 126.1)의 복잡한 교직된 디자인에도 불구하고 상당히 용이해진다. 특히, 전체 광학 영상화 장치 모듈(117.2)의 취급은 간단히 힘 프레임 요소(124.1) 상에 인가된 대응 취급력을 거쳐 후속할 수도 있다.
더욱이, 각각의 지지 서브구조체(124.1, 125.1, 126.1)는 노광 프로세스 중에 성취될 이들의 최종 위치 및 배향에 대해 특정 미리 규정된 공차(이들의 상호 상대 위치 및 배향과 관련하여) 이내에 일시적으로 고정될 수도 있기 때문에, 광학 영상화 장치 모듈(117.2)은 예를 들어 계측 프레임 요소(126.1)가 자체로 계측 장치의 구성요소를 지지하는 경우에 광학 영상화 장치(101)의 조립에 앞서 미리 시험될 수도 있다.
광학 영상화 장치 모듈(117.2)은 도 6에 도시된 바와 같은 그 미리 조립된 상태에서, 광학 요소(106.1, 106.6) 중 임의의 하나를 유지하지 않고, 오히려 이는 제1 광학 영상화 장치 모듈(117.1)의 대응 지지 구조체를 위한 인터페이스를 제공하는 투영 광학 박스 구조체(102.1), 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1) 및 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)를 포함하는 미리 조립된 모듈이라는 것이 이해될 수 있을 것이다.
따라서, 도 7로부터 알 수 있는 바와 같이, 광학 영상화 장치(101)의 특정 조립 상태에서, 제1 광학 영상화 장치 모듈(117.1)은 제2 영상화 장치 모듈(117.2) 내에 삽입된다. 일단 이러한 것이 행해지면, 힘 프레임 요소(118.1) 및 힘 프레임 요소(124.1)는 힘 프레임 요소(118.1)의 제3 인터페이스 장치(129) 및 힘 프레임 요소(124.1)의 제4 인터페이스 장치(130)에서 연결되어(임의의 연결 기술, 특히 단독으로 또는 임의의 조합으로, 마찰 연결, 포지티브 연결 또는 접착 연결을 사용하여), 제1 광학 영상화 장치 모듈(117.1)이 이제 제2 광학 영상화 장치 모듈(117.2)의 힘 프레임 요소(124.1)에 의해 지지되게 된다.
일단 힘 프레임 요소(118.1)와 힘 프레임 요소(124.1) 사이의 이 연결이 완료되면, 계측 프레임 요소(120.1)의 돌출부(120.2)의 각각의 자유 단부(120.3)에 형성된 제5 인터페이스 장치(131)는 계측 프레임 요소(126.1)의 대응하는 인접한 제6 인터페이스 장치(132)에 견고하게 기계적으로 연결된다.
이 연결은 연결된 구성요소에 예비 응력이 없이 가능한 한 멀리 있는 방식으로 이루어진다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 이를 위해, 예를 들어 적합한 수단(스페이스 등과 같은)이 연결된 계측 프레임 요소(120.1, 126.1) 내의 공차를 보상하는데 사용될 수도 있다.
유사한 것이 이들의 상호 인접한 인터페이스에서 또한 기계적으로 연결된 냉각기 프레임 요소(119.1, 125.1)에 적용된다.
일단, 충분히 견고한 기계적 연결이 계측 프레임 요소(120.1, 126.1)와 냉각기 프레임 요소(119.1, 125.1) 사이에 얻어지면, 용이하게 액세스 가능한 일시적 연결 디바이스(121)가 해제되어(도 8에 도시된 바와 같이), 계측 프레임 요소(120.1)가 이제 제2 광학 영상화 장치 모듈(117.2)의 계측 프레임 요소(126.1)에 의해 지지되게 되고, 냉각기 프레임 요소(119.1)가 이제 제2 광학 영상화 장치 모듈(117.2)의 냉각기 프레임 요소(125.1)에 의해 지지되게 되는데, 양자는 더 이상 힘 프레임 요소(118.1)와 즉각적인 기계적 연결을 갖지 않는다.
마지막으로, 제2 광학 영상화 장치 모듈(117.1)의 힘 프레임 요소(124.1)는 제3 광학 영상화 장치 모듈(117.3)의 추가의 힘 프레임 요소(133.1)에 연결된다. 추가의 힘 프레임 요소(133.1)는, 결국에는 전술된 바와 동일한 방식으로 추가의 광학 영상화 장치 모듈을 추가한 후에, 도 9에 개략적으로 지시되어 있는 바와 같이 진동 격리 디바이스(113)를 거쳐 기부 구조체(107) 상에 최종적으로 지지된다.
유사하게, 냉각기 프레임 요소(119.1, 125.1)의 돌출부(119.2, 125.2)는 도 9에 개략적으로 지시되어 있는 바와 같이, 제3 진동 격리 디바이스(115.3)를 거쳐 진동 격리된 방식으로 기부 구조체(107) 상에 최종적으로 지지되는, 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)[개구(102.2, 126.3)를 통해 각각 연장함]의 추가의 냉각기 프레임 요소(134)에 이들의 자유 단부에서 대응 인터페이스를 거쳐 연결된다.
더욱이, 유사하게, 계측 프레임 요소(126.1)의 돌출부(126.2)는, 도 9에 또한 개략적으로 지시되어 있는 바와 같이, 제1 및 제2 진동 격리 디바이스(113, 114)를 거쳐 (캐스케이드된 또는 비-캐스케이드된) 진동 격리된 방식으로 기부 구조체(107) 상에 최종적으로 지지되는, 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)의 다른 계측 프레임 요소(135)에 이들의 자유 단부에서 대응 인터페이스를 거쳐 연결된다.
일단 충분히 견고한 기계적 연결이 냉각기 프레임 요소(119.1, 125.1, 134) 사이 뿐만 아니라 계측 프레임 요소(126.1, 135) 사이에 얻어지면, 용이하게 액세스 가능한 일시적 연결 디바이스(121)가 해제되어(도 9에 도시되어 있는 바와 같이), 계측 프레임 요소(120.1, 126.1)가 이제 계측 프레임 요소(135)에 의해 지지되게 되고 냉각기 프레임 요소(119.1, 125.1)가 이제 힘 프레임 요소(118.1, 124.1, 133.1)로부터 기계적으로 분리된 방식으로 냉각기 프레임 요소(134)에 의해 지지되게 된다.
전체 광학 투영 시스템(102)은 복잡한 교직되고 상호 투과성이지만 상호 기계적으로 분리된 지지 구조체(102.1, 112.1, 115.1)에도 불구하고 상당히 간단한 방식으로 상기에 개략 설명된 방식으로 조립될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 이는 광학 투영 시스템(102)의 구성요소의 제조, 취급 및 조립을 상당히 용이하게 한다. 특히, 전술된 바와 같이, 주 광학 시스템의 구성요소 및 주 광학 시스템의 각각의 구성요소에 공간적으로 그리고 결국에는 기능적으로 연계된 하나 이상의 보조 시스템의 구성요소를 포함하는 개별 광학 영상화 장치 모듈(117.1 내지 117.4)에 제공된 광학 투영 시스템의 구성요소가 광학 투영 시스템(102)의 조립에 앞서 용이하게 미리 시험될 수도 있는데, 이는 광학 투영 시스템(102)의 조립을 상당히 용이하게 하고 가속한다.
임의의 원하는 및 적절한 재료가 각각의 지지 구조체에 대해 선택될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 예를 들어, 알루미늄과 같은 금속이 각각의 지지 구조체에 대해, 특히 상당히 낮은 중량에서 상당히 높은 강성을 필요로 하는 지지 구조체에 대해 사용될 수도 있다. 지지 구조체를 위한 재료는 바람직하게는 지지 구조체의 유형 또는 함수에 따라 선택된다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
특히, 투영 광학 박스 구조체(102.1)에 대해, 강, 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 소위 인바 합금(Invar-alloy)(즉, 33% 내지 36%의 Ni을 갖는 철 니켈 합금, 예를 들어 Fe64Ni36) 및 적절한 텅스텐 합금(예를 들어, DENSIMET® 및 INERMET® 복합 재료, 즉 90% 초과의 텅스텐 함량 및 NiFe 또는 NiCu 결합제 상을 갖는 중금속)이 바람직하게 사용된다.
더욱이, 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1)에 대해, 실리콘 침윤된 실리콘 카바이드(SiSiC), 실리콘 카바이드(SiC), 실리콘(Si), 탄소 섬유 보강된 실리콘 카바이드(C/CSiC), 산화알루미늄(Al2O3), Zerodur®(리튬 알루미노실리케이트 글래스-세라믹), ULE® 글래스(티타니아 실리케이트 글래스), 석영, 코디어라이트(Cordierite)(마그네슘 철 알루미늄 사이클로실리케이트) 또는 낮은 열팽창 계수 및 높은 탄성율을 갖는 다른 세라믹 재료와 같은 재료가 또한 유리하게 사용될 수도 있다.
본 실시예의 마이크로리소그래피 장치(101)에 의해, 통상적으로 x 방향 및 y 방향에서, 모든 관련 자유도에서 100 pm 미만인 가시선 정확도가 얻어질 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.
도 1, 도 2 및 도 4 내지 도 9의 광학 영상화 장치(101)에서, 본 발명에 따른 광학 영상화 장치 모듈의 구성요소를 지지하는 방법이 도 1 내지 도 9를 참조하여 이하에 설명되는 바와 같이 실행될 수도 있다.
먼저, 단계 136.1에서, 광학 영상화 장치(101)의 구성요소는 이들이 전술되어 있는 바와 같이 제공된다.
더욱이, 제1 조립 단계(136.2)에서, 냉각기 프레임 요소(119.1)와 계측 프레임 요소(120.1)의 각각의 하나는 도 4의 맥락에서 상기에 개략 설명된 바와 같이 힘 프레임 요소(118.1)를 거쳐 냉각기 프레임 요소(119.1) 및 계측 프레임 요소(120.1) 각각을 일시적으로 지지하기 위해 일시적인 연결 디바이스(121)를 사용하여 제1 광학 영상화 장치 모듈(117.1)의 힘 프레임 요소(118.1)에 연결된다. 유사한 제1 조립 단계가 또한 모든 추가의 광학 영상화 장치 모듈(117.2 내지 117.4)에 대해 실행된다.
제2 조립 단계(136.3)에서, 모듈(117.1)의 힘 프레임 요소(118.1)는 모듈(117.2)의 힘 프레임 요소(124.1)에 연결되고, 반면에 모듈(117.1)의 냉각기 프레임 요소(119.1)는 모듈(117.2)의 냉각기 프레임 요소(125.1)에 연결되고, 모듈(117.1)의 계측 프레임 요소(120.1)는 도 7의 맥락에서 상기에 개략 설명된 바와 같이 모듈(117.2)의 계측 프레임 요소(126.1)에 연결된다.
제3 조립 단계(136.4)에서, 모듈(117.1)의 힘 프레임 요소(118.1)와 냉각기 프레임 요소(119.1) 뿐만 아니라 모듈(117.1)의 계측 프레임 요소(120.1) 사이의 일시적 연결 디바이스(121)를 거친 일시적 연결이 도 8의 맥락에서 전술된 바와 같이 해제된다.
마지막으로, 단계 136.5에서, 제1 내지 제3 조립 단계(136.2 내지 136.4)는 전체 광학 투영 시스템(102)이 완전히 조립되고 투영 광학 박스 구조체(102.1), 투영 시스템 계측 지지 구조체(112.1) 및 냉각 디바이스 지지 구조체(115.1)가 완전히 형성되어 전술되어 있는 것과 같이 상호 기계적으로 분리된 방식으로 지지될 때까지, 모든 추가의 광학 영상화 장치 모듈(117.3 내지 117.4)이 추가되게 하도록 반복된다.
상기에는, 광학 요소가 단지 반사 요소인 본 발명의 실시예가 설명되었지만, 본 발명의 다른 실시예에서, 반사, 굴절 또는 회절 요소 또는 이들의 임의의 조합이 광학 요소 유닛의 광학 요소를 위해 사용될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이다.

Claims (32)

  1. 광학 영상화 장치에 사용되는 광학 영상화 장치 모듈이며,
    - 광학 요소 지지 서브구조체, 및
    - 보조 지지 서브구조체를 포함하고,
    - 상기 광학 요소 지지 서브구조체는 광학 요소를 지지하도록 구성되고 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖고,
    - 상기 광학 요소는 노광광을 사용하는 노광 프로세스에서, 마스크의 패턴의 화상을 기판 상에 전사하도록 구성된 상기 광학 영상화 장치의 광학 요소의 그룹의 부분을 형성하도록 구성되고,
    - 상기 보조 지지 서브구조체는 보조 구성요소를 지지하도록 구성되고 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖고,
    - 상기 보조 구성요소는 상기 노광 프로세스 중에, 상기 기판 상의 상기 패턴의 상기 화상의 전사 이외의 상기 노광 프로세스의 보조 기능을 실행하도록 구성되고,
    - 상기 보조 구성요소는 상기 노광 프로세스 중에, 상기 광학 요소에 공간적으로 연계되고, 상기 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 상기 보조 지지 서브구조체를 포함하는 보조 지지 구조체에 의해 지지되도록 구성되고,
    - 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 적어도 상기 광학 영상화 장치의 조립 중에 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 거쳐 상기 보조 지지 서브구조체를 일시적으로 지지하도록 구성된 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 해제 가능하게 협동하도록 구성되는 광학 영상화 장치 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    - 상기 광학 요소 지지 서브구조체는, 원주방향에서, 상기 광학 요소를 둘러싸도록 구성되어 상기 광학 요소가 반경방향에서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체의 내향으로 위치되게 되고,
    - 상기 보조 구성요소는 상기 반경방향에서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체의 내향으로 위치되고,
    - 상기 광학 요소 지지 서브구조체는 상기 반경방향에서 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 통해 연장하는 리세스를 갖고,
    - 상기 보조 지지 서브구조체는 상기 반경방향에서, 하기 (a) 내지 (c) 중 적어도 하나를 만족하고,
    (a) 상기 리세스의 부근에 위치됨
    (b) 상기 리세스 내로 돌출함
    (c) 상기 리세스를 통해 돌출함
    - 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치와 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치 중 적어도 하나의 인터페이스 구성요소가 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 리세스의 부근에 위치됨
    (b) 상기 광학 요소 지지 서브구조체의 외부측에 위치됨
    광학 영상화 장치 모듈.
  3. 제2항에 있어서,
    - 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치의 제1 인터페이스 구성요소 및 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치의 제2 인터페이스 구성요소는 일반적으로 링형과 판형 중 적어도 하나인 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성되고,
    - 상기 일시적인 연결 디바이스는, 상기 광학 영상화 장치의 조립 중에, 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 리세스 부근에서 상기 광학 요소 지지 서브 구조체 및 상기 보조 지지 서브구조체에 일시적으로 연결됨
    (b) 상기 일반적으로 링형 일시적인 연결 디바이스의 내주부에서 상기 보조 지지 서브구조체에 일시적으로 연결됨
    광학 영상화 장치 모듈.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성되어, 상기 보조 지지 서브구조체가 상기 광학 영상화 장치의 조립 중에, 통계적으로 결정된 방식으로 상기 광학 요소 지지 서브구조체에 의해 일시적으로 지지되게 됨
    (b) 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 복수의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성되어, 상기 광학 영상화 장치의 조립 중에, 상기 일시적인 연결 디바이스 중 적어도 하나가 적어도 2개의 자유도에서 상기 보조 지지 서브구조체와 상기 광학 요소 지지 서브구조체 사이의 운동을 한정하게 됨
    광학 영상화 장치 모듈.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치와 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치 중 적어도 하나의 인터페이스 구성요소는 포지티브 연결로 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성됨
    (b) 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치와 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치 중 적어도 하나의 인터페이스 구성요소는 마찰 연결로 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스와 협동하도록 구성됨
    광학 영상화 장치 모듈.
  6. 제5항에 있어서,
    - 상기 제1 일시적인 지지 인터페이스와 상기 제2 일시적인 지지 인터페이스 중 적어도 하나의 인터페이스 구성요소는 클램핑 인터페이스를 형성하고,
    - 상기 클램핑 인터페이스는 클램핑 연결로 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스에 결합하도록 구성되는 광학 영상화 장치 모듈.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 광학 요소 지지 서브구조체는 제3 인터페이스 장치를 갖고, 상기 제3 인터페이스 장치는 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스의 해제 후에 상기 보조 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 지지하기 위해 추가의 광학 요소 지지 서브구조체의 제4 인터페이스 장치와 협동하도록 구성됨
    (b) 상기 보조 지지 서브구조체는 제5 인터페이스 장치를 갖고, 상기 제5 인터페이스 장치는 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스의 해제 후에 상기 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 상기 보조 지지 서브구조체를 지지하기 위해 추가의 보조 지지 서브구조체의 제6 인터페이스 장치와 협동하도록 구성됨
    광학 영상화 장치 모듈.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 내지 (d) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 보조 구성요소는 상기 보조 지지 서브구조체에 의해 지지됨
    (b) 상기 보조 구성요소는 상기 노광 프로세스에 사용된 계측 장치의 구성요소임
    (c) 상기 보조 구성요소는 상기 광학 요소에 연계되고 상기 광학 요소의 상태를 표현하는 변수를 포착하도록 구성된 계측 장치의 구성요소임
    (d) 상기 보조 구성요소는 상기 광학 영상화 장치의 구성요소의 온도를 조정하기 위해 사용된 온도 조정 장치의 구성요소임
    광학 영상화 장치 모듈.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 내지 (c) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 광학 요소는 상기 광학 요소 지지 서브구조체에 의해 지지됨
    (b) 상기 광학 요소는 반사 요소임
    (c) 상기 노광광은 EUV 범위의 파장을 가짐
    광학 영상화 장치 모듈.
  10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 광학 영상화 장치 모듈을 포함하는 광학 영상화 장치.
  11. 제10항에 있어서, 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 광학 요소 지지 서브구조체는 상기 보조 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 지지하도록 추가의 광학 요소 지지 서브구조체에 연결됨
    (b) 상기 보조 지지 서브구조체는 상기 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 상기 보조 지지 서브구조체를 지지하도록 추가의 보조 지지 서브구조체에 연결됨
    광학 영상화 장치.
  12. 제11항에 있어서, 하기 (a) 내지 (d) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체 및 상기 추가의 보조 지지 서브구조체는 진동 격리 공진 주파수 범위에서 기부 지지 구조체 상에 개별적으로 진동 격리된 방식으로 지지되고, 상기 격리 공진 주파수 범위는 0.05 Hz 내지 30 Hz의 범위임
    (b) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 추가의 광학 요소를 지지하도록 구성됨
    (c) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 상기 광학 영상화 장치 모듈을 수용하도록 구성된 실질적으로 트레이형 구성요소임
    (d) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 추가의 광학 영상화 장치 모듈의 부분을 형성함
    광학 영상화 장치.
  13. 광학 영상화 장치에 사용되는 광학 영상화 장치 모듈의 구성요소를 지지하는 방법이며,
    - 광학 요소 지지 서브구조체 및 보조 지지 서브구조체를 제공하는 단계로서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체는 노광광을 사용하는 노광 프로세스에서, 마스크의 패턴의 화상을 기판 상에 전사하도록 구성된 상기 광학 영상화 장치의 광학 요소의 그룹의 부분을 형성하는 광학 요소를 지지하도록 구성되고, 상기 보조 지지 서브구조체는 상기 노광 프로세스 중에, 상기 기판 상의 상기 패턴의 상기 화상의 전사 이외의 상기 노광 프로세스의 보조 기능을 실행하도록 구성된 보조 구성요소를 지지하도록 구성되는, 광학 요소 지지 서브구조체 및 보조 지지 서브구조체를 제공하는 단계와,
    - 제1 조립 단계에서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 거쳐 상기 보조 지지 서브구조체를 일시적으로 지지하기 위해 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스를 사용하여 상기 보조 지지 서브구조체와 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 해제 가능하게 연결하는 단계와,
    - 제2 조립 단계에서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 지지하기 위해 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 추가의 광학 요소 지지 서브구조체에 연결하고, 상기 보조 지지 서브구조체를 지지하기 위해 상기 보조 지지 서브구조체를 추가의 보조 지지 서브구조체에 연결하는 단계와,
    - 제3 조립 단계에서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체로부터 기계적으로 분리된 방식으로 상기 보조 지지 서브구조체를 거쳐 상기 보조 구성요소를 지지하기 위해 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스를 해제하는 단계를 포함하는 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    - 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 제공하는 단계는 원주방향에서 상기 광학 요소를 둘러싸도록 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 구성하여 상기 광학 요소가 반경방향에서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체의 내향으로 위치되게 하는 단계, 및 상기 반경방향에서 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 통해 연장하는 리세스를 형성하는 단계를 포함하고,
    - 상기 보조 구성요소는 상기 반경방향에서, 상기 광학 요소 지지 서브구조체의 내향으로 위치되어, 상기 반경방향에서 상기 보조 지지 서브구조체가 하기 (a) 내지 (c) 중 적어도 하나를 만족하고,
    (a) 상기 리세스의 부근에 위치됨
    (b) 상기 리세스 내로 돌출함
    (c) 상기 리세스를 통해 돌출하게 됨
    - 상기 리세스의 부근 및 상기 광학 요소 지지 서브구조체의 외부측 중 적어도 하나에서 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스를 거쳐 상기 보조 지지 서브구조체와 상기 광학 요소 지지 서브구조체를 일시적으로 연결하는 단계를 더 포함하는 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    - 상기 보조 지지 서브구조체 및 상기 광학 요소 지지 서브구조체는 일반적으로 링형과 판형 중 적어도 하나인 일시적인 연결 디바이스를 거쳐 일시적으로 연결되고,
    - 상기 일시적인 연결 디바이스는, 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 리세스 부근에서 상기 광학 요소 지지 서브 구조체 및 상기 보조 지지 서브구조체에 일시적으로 연결됨
    (b) 상기 일반적으로 링형 일시적인 연결 디바이스의 내주부에서 상기 보조 지지 서브구조체에 일시적으로 연결됨
    방법.
  16. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 및 (b) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 보조 지지 서브구조체는 상기 제1 및 제2 조립 단계 중에, 통계적으로 결정된 방식으로 상기 광학 요소 지지 서브구조체에 의해 일시적으로 지지됨
    (b) 상기 제1 및 제2 조립 단계 중에, 상기 일시적인 연결 디바이스 중 적어도 하나가 적어도 2개의 자유도에서 상기 보조 지지 서브구조체와 상기 광학 요소 지지 서브구조체 사이의 운동을 한정하도록 복수의 일시적인 연결 디바이스가 사용됨
    방법.
  17. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 내지 (c) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 광학 요소 지지 서브구조체와 상기 보조 지지 서브구조체 중 적어도 하나는 포지티브 연결로 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스에 연결됨
    (b) 상기 광학 요소 지지 서브구조체와 상기 보조 지지 서브구조체 중 적어도 하나는 마찰 연결로 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스에 연결됨
    (c) 상기 광학 요소 지지 서브구조체와 상기 보조 지지 서브구조체 중 적어도 하나는 클램핑 연결로 상기 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스에 연결됨
    방법.
  18. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 내지 (c) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 보조 구성요소는 상기 노광 프로세스에 사용된 계측 장치의 구성요소임
    (b) 상기 보조 구성요소는 상기 광학 요소에 연계되고 상기 광학 요소의 상태를 표현하는 변수를 포착하도록 구성된 계측 장치의 구성요소임
    (c) 상기 보조 구성요소는 상기 광학 영상화 장치의 구성요소의 온도를 조정하기 위해 사용된 온도 조정 장치의 구성요소임
    방법.
  19. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 내지 (c) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 광학 요소는 상기 광학 요소 지지 서브구조체에 의해 지지됨
    (b) 상기 광학 요소는 반사 요소임
    (c) 상기 노광광은 EUV 범위의 파장을 가짐
    방법.
  20. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 (a) 내지 (d) 중 적어도 하나를 만족하는
    (a) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체 및 상기 추가의 보조 지지 서브구조체는 진동 격리 공진 주파수 범위에서 기부 지지 구조체 상에 개별적으로 진동 격리된 방식으로 지지되고, 상기 격리 공진 주파수 범위는 0.05 Hz 내지 30 Hz의 범위임
    (b) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 추가의 광학 요소를 지지함
    (c) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 상기 광학 영상화 장치 모듈을 수용하는 실질적으로 트레이형 구성요소임
    (d) 상기 추가의 광학 요소 지지 서브구조체는 추가의 광학 영상화 장치 모듈의 부분을 형성함
    방법.
  21. 제1항에 있어서,
    상기 광학 영상화 장치 모듈은 마이크로리소그래피를 위해 사용되는 광학 영상화 장치 모듈.
  22. 제8항에 있어서,
    상기 보조 구성요소는 상기 노광 프로세스 중에 상기 광학 요소의 온도를 조정하기 위해 사용된 온도 조정 장치의 구성요소인 광학 영상화 장치 모듈.
  23. 제9항에 있어서,
    상기 노광광은 5 nm 내지 20 nm의 범위의 파장을 갖는 광학 영상화 장치 모듈.
  24. 제12항에 있어서,
    상기 격리 공진 주파수 범위는 0.05 Hz 내지 8.0 Hz의 범위인 광학 영상화 장치.
  25. 제12항에 있어서,
    상기 격리 공진 주파수 범위는 0.1 Hz 내지 1.0 Hz의 범위인 광학 영상화 장치.
  26. 제12항에 있어서,
    상기 격리 공진 주파수 범위는 0.2 Hz 내지 0.6 Hz의 범위인 광학 영상화 장치.
  27. 제13항에 있어서,
    상기 방법은 마이크로리소그래피를 위해 사용되는 방법.
  28. 제18항에 있어서,
    상기 보조 구성요소는 상기 노광 프로세스 중에 상기 광학 요소의 온도를 조정하기 위해 사용된 온도 조정 장치의 구성요소인 방법.
  29. 제19항에 있어서,
    상기 노광광은 5 nm 내지 20 nm의 범위의 파장을 갖는 방법.
  30. 제20항에 있어서,
    상기 격리 공진 주파수 범위는 0.05 Hz 내지 8.0 Hz의 범위인 방법.
  31. 제20항에 있어서,
    상기 격리 공진 주파수 범위는 0.1 Hz 내지 1.0 Hz의 범위인 방법.
  32. 제20항에 있어서,
    상기 격리 공진 주파수 범위는 0.2 Hz 내지 0.6 Hz의 범위인 방법.
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