JP4929444B2 - パターン描画装置および方法 - Google Patents
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Description
パターン描画を行う前に、前記複数のマイクロミラーに対応して配列された複数の受光素子によって、該複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して該複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出することを特徴とするパターン描画方法。
前記複数のマイクロミラーに対応して配列され、該複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して該複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出可能な複数の受光素子を有することを特徴とするマイクロミラー劣化検出装置。
101 水銀ランプ
107 マイクロミラーデバイス
109 投影光学系
111 マイクロレンズアレイ
112 マルチピンホール板
113 縮小投影光学系
114 基板
115 ステージ台
116 ステージ
117、117’ CCD
117” CCD台
118 制御部
120 (マルチピンホール板112の)投影領域
122 露光された領域
UV1〜UV6 紫外光
Claims (6)
- 二次元配列され、光源からの光を反射する複数のマイクロミラーを光制御素子として有するパターン描画装置において、
パターン描画する対象物をX、Y方向に移動させるステージと、
前記複数のマイクロミラーからの反射光を透過可能な複数のピンホールがX、Y方向に対して斜めに形成されたマルチピンホール板とを有し、
前記ステージによって移動される前記対象物に、前記光源から前記マイクロミラーおよび前記マルチピンホール板を経た露光光を照射するパターン描画装置であって、
前記マルチピンホール板の前記複数のピンホールに対応するようにX、Y方向に対して斜めに前記ステージに配列され、前記露光光を受光し該マルチピンホール板の該複数のピンホールに対応した前記マイクロミラーの劣化を検出可能な複数の受光素子と、
前記受光素子の検出信号に基づいて、劣化のあるマイクロミラーが本来担うべき作動を劣化のないマイクロミラーによって代替するように、前記マイクロミラーを駆動制御する制御部とをさらに有し、
前記制御部は、第1のマイクロミラーが劣化した際に該第1のマイクロミラーと同じ描画位置かつ同じ多重度で描画するように、第2のマイクロミラーを1個以上代替用として駆動制御することを特徴とするパターン描画装置。 - 前記ステージは、ベース部と、パターン描画する対象物を載置して前記ベース部上を二次元方向に可動なステージ台とを含んでおり、
前記受光素子は、前記ステージ台の対象物載置面上に平坦に備えられている請求項1に記載のパターン描画装置。 - 前記ステージは、ベース部と、パターン描画する対象物を載置して前記ベース部上を二次元方向に可動なステージ台とを含んでおり、
前記受光素子は、前記ステージ台における対象物の載置範囲外、かつ、該ステージ台の対象物載置面上に置かれるべき対象物の描画面と同じ高さ位置に備えられている請求項2に記載のパターン描画装置。 - 前記複数の受光素子は、単一の電荷結合素子に含まれる複数のフォトトランジスタである請求項1乃至3のいずれか1つに記載のパターン描画装置。
- 前記マイクロミラーからの反射光を縮小投影する縮小投影光学系をさらに有する請求項1乃至4のいずれか1つに記載のパターン描画装置。
- 請求項1乃至5のいずれか一項に記載のパーン描画装置を用いて、対象物にパターン描画を行うパターン描画方法において、
パターン描画を行う前に、前記マルチピンホール板の前記複数のピンホールに対応した前記マイクロミラーの劣化を検出する工程と、
前記受光素子の検出結果に基づいて、劣化のあるマイクロミラーが本来担うべき作動を劣化のないマイクロミラーによって代替するように、前記マイクロミラーを駆動制御する工程とを有し、
前記マイクロミラーを駆動制御する前記工程において、前記第1のマイクロミラーが劣化した際に該第1のマイクロミラーと同じ描画位置かつ同じ多重度で描画するように、第2のマイクロミラーを1個以上代替用として駆動制御することを特徴とするパターン描画方法。
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