JP2006091655A - パターン描画装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 マイクロミラーデバイス107における二次元配列された複数のマイクロミラーを光制御素子として有するパターン描画装置である。複数のマイクロミラーに対応して配列され、複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出可能な複数の受光素子としてのフォトダイオードを含むCCD117を有している。
【選択図】 図1
Description
パターン描画を行う前に、前記複数のマイクロミラーに対応して配列された複数の受光素子によって、該複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して該複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出することを特徴とするパターン描画方法。
前記複数のマイクロミラーに対応して配列され、該複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して該複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出可能な複数の受光素子を有することを特徴とするマイクロミラー劣化検出装置。
101 水銀ランプ
107 マイクロミラーデバイス
109 投影光学系
111 マイクロレンズアレイ
112 マルチピンホール板
113 縮小投影光学系
114 基板
115 ステージ台
116 ステージ
117、117’ CCD
117” CCD台
118 制御部
120 (マルチピンホール板112の)投影領域
122 露光された領域
UV1〜UV6 紫外光
Claims (14)
- 二次元配列された複数のマイクロミラーを光制御素子として有するパターン描画装置において、
前記複数のマイクロミラーに対応して配列され、該複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して該複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出可能な複数の受光素子を有することを特徴とするパターン描画装置。 - 前記マイクロミラーを駆動制御する制御部をさらに有し、
前記制御部は、前記受光素子の検出信号に基づいて、劣化のあるマイクロミラーが本来担うべき作動を劣化のないマイクロミラーによって代替するように制御する請求項1に記載のパターン描画装置。 - パターン描画する対象物を移動させるステージををさらに有し、
前記受光素子は、前記ステージ上に備えられている請求項1または2に記載のパターン描画装置。 - 前記ステージは、パターン描画する対象物を載置してこれを二次元方向に可動なステージ台を含んでおり、
前記受光素子は、前記ステージ台の対象物載置面上に平坦に備えられている請求項3に記載のパターン描画装置。 - 前記受光素子は、前記ステージ台の可動範囲外、かつ、該ステージ台の対象物載置面上に置かれるべき対象物の描画面と同じ高さ位置に備えられている請求項3に記載のパターン描画装置。
- 前記複数の受光素子は、単一の電荷結合素子に含まれる複数のフォトトランジスタである請求項1乃至5のいずれか1つに記載のパターン描画装置。
- 前記マイクロミラーからの反射光を縮小投影する縮小投影光学系をさらに有する請求項1乃至6のいずれか1つに記載のパターン描画装置。
- 前記制御部は、第1のマイクロミラーが劣化した際に該第1のマイクロミラーと同じ描画位置かつ同じ多重度で描画するように、第2のマイクロミラーを1個以上代替用として駆動制御する請求項2乃至7のいずれか1つに記載のパターン描画装置。
- 二次元配列された複数のマイクロミラーをによって、光を制御してパターン描画を行うパターン描画方法において、
パターン描画を行う前に、前記複数のマイクロミラーに対応して配列された複数の受光素子によって、該複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して該複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出することを特徴とするパターン描画方法。 - 前記受光素子の検出結果に基づいて、劣化のあるマイクロミラーが本来担うべき作動を劣化のないマイクロミラーによって代替するように、前記マイクロミラーを駆動制御する請求項9に記載のパターン描画方法。
- 第1のマイクロミラーが劣化した際に該第1のマイクロミラーと同じ描画位置かつ同じ多重度で描画するように、第2のマイクロミラーを1個以上代替用として駆動制御する請求項9または10に記載のパターン描画方法。
- 二次元配列された複数のマイクロミラーを光制御素子として有するパターン描画装置に適用されるマイクロミラー劣化検出装置であって、
前記複数のマイクロミラーに対応して配列され、該複数のマイクロミラーそれぞれの反射光を受光して該複数のマイクロミラーそれぞれの劣化を検出可能な複数の受光素子を有することを特徴とするマイクロミラー劣化検出装置。 - 前記受光素子の検出信号に基づいて、劣化のあるマイクロミラーが本来担うべき作動を劣化のないマイクロミラーによって代替するように、前記マイクロミラーを駆動制御する制御部をさらに有する請求項12に記載のマイクロミラー劣化検出装置。
- 前記制御部は、第1のマイクロミラーが劣化した際に該第1のマイクロミラーと同じ描画位置かつ同じ多重度で描画するように、第2のマイクロミラーを1個以上代替用として駆動制御する請求項12または13に記載のマイクロミラー劣化検出装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011164599A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-08-25 | Hitachi High-Technologies Corp | マイクロミラーデバイスの選別方法、マイクロミラーデバイス選別装置およびマスクレス露光装置 |
KR101900589B1 (ko) * | 2014-07-31 | 2018-09-19 | 레이던 컴퍼니 | 선형 모드 계산 감지 레이저 레이더 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6333818A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-13 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
JPH07111235A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-04-25 | Hitachi Ltd | 露光方法および装置 |
JP2001068399A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-03-16 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2002367900A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Yaskawa Electric Corp | 露光装置および露光方法 |
WO2003046662A1 (en) * | 2001-11-27 | 2003-06-05 | Asml Netherlands B.V. | Imaging apparatus |
WO2003046665A1 (en) * | 2001-11-28 | 2003-06-05 | Micronic Laser Systems Ab | Defective pixel compensation method |
JP2003173029A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Pentax Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2003197510A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Nikon Corp | 収差測定装置、収差測定方法、光学系、および、露光装置 |
JP2003345030A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2004012900A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2004514280A (ja) * | 2000-11-14 | 2004-05-13 | ボール セミコンダクター インコーポレイテッド | スムーズなデジタル成分を作成するためのデジタルフォトリソグラフィーシステム |
JP2004157219A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光ヘッドおよび露光装置 |
JP2004266198A (ja) * | 2003-03-04 | 2004-09-24 | Tadahiro Omi | パターン描画装置 |
JP2004304135A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びマイクロデバイスの製造方法 |
-
2004
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Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6333818A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-13 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
JPH07111235A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-04-25 | Hitachi Ltd | 露光方法および装置 |
JP2001068399A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-03-16 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2004514280A (ja) * | 2000-11-14 | 2004-05-13 | ボール セミコンダクター インコーポレイテッド | スムーズなデジタル成分を作成するためのデジタルフォトリソグラフィーシステム |
JP2002367900A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Yaskawa Electric Corp | 露光装置および露光方法 |
WO2003046662A1 (en) * | 2001-11-27 | 2003-06-05 | Asml Netherlands B.V. | Imaging apparatus |
WO2003046665A1 (en) * | 2001-11-28 | 2003-06-05 | Micronic Laser Systems Ab | Defective pixel compensation method |
JP2003173029A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Pentax Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2003197510A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Nikon Corp | 収差測定装置、収差測定方法、光学系、および、露光装置 |
JP2003345030A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2004012900A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2004157219A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光ヘッドおよび露光装置 |
JP2004266198A (ja) * | 2003-03-04 | 2004-09-24 | Tadahiro Omi | パターン描画装置 |
JP2004304135A (ja) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びマイクロデバイスの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011164599A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-08-25 | Hitachi High-Technologies Corp | マイクロミラーデバイスの選別方法、マイクロミラーデバイス選別装置およびマスクレス露光装置 |
KR101900589B1 (ko) * | 2014-07-31 | 2018-09-19 | 레이던 컴퍼니 | 선형 모드 계산 감지 레이저 레이더 |
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