JP4919220B2 - グレートーンマスク - Google Patents

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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI498667B (zh) * 2005-12-26 2015-09-01 Hoya Corp A mask substrate and a mask for manufacturing a flat panel display device
KR101082715B1 (ko) * 2005-12-26 2011-11-15 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크 및 포토마스크
JP4910828B2 (ja) * 2007-03-28 2012-04-04 大日本印刷株式会社 階調マスク
JP5105407B2 (ja) * 2007-03-30 2012-12-26 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
JP5115953B2 (ja) * 2007-03-30 2013-01-09 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクブランク及びフォトマスク
CN101438386B (zh) * 2007-05-11 2012-03-07 Lg伊诺特有限公司 有多个半透过部分的半色调掩模及其制造方法
JP2009086385A (ja) * 2007-09-29 2009-04-23 Hoya Corp フォトマスク及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法
JP5352451B2 (ja) * 2007-10-12 2013-11-27 アルバック成膜株式会社 グレートーンマスクの製造方法
JP5097528B2 (ja) * 2007-12-18 2012-12-12 Ｈｏｙａ株式会社 多階調フォトマスク
JP5160286B2 (ja) * 2008-04-15 2013-03-13 Ｈｏｙａ株式会社 多階調フォトマスク、パターン転写方法、及び薄膜トランジスタの製造方法
JP5319193B2 (ja) * 2008-07-28 2013-10-16 Ｈｏｙａ株式会社 液晶表示装置製造用多階調フォトマスク、液晶表示装置製造用多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法
JP5410839B2 (ja) * 2009-05-22 2014-02-05 Ｈｏｙａ株式会社 多階調フォトマスクの製造方法、多階調フォトマスク、及びパターン転写方法
TWI428688B (zh) * 2009-07-29 2014-03-01 Hoya Corp Method for manufacturing multi - modal mask and pattern transfer method
CN102573344A (zh) * 2010-12-13 2012-07-11 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 壳体及其制作方法
JP5403040B2 (ja) * 2011-12-02 2014-01-29 大日本印刷株式会社 階調マスク
CN102841499A (zh) * 2012-09-19 2012-12-26 上海华力微电子有限公司 相移光掩模制作方法
CN102879996A (zh) * 2012-10-12 2013-01-16 上海华力微电子有限公司 相移光掩模制作方法
JP5538513B2 (ja) * 2012-12-12 2014-07-02 Ｈｏｙａ株式会社 多階調フォトマスク、パターン転写方法及び薄膜トランジスタの製造方法
JP2015212720A (ja) * 2014-05-01 2015-11-26 Hoya株式会社 多階調フォトマスクの製造方法、多階調フォトマスク及び表示装置の製造方法
JP2025146260A (ja) 2024-03-22 2025-10-03 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、及び表示装置の製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60128448A (ja) * 1983-12-14 1985-07-09 Fujitsu Ltd フオトマスク
JPS61198156A (ja) * 1985-02-28 1986-09-02 Asahi Glass Co Ltd 改良されたフオトマスクブランク
JPH02207252A (ja) * 1989-02-07 1990-08-16 Rohm Co Ltd パターン形成用フォトマスク
JP2548873B2 (ja) * 1992-10-08 1996-10-30 日本アイ・ビー・エム株式会社 半導体装置のウエット・エッチング方法
JP3262302B2 (ja) * 1993-04-09 2002-03-04 大日本印刷株式会社 位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
JPH09244212A (ja) * 1996-03-12 1997-09-19 Dainippon Printing Co Ltd ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランク
KR100215850B1 (ko) * 1996-04-12 1999-08-16 구본준 하프톤 위상 반전 마스크 및_그제조방법
JPH09281689A (ja) * 1996-04-17 1997-10-31 Hoya Corp マスクパターン形成方法及びｘ線マスクの製造方法
JP2002189280A (ja) * 2000-12-19 2002-07-05 Hoya Corp グレートーンマスク及びその製造方法
JP2002189281A (ja) * 2000-12-19 2002-07-05 Hoya Corp グレートーンマスク及びその製造方法
JP2003149788A (ja) * 2001-11-16 2003-05-21 Toppan Printing Co Ltd ドライエッチング方法およびハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
JP2004177683A (ja) * 2002-11-27 2004-06-24 Clariant (Japan) Kk 超高耐熱ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
JP4393290B2 (ja) * 2003-06-30 2010-01-06 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの製造方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法
JP4073882B2 (ja) * 2004-03-22 2008-04-09 Ｈｏｙａ株式会社 ハーフトーン型位相シフトマスクブランク

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