JP4849958B2 - 基板処理ユニットおよび基板処理方法 - Google Patents
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Description
以下、図面を参照して本発明の第1の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態における基板処理ユニットの全体的な構成を示す概略構成図である。本実施の形態の基板処理ユニットにおいては、処理されるべき基板として、半導体ウエハW(以下、単にウエハWともいう。)が用いられるが、LCD用ガラス基板等、他のものが用いられてもよい。
以下、図面を参照して本発明の第2の実施の形態について説明する。図2は、本実施の形態における基板処理ユニットの全体的な構成を示す概略構成図である。
11 アウターチャンバー
12 インナーカップ
13 スピンチャック
14 ノズルアーム
15 ドレン管
20,21,22 中間処理液供給管
25 供給側ガス供給弁
26 供給切換部
27 ドレン管
30 酸性薬液供給部
31 酸性薬液供給管
32 酸性薬液切換部
40 アルカリ性薬液供給部
41 アルカリ性薬液供給管
50 純水供給部
51 純水供給管
60 イソプロピルアルコール供給部
61 イソプロピルアルコール供給管
70 処理液排出管
71 排出切換部
72 酸性薬液回収管
73 酸性薬液ドレン管
74 アルカリ性薬液ドレン管
75 イソプロピルアルコールドレン管
76 酸性薬液回収槽
77 酸性薬液戻しポンプ
78 排気管
79 酸性薬液戻し管
80 供給側ガス供給部
81 ガス供給管
90 排出側ガス供給部
91 ガス供給管
92 排出側ガス供給弁
95 制御機構
126 供給切換部
180 供給側ガス供給部
181 ガス供給管
195 制御機構
Claims (7)
- 基板に処理液を供給して処理する基板処理ユニットであって、
基板を内部で処理するチャンバーと、
前記チャンバーの上流側に接続された処理液供給管と、
前記処理液供給管に第1の処理液を供給するために接続された第1処理液供給管と、
前記処理液供給管に第2の処理液を供給するために接続された第2処理液供給管と、
前記処理液供給管に接続されたドレン管と、
前記処理液供給管におけるチャンバーとドレン管との間に介設された供給側ガス供給弁と、供給側ガス供給弁にガスを送る供給側ガス供給管と、
前記処理液供給管の上流側端部、前記第1処理液供給管、前記第2処理液供給管および前記ドレン管を互いに接続し、前記処理液供給管に対する前記第1処理液供給管、前記第2処理液供給管または前記ドレン管の連通状態の切り換えを行う切換部と、
前記切換部を制御する制御機構と、
を備え、
前記ドレン管は、前記切換部において最上流端側に接続されており、
前記制御機構は、前記供給側ガス供給管により前記供給側ガス供給弁を介して前記処理液供給管にガスを送る際に、前記処理液供給管に対して前記ドレン管を連通させるよう前記切換部の制御を行うようになっており、
前記供給側ガス供給管により前記供給側ガス供給弁を介して前記処理液供給管に送られたガスは、前記処理液供給管における前記供給側ガス供給弁の下流側および上流側の両方に送られるようになっていることを特徴とする基板処理ユニット。 - 前記チャンバーの下流側に接続された処理液排出管と、
前記処理液排出管に介設された排出側ガス供給弁と、排出側ガス供給弁にガスを送る排出側ガス供給管と、
を更に備えたことを特徴とする請求項1記載の基板処理ユニット。 - 前記排出側ガス供給弁は、前記排出側ガス供給管から送られたガスを前記処理液排出管の下流側のみに送るよう構成された三方弁であることを特徴とする請求項2記載の基板処理ユニット。
- 基板に処理液を供給して処理する基板処理方法であって、
基板をチャンバー内に収納する工程と、
第1処理液供給管、前記チャンバーに接続された処理液供給管、ならびにこれらの第1処理液供給管および処理液供給管を接続する切換部をそれぞれ介して第1の処理液をチャンバーに送る工程と、
前記処理液供給管にガスを送り、このガスにより前記処理液供給管内の第1の処理液を除去する工程と、
第2処理液供給管、前記処理液供給管、ならびにこれらの第2処理液供給管および処理液供給管を接続する切換部をそれぞれ介して第2の処理液をチャンバーに送る工程と、
前記処理液供給管にガスを送り、このガスにより前記処理液供給管内の第2の処理液を除去する工程と、
を備え、
前記処理液供給管に送られたガスはこの処理液供給管の上流側端部に接続された前記切換部を介して当該切換部の最上流端側に接続されたドレン管に送られるようになっており、
前記処理液供給管には当該処理液供給管に介設された供給側ガス供給弁を介して供給側ガス供給管からガスが送られるようになっており、
前記処理液供給管に送られたガスは、前記処理液供給管における前記供給側ガス供給弁の下流側および上流側の両方に送られるようになっていることを特徴とする基板処理方法。 - 前記処理液供給管内の第1の処理液を除去した後、この処理液供給管内に第2の処理液を送る前に、当該処理液供給管内に水を供給し、その後この処理液供給管にガスを送り、このガスにより前記処理液供給管内の水を除去することを特徴とする請求項4記載の基板処理方法。
- 前記処理液供給管内の第2の処理液を除去した後、当該処理液供給管内に水を供給し、その後この処理液供給管にガスを送り、このガスにより前記処理液供給管内の水を除去することを特徴とする請求項4または5記載の基板処理方法。
- 前記チャンバーに送られた第1の処理液および第2の処理液はこのチャンバーに接続された処理液排出管から排出されるようになっており、
前記処理液排出管を介して第1の処理液をチャンバーから排出した後、当該処理液排出管にガスを送り、このガスにより前記処理液排出管内の第1の処理液を除去する工程と、
前記処理液排出管を介して第2の処理液をチャンバーから排出した後、当該処理液排出管にガスを送り、このガスにより前記処理液排出管内の第2の処理液を除去する工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項4乃至6のいずれか一項に記載の基板処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006146622A JP4849958B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 基板処理ユニットおよび基板処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006146622A JP4849958B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 基板処理ユニットおよび基板処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007317927A JP2007317927A (ja) | 2007-12-06 |
JP4849958B2 true JP4849958B2 (ja) | 2012-01-11 |
Family
ID=38851517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006146622A Active JP4849958B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 基板処理ユニットおよび基板処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4849958B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5148465B2 (ja) * | 2008-12-08 | 2013-02-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法、液処理装置および記憶媒体 |
JP5122426B2 (ja) | 2008-12-08 | 2013-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法、液処理装置および記憶媒体 |
JP5726784B2 (ja) | 2012-02-24 | 2015-06-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液交換方法および基板処理装置 |
JP2015167938A (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-28 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
KR102049193B1 (ko) * | 2014-03-10 | 2019-11-26 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 시스템 및 배관 세정 방법 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07114192B2 (ja) * | 1987-10-23 | 1995-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
JP3495208B2 (ja) * | 1996-11-05 | 2004-02-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP3561438B2 (ja) * | 1998-06-15 | 2004-09-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給システム、これを用いた処理装置、および処理液供給方法 |
JP2000183024A (ja) * | 1998-12-17 | 2000-06-30 | Sony Corp | 基板処理装置 |
JP2000350957A (ja) * | 1999-06-10 | 2000-12-19 | Sony Corp | 薬液吐出装置 |
JP2005109166A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法および基板処理装置 |
-
2006
- 2006-05-26 JP JP2006146622A patent/JP4849958B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007317927A (ja) | 2007-12-06 |
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