KR100797081B1 - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents
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- 기판 처리 장치에 있어서,기판을 지지 및 회전시키는 스핀척과,공정시 상기 스핀척에 의해 지지된 기판으로 처리액들을 공급하는 노즐부와,상기 스핀척의 측부에 제공되며, 공정 진행시 상기 스핀척에 의해 지지된 기판의 처리면으로 분사된 후 기판으로부터 비산되는 처리액들 중 회수하고자 하는 처리액을 유입시키는 입구가 상하로 적층되는 복수의 회수통들, 그리고상기 회수통들의 측부에 제공되며, 상기 회수통들 중 공정 진행시 사용된 처리액의 회수가 이루어지는 회수통에 흡입압력을 제공하는 흡입부재를 포함하되,상기 회수통들 각각에는,처리액들이 수용되는 공간 내 공기가 배출되는 적어도 하나의 배출홀이 형성되고,상기 흡입부재는,상기 회수통들과 대향되는 면을 가지는, 그리고 상기 면에는 상기 배출홀을 통해 상기 회수통들 내 공기를 흡입시키는 흡입홀이 형성된 흡입통과,상기 흡입통들 내부에 흡입압력을 제공하는 흡입 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 흡입통은 복수개가 상하로 적층되며,상기 기판 처리 장치는,공정시 사용되는 처리액을 회수시키는 회수통에 형성된 배출홀과 상기 처리액을 회수시키는 회수통과 대응되는 흡입통에 형성된 흡입홀이 서로 연통되도록, 상기 흡입통들 및 상기 회수통들의 상대 높이를 조절하는 승강기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 스핀척 및 흡입통들의 높이는 고정되고,상기 승강기는 상기 회수통들의 높이를 조절시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 배출홀 및 상기 흡입홀은,상기 회수통들 및 상기 흡입통들 둘레에서 동등한 높이에서 복수개가 환형의 배치로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 소정의 처리액으로 기판을 처리하는 장치에 있어서,기판을 지지 및 회전시키는 스핀척과,공정시 상기 스핀척에 의해 지지된 기판으로 처리액들을 공급하는 노즐부와,상기 스핀척의 측부에 제공되며, 공정 진행시 상기 스핀척에 의해 지지되어 회전되는 기판의 처리면으로 분사된 후 기판으로부터 비산되는 처리액들 중 회수하고자하는 처리액을 유입시키는 입구가 상하로 적층되는 복수의 회수통들, 그리고상기 회수통들의 측부에 제공되며, 공정시 상기 회수통들 중 처리액을 회수시키는 회수통에 흡입압력을 제공하는 흡입부재를 포함하되,상기 회수통들은,상기 처리액들 중 산성 용액을 회수하는 적어도 하나의 제1 회수통 및 상기 처리액들 중 알칼리성 용액을 회수하는 적어도 하나의 제2 회수통을 포함하고,상기 흡입부재는,상기 제1 회수통과 대응되며, 상기 산성 용액의 공급이 진행되는 동안에 상기 제1 회수통에 흡입압력을 제공하는 제1 흡입통 및;상기 제2 회수통과 대응되며, 상기 알칼리성 용액의 공급이 진행되는 동안에 상기 제2 회수통에 흡입압력을 제공하는 제2 흡입통을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 제1 및 제2 회수통 각각에는,상기 제1 및 제2 회수통 내 공기가 배출되는 배출홀이 형성되고,상기 제1 및 제2 흡입통 각각에는,상기 배출홀과 상응하는 흡입홀이 형성되되,상기 기판 처리 장치는,공정 진행시, 처리액의 회수가 이루어지는 회수통에 형성된 배출홀과 상기 흡입통들 중 상기 처리액의 회수가 이루어지는 회수통과 대응되는 흡입통에 형성된 흡입홀이 서로 연통되도록, 상기 흡입통들 및 상기 회수통들의 상대 높이를 조절하는 승강기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 흡입 부재는,상기 제1 회수통으로 회수된 산성 용액으로부터 발생되는 흄을 상기 제1 흡입통으로 흡입시킨 후 상기 제1 흡입통으로부터 배기시키는 제1 흡입라인과,상기 제2 회수통으로 회수된 알칼리성 용액으로부터 발생되는 흄을 상기 제 2 흡입통으로 흡입시킨 후 상기 제2 흡입통으로부터 배기시키는 제2 흡입라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 배출홀 및 상기 흡입홀은,상기 회수통들 및 상기 흡입통들 둘레에서 동등한 높이에서 복수개가 환형의 배치로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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- 기판 처리 방법에 있어서,기판의 처리면으로 처리액들을 순차적으로 분사하고, 사용된 처리액들은 분리회수시키되, 분리되는 처리액들로부터 발생되는 흄은 처리액들의 종류에 따라 분리배기시키되,상기 처리액들의 분리회수는,회수하고자하는 처리액의 수만큼 구비되는 회수통들을 구비하여, 상기 회수통들 중 공정시 처리액의 회수가 이루어지는 회수통에만 흡입압력을 제공하여 이루어지고,상기 흄의 분리배기는,상기 회수통들 각각에 상기 회수통들 내부 공기를 배출시키는 배출홀을 제공하고, 상기 회수통들의 외측에는 상기 배출홀을 통해 상기 회수통 내 흄을 흡입시키는 흡입홀이 형성된 흡입통들을 구비하여, 공정 진행시 처리액의 회수가 이루어지는 회수통에 형성된 배출홀과 상기 처리액의 회수가 이루어지는 회수통과 대응되는 흡입통에 형성된 흡입홀이 서로 연통되도록, 상기 회수통들과 상기 흡입통들의 상대 높이를 조절함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 기판 처리 방법에 있어서,기판의 처리면으로 처리액들을 순차적으로 분사하고, 사용된 처리액들은 분리회수시키되, 분리되는 처리액들로부터 발생되는 흄은 처리액들의 종류에 따라 분리배기시키되,상기 처리액들의 분리회수는,회수하고자하는 처리액의 수만큼 구비되는 회수통들을 구비하여, 상기 회수통들 중 공정시 처리액의 회수가 이루어지는 회수통에만 흡입압력을 제공하여 이루어지고,상기 흄의 분리배기는,상기 처리액들 중 산성 용액으로부터 발생되는 흄과 상기 처리액들 중 알칼리성 용액으로부터 발생되는 흄을 독립적으로 분리배기시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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- 2006-08-24 KR KR1020060080581A patent/KR100797081B1/ko active IP Right Grant
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