JPH07114192B2 - 洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
洗浄装置及び洗浄方法Info
- Publication number
- JPH07114192B2 JPH07114192B2 JP62267367A JP26736787A JPH07114192B2 JP H07114192 B2 JPH07114192 B2 JP H07114192B2 JP 62267367 A JP62267367 A JP 62267367A JP 26736787 A JP26736787 A JP 26736787A JP H07114192 B2 JPH07114192 B2 JP H07114192B2
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- Japan
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- cleaning
- nozzle
- drying
- liquid
- gas
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はシリコーンウェハ、フォトマスク、サブストレ
イト、ディスク、LCD等をそれらの製造工程中において
洗浄し、あるいはリンスする洗浄装置及び方法に関す
る。
イト、ディスク、LCD等をそれらの製造工程中において
洗浄し、あるいはリンスする洗浄装置及び方法に関す
る。
［従来の技術］ シリコーンウェハ、フォトマスク、サブストレイト等は
その製造工程において酸アルカリ洗浄、ブラシ洗浄等が
なされ、その都度、表面の汚れの洗浄、リンス及び乾燥
が行なわれる。このような洗浄、乾燥を一挙に行うもの
として純水による洗浄とN2ガスによる乾燥を組み合わせ
たリンサードライヤが開発されている。
その製造工程において酸アルカリ洗浄、ブラシ洗浄等が
なされ、その都度、表面の汚れの洗浄、リンス及び乾燥
が行なわれる。このような洗浄、乾燥を一挙に行うもの
として純水による洗浄とN2ガスによる乾燥を組み合わせ
たリンサードライヤが開発されている。
例えば、特開昭54−8455号公報には、洗浄液供給管路系
と窒素ガス供給管路系を備えたウェハ洗浄装置が記載さ
れ、このウェハ洗浄装置はウェハが収納された洗浄乾燥
室内にノズルから洗浄液を噴出してウェハを洗浄した
後、洗浄液を噴出するノズルとは別のノズルから窒素ガ
スを吹きつけるように構成されている。そしてこのウェ
ハ洗浄装置では、洗浄液を噴出後にノズル内に残留する
洗浄液を除去するために、ノズル先端部に負圧機構に接
続したバイパスを設けて洗浄液の液垂れを防止してい
る。
と窒素ガス供給管路系を備えたウェハ洗浄装置が記載さ
れ、このウェハ洗浄装置はウェハが収納された洗浄乾燥
室内にノズルから洗浄液を噴出してウェハを洗浄した
後、洗浄液を噴出するノズルとは別のノズルから窒素ガ
スを吹きつけるように構成されている。そしてこのウェ
ハ洗浄装置では、洗浄液を噴出後にノズル内に残留する
洗浄液を除去するために、ノズル先端部に負圧機構に接
続したバイパスを設けて洗浄液の液垂れを防止してい
る。
［発明が解決しようとする問題点］ しかし、従来の洗浄装置では洗浄液供給ノズルと窒素ガ
ス供給ノズルとを別にしたためノズル本体の構成が複雑
であり、また、残留洗浄液除去のためにバイパス管及び
負圧機構を必要とすることから装置全体としても構成が
複雑であった。このためバクテリア等が発生する可能性
のある部分が多く存在し、バクテリア等が発生すると洗
浄すべき水によってシリコーンウェハ等の被処理体が汚
染されてしまうというおそれがあった。
ス供給ノズルとを別にしたためノズル本体の構成が複雑
であり、また、残留洗浄液除去のためにバイパス管及び
負圧機構を必要とすることから装置全体としても構成が
複雑であった。このためバクテリア等が発生する可能性
のある部分が多く存在し、バクテリア等が発生すると洗
浄すべき水によってシリコーンウェハ等の被処理体が汚
染されてしまうというおそれがあった。
本発明はこのような従来の問題点を解決し、水供給路に
おけるバクテリアの発生を防止し、洗浄・リンス効果の
すぐれた洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的と
する。
おけるバクテリアの発生を防止し、洗浄・リンス効果の
すぐれた洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的と
する。
［問題点を解決するための手段］ 本発明による洗浄装置は、被処理体を収納するカセット
と、カセットを収納する室内に洗浄液を導入する液供給
路と、室内に乾燥用ガスを導入するガス供給路と、洗浄
液又は乾燥用ガスを室内に導入するノズルと、液供給路
又はガス供給路とノズルとの接続を択一的に切り替える
切替手段とを備えている。この洗浄装置は、液供給路に
加熱手段を備えていることが望ましい。
と、カセットを収納する室内に洗浄液を導入する液供給
路と、室内に乾燥用ガスを導入するガス供給路と、洗浄
液又は乾燥用ガスを室内に導入するノズルと、液供給路
又はガス供給路とノズルとの接続を択一的に切り替える
切替手段とを備えている。この洗浄装置は、液供給路に
加熱手段を備えていることが望ましい。
また、本発明による洗浄方法は、被処理体を収納する室
内に加熱された洗浄液をノズルから導入して被処理体を
洗浄する工程と、同一のノズルから室内に乾燥用ガスを
導入して被処理体を乾燥する工程とを備えている。
内に加熱された洗浄液をノズルから導入して被処理体を
洗浄する工程と、同一のノズルから室内に乾燥用ガスを
導入して被処理体を乾燥する工程とを備えている。
この洗浄方法では、被処理体を収納するカセットを回転
させながら洗浄工程及び乾燥工程を行うこが好ましく、
さらに、乾燥工程におけるカセットの回転速度が洗浄工
程における回転速度よりも高速であることが望ましい。
させながら洗浄工程及び乾燥工程を行うこが好ましく、
さらに、乾燥工程におけるカセットの回転速度が洗浄工
程における回転速度よりも高速であることが望ましい。
［作用］ 被処理体を洗浄する場合には切替手段は液供給路をノズ
ルと接続し、被処理体が収納された室内に洗浄液を供給
する。また、洗浄後被処理体を乾燥する場合には切替手
段はガス供給路をノズルと接続し、被処理体が収納され
た室内に乾燥用ガスを供給する。液供給路に設けられた
加熱手段により洗浄液を加熱することができる。
ルと接続し、被処理体が収納された室内に洗浄液を供給
する。また、洗浄後被処理体を乾燥する場合には切替手
段はガス供給路をノズルと接続し、被処理体が収納され
た室内に乾燥用ガスを供給する。液供給路に設けられた
加熱手段により洗浄液を加熱することができる。
また、加熱された洗浄液を導入して被処理体を洗浄する
洗浄工程の後、洗浄液を供給したのと同一のノズルを用
いて室内に乾燥ガスを導入して被処理体を乾燥する乾燥
工程を行うことにより、ノズル内部の残留洗浄液を全て
排除することができる。また、洗浄液が加熱されている
ので液供給路内においてバクテリアが発生することはな
く、しかも高温洗浄液のため洗浄効果、リンス効果に優
れ、乾燥にも適する。
洗浄工程の後、洗浄液を供給したのと同一のノズルを用
いて室内に乾燥ガスを導入して被処理体を乾燥する乾燥
工程を行うことにより、ノズル内部の残留洗浄液を全て
排除することができる。また、洗浄液が加熱されている
ので液供給路内においてバクテリアが発生することはな
く、しかも高温洗浄液のため洗浄効果、リンス効果に優
れ、乾燥にも適する。
また、被処理体を収容したカセットが回転して被処理体
は多方面から洗浄液を浴び、均一に洗浄されるので洗浄
能力が向上し、さらに、乾燥工程において洗浄工程より
も高速で回転し、遠心力により付着洗浄液を振り払うこ
とができるので乾燥時間が短縮できる。
は多方面から洗浄液を浴び、均一に洗浄されるので洗浄
能力が向上し、さらに、乾燥工程において洗浄工程より
も高速で回転し、遠心力により付着洗浄液を振り払うこ
とができるので乾燥時間が短縮できる。
［実施例］ 以下、本発明の好ましい一実施例を図面を参照して説明
する。
する。
洗浄装置であるリンサードライヤ10は第１図に示すよう
に被処理体20である例えばシリコーンウェハが複数枚収
められたカセット21をカセット毎収納するチャンバ
（室）１を備え、チャンバ１内にはカセット21を回転さ
せるための回転機構としてロータ２（第２図）が設けら
れている。ロータ２はその回転数が選択できるようにな
っており、通常洗浄時、約200〜500RPM、乾燥時、約200
0〜2500RPMで被処理体20（カセット21）を回転させる。
に被処理体20である例えばシリコーンウェハが複数枚収
められたカセット21をカセット毎収納するチャンバ
（室）１を備え、チャンバ１内にはカセット21を回転さ
せるための回転機構としてロータ２（第２図）が設けら
れている。ロータ２はその回転数が選択できるようにな
っており、通常洗浄時、約200〜500RPM、乾燥時、約200
0〜2500RPMで被処理体20（カセット21）を回転させる。
また、チャンバ１の内側に面して、被処理体20に洗浄・
リンス用の液体又は乾燥用の気体を吹き付けるためのノ
ズル３が１ないし複数個設置される。洗浄・リンス用の
液体としては通常、純水が用いられ乾燥用の気体として
はN2ガスが用いられる。純水は図示しない純水製造装置
等の外部設備から配管によりリンサードライヤ内に導入
され、液体供給路４によりバルブ（切替手段）５を介し
てノズル３に供給される。
リンス用の液体又は乾燥用の気体を吹き付けるためのノ
ズル３が１ないし複数個設置される。洗浄・リンス用の
液体としては通常、純水が用いられ乾燥用の気体として
はN2ガスが用いられる。純水は図示しない純水製造装置
等の外部設備から配管によりリンサードライヤ内に導入
され、液体供給路４によりバルブ（切替手段）５を介し
てノズル３に供給される。
バルブ５と導入部７との間の液体供給路４にはその外周
を囲繞する如く長手方向に電気ヒータ８が設置される。
洗浄液を加熱するための加熱部は、電熱ヒータの他、ヒ
ートパイプ等（設計上の不都合がない限り）、各種加熱
手段が使用できる。また、その設置個所はノズルに供給
される洗浄液及びバルブ内の洗浄液が所定の温度を維持
できるように液体供給路の一部に設置すればよい。
を囲繞する如く長手方向に電気ヒータ８が設置される。
洗浄液を加熱するための加熱部は、電熱ヒータの他、ヒ
ートパイプ等（設計上の不都合がない限り）、各種加熱
手段が使用できる。また、その設置個所はノズルに供給
される洗浄液及びバルブ内の洗浄液が所定の温度を維持
できるように液体供給路の一部に設置すればよい。
洗浄液の温度は被処理体の種類によっても異なるが通常
50℃以上、好ましくは60℃以上あれば本発明の目的を達
成することができる。
50℃以上、好ましくは60℃以上あれば本発明の目的を達
成することができる。
電気ヒータ８は1.5Kワット程度のものが用いられ、その
電源は独自にとってもよいが、リンサードライヤ10自体
の電源を共用してもよい。その場合、必要があれば変圧
回路等を適宜付与する。
電源は独自にとってもよいが、リンサードライヤ10自体
の電源を共用してもよい。その場合、必要があれば変圧
回路等を適宜付与する。
又、電気ヒータは安全機構としてサーモスタットによっ
て過熱が防止されると共に、断熱性のカバー等によって
周辺部材の加熱が防止される。一方、N2ガスは内蔵され
た（あるいは外部に設置された）N2ガスボンベからフィ
ルタを通過後気体供給路９によりバルブ（切替手段）５
を介してノズル３に供給される。
て過熱が防止されると共に、断熱性のカバー等によって
周辺部材の加熱が防止される。一方、N2ガスは内蔵され
た（あるいは外部に設置された）N2ガスボンベからフィ
ルタを通過後気体供給路９によりバルブ（切替手段）５
を介してノズル３に供給される。
バルブ５は液体供給路４あるいは気体供給路９を択一的
にノズル３と導通し、純水あるいはN2ガスのいずれか一
方をノズル３に供給する。バルブ３の切換えは、手動で
も可能であるがタイマ又はコンピュータ制御等によって
自動的に行なうことも可能である。
にノズル３と導通し、純水あるいはN2ガスのいずれか一
方をノズル３に供給する。バルブ３の切換えは、手動で
も可能であるがタイマ又はコンピュータ制御等によって
自動的に行なうことも可能である。
以上のような構成において、本発明の洗浄方法について
説明する。リンサードライヤ10は電源投入と同時に電気
ヒータ８がオンされており、液体供給路４及びバルブ５
の水は加熱されて、例えば50℃以上に設定されている。
このような状態で被処理体20例えばウェハを収納したカ
セット21をチャンバ１にセットし、システムを洗浄用に
セットする。これによりバルブ５は液体供給路４とノズ
ル３を導通するように切換えられ、またロータ２の回転
は洗浄用の低速レンジに切換えられる。ロータ２の回転
数（RPM）は更に専用つまみによって調整することがで
きる。しかる後に、スタートボタンを押すと、電気ヒー
タ８によって加熱された洗浄用の水がノズル３より噴射
され、被処理体20は回転しながら洗浄される。この際、
洗浄用の水が高温であるので洗浄力が良好である。所定
時間の洗浄の後、手動又は自動でシステムが洗浄から乾
燥に切り換えられると、バルブ５は気体供給路９を導通
するように切換えられロータ２の回転は高速レンジに切
換えられ、被処理体20は高速回転しながらノズル３から
噴射されるN2ガスによって乾燥させられる。被処理体20
は高温の水で洗浄されているので水切れがよく速やかに
乾燥する。
説明する。リンサードライヤ10は電源投入と同時に電気
ヒータ８がオンされており、液体供給路４及びバルブ５
の水は加熱されて、例えば50℃以上に設定されている。
このような状態で被処理体20例えばウェハを収納したカ
セット21をチャンバ１にセットし、システムを洗浄用に
セットする。これによりバルブ５は液体供給路４とノズ
ル３を導通するように切換えられ、またロータ２の回転
は洗浄用の低速レンジに切換えられる。ロータ２の回転
数（RPM）は更に専用つまみによって調整することがで
きる。しかる後に、スタートボタンを押すと、電気ヒー
タ８によって加熱された洗浄用の水がノズル３より噴射
され、被処理体20は回転しながら洗浄される。この際、
洗浄用の水が高温であるので洗浄力が良好である。所定
時間の洗浄の後、手動又は自動でシステムが洗浄から乾
燥に切り換えられると、バルブ５は気体供給路９を導通
するように切換えられロータ２の回転は高速レンジに切
換えられ、被処理体20は高速回転しながらノズル３から
噴射されるN2ガスによって乾燥させられる。被処理体20
は高温の水で洗浄されているので水切れがよく速やかに
乾燥する。
被洗浄体を回転する前に静止状態で所定期間加熱された
洗浄液を被洗浄体に噴射し、上記所定期間後被洗浄体を
回転状態で洗浄するようにしてもよい。またこれを繰り
返えしてもよい。さらに洗浄液に超音波を印加してもよ
いし、被洗浄体に超音波を印加してもよい。
洗浄液を被洗浄体に噴射し、上記所定期間後被洗浄体を
回転状態で洗浄するようにしてもよい。またこれを繰り
返えしてもよい。さらに洗浄液に超音波を印加してもよ
いし、被洗浄体に超音波を印加してもよい。
尚、実施例においては図１の溶に液体供給路４に加熱部
８を設けた場合について説明したが、加熱部８を有しな
いものでもよく、第３図にそのようなリンサードライヤ
を示す。
８を設けた場合について説明したが、加熱部８を有しな
いものでもよく、第３図にそのようなリンサードライヤ
を示す。
［発明の効果］ 以上の説明からも明らかなように本発明によれば、洗浄
液の供給と乾燥用ガスの供給とを共通のノズルを用い、
さらに洗浄液を供給した後に乾燥用ガスを供給すること
により、簡単な構成でノズル内部に洗浄液が残留するこ
とを完全に回避することができる。従って、バクテリア
等の発生を防止することができ、また、乾燥工程終了後
のノズルからの液垂れを防止することができる。そのた
め、製品歩留りの向上を図ることができる利益がある。
液の供給と乾燥用ガスの供給とを共通のノズルを用い、
さらに洗浄液を供給した後に乾燥用ガスを供給すること
により、簡単な構成でノズル内部に洗浄液が残留するこ
とを完全に回避することができる。従って、バクテリア
等の発生を防止することができ、また、乾燥工程終了後
のノズルからの液垂れを防止することができる。そのた
め、製品歩留りの向上を図ることができる利益がある。
また、温調された洗浄液を用いるため、ノズル部分も被
処理体も乾燥時間を短縮することができる。そのため、
スループットの向上をも図ることができる。
処理体も乾燥時間を短縮することができる。そのため、
スループットの向上をも図ることができる。
第１図は本発明の一実施例のリンサードライヤを示す
図、第２図は同実施例のリンサードライヤの要部を示す
図、第３図は本発明の一実施例で液体供給路に加熱部を
有しないリンサードライヤを示す図である。 １……チャンバー ２……ロータ ３……ノズル ４……液体供給路 ５……バルブ（切替手段） ８……加熱部（電気ヒータ） ９……気体供給路 10……リンサードライヤ（洗浄装置） 20……被処理体（シリコーンウェハ） 21……カセット
図、第２図は同実施例のリンサードライヤの要部を示す
図、第３図は本発明の一実施例で液体供給路に加熱部を
有しないリンサードライヤを示す図である。 １……チャンバー ２……ロータ ３……ノズル ４……液体供給路 ５……バルブ（切替手段） ８……加熱部（電気ヒータ） ９……気体供給路 10……リンサードライヤ（洗浄装置） 20……被処理体（シリコーンウェハ） 21……カセット
Claims (5)
- 【請求項１】被処理体を収納するカセットと、前記カセ
ットを収納する室内に洗浄液を導入する液供給路と、前
記室内に乾燥用ガスを導入するガス供給路と、前記洗浄
液又は前記乾燥用ガスを前記室内に導入するノズルと、
前記液供給路又は前記ガス供給路と前記ノズルとの接続
を択一的に切り替える切替手段とを備えたことを特徴と
する洗浄装置。 - 【請求項２】前記液供給路に加熱手段を備えたことを特
徴とする請求項１記載の洗浄装置。 - 【請求項３】被処理体を収納する室内に加熱された洗浄
液をノズルから導入して前記被処理体を洗浄する工程
と、同一の前記ノズルから前記室内に乾燥用ガスを導入
して前記被処理体を乾燥する工程とを備えたことを特徴
とする洗浄方法。 - 【請求項４】被処理体を収納するカセットを回転させな
がら前記洗浄工程及び前記乾燥工程を行うことを特徴と
する請求項３記載の洗浄方法。 - 【請求項５】前記乾燥工程における前記カセットの回転
速度が前記洗浄工程における回転速度よりも高速である
ことを特徴とする請求項４記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267367A JPH07114192B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62267367A JPH07114192B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01110736A JPH01110736A (ja) | 1989-04-27 |
| JPH07114192B2 true JPH07114192B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=17443844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62267367A Expired - Lifetime JPH07114192B2 (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07114192B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007317927A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理ユニットおよび基板処理方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112509943A (zh) * | 2020-11-10 | 2021-03-16 | 芯米(厦门)半导体设备有限公司 | 晶圆表面干燥吹扫设备 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS548455A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Hitachi Ltd | Cleansing/drying device for products |
| JPS558052A (en) * | 1978-06-30 | 1980-01-21 | Mitsubishi Electric Corp | Rotary washer-drier |
| JPS6038021A (ja) * | 1983-08-11 | 1985-02-27 | Hitachi Zosen Corp | バグフイルタ |
| JPS6088299A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-18 | Shinwa Control Kk | 流水システムの配管系及び配管系の滞留防止法 |
-
1987
- 1987-10-23 JP JP62267367A patent/JPH07114192B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007317927A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理ユニットおよび基板処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01110736A (ja) | 1989-04-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |