JP4841029B2

JP4841029B2 - 酸化錫添加酸化インジウム粉末及びその製造方法

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Publication number: JP4841029B2
Application number: JP2000260322A
Authority: JP
Inventors: 淳一柏木; 浩一瓦谷; 尚男林
Original assignee: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Current assignee: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority date: 2000-08-30
Filing date: 2000-08-30
Publication date: 2011-12-21
Anticipated expiration: 2020-08-30
Also published as: JP2002068744A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は高導電性であり、経時変化による導電性の劣化が少なく且つ光線に対する高い透過性を有する薄膜を形成するのに用いることができる酸化錫添加酸化インジウム粉末及びその製造方法に関し、さらには粉末を構成する粒子の凝集が小さいことに起因して分散性に優れており、高い透明性及び電磁波に対する高い遮蔽性を有する電磁波シールドを形成することができる透明塗料用途に好適な酸化錫添加酸化インジウム粉末及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ディスプレイ表面に導電性被膜を形成して電磁波シールド効果をもたらす従来技術においては、種々の材料が用いられているが、近年漏洩電磁波に対する規制強化の動きがあり、従来にもましてより高性能な電磁波シールド材料が求められている。このため従来より使用されているアンチモン添加酸化錫に代わり、より導電性の高い酸化錫添加酸化インジウム粉末が注目されている。
【０００３】
酸化錫添加酸化インジウム（Indium Tin Oxide：以下、ＩＴＯと略記する）薄膜は、高い導電性と優れた透光性を有するので、透明導電膜としてＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬ等に利用されているほか、帯電防止、電磁波防止用途としてディスプレイフィルターに利用されている。ＩＴＯ薄膜を形成させる方法としては、ＩＴＯ微粉末を含んだ塗料を基材に塗布する方法や、ＩＴＯ粉末を成形し、焼結して得たＩＴＯ焼結体ターゲットのスパッタリングによって基材面にＩＴＯ薄膜を形成させる方法などが挙げられる。一般的には、スパッタリングによる製膜法では均一で高透明な薄膜を得ることができるが、装置や製膜コストが高い等の欠点がある。ＩＴＯ粉末を溶媒中に分散させて塗料を調製する方法では、簡便且つ低コストで製膜ができるものの、ＩＴＯ粉末を均一に分散させることが必要となり、これが不十分であると薄膜の透明性が落ちてしまう。
【０００４】
上記の高導電性薄膜用のＩＴＯ粉末の製造に関する具体的な技術としては、例えば、特開平７−１８８５９３号公報には錫塩及びインジウム塩の溶液に温度を３０℃以下に保持しながらアルカリ水溶液を添加して得られた酸化錫及び酸化インジウムの水和物を３００〜１２００℃で加熱する技術が開示されており、必要に応じてＮ₂、Ａｒ等の不活性ガス雰囲気中又はＨ₂、ＮＨ₃等の還元性雰囲気中で処理できる旨の記載もある。かかる方法で得られたＩＴＯ粉末を用いることによりある程度の導電性を有する薄膜を得ることはできる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高性能な電磁波シールド材料に求められる特性はとどまるところを知らず、ＩＴＯ粉末においても、その薄膜が単に高導電性であることのみならず、あらゆる環境下において導電性が劣化しにくいこと、いわゆる導電性についての経時安定性が良好であることが要求されている。無論、かかる特性を保有しつつ、供されるバインダー等と混練した際の分散性が良好であり、その薄膜が透明性を保持していることが重要なことは言うまでもない。
【０００６】
ＩＴＯ薄膜の導電性向上については、上記の特開平７−１８８５９３号公報にも記載されているように、焼成条件により左右されるが、焼成雰囲気を固定したままでは、酸素欠損の導入が不完全であったり、焼結が進み凝集が著しかったりするので、最終的なＩＴＯ薄膜の特性を充分に引き出し且つ導電性についての経時安定性を良くすることは困難である。
【０００７】
要するに、従来の技術においては、ＩＴＯ薄膜の導電性及び導電性についての経時安定性が必ずしも満足できるものではなく、さらにはＩＴＯ粉末の分散性、ＩＴＯ薄膜の透明性が必ずしも満足できるものではなく、ＩＴＯ粉末の製造方法として不十分なものであった。
【０００８】
このような従来の問題点に鑑み、本発明は、高導電性であり、経時変化による導電性の劣化が少なく且つ光線に対する高い透過性を有する薄膜を形成するのに用いることができる酸化錫添加酸化インジウム粉末及びその製造方法を提供すること、さらには粉末を構成する粒子の凝集が小さいことに起因して分散性に優れており、高い透明性及び電磁波に対する高い遮蔽性を有する電磁波シールドを形成することができる透明塗料用途に好適な酸化錫添加酸化インジウム粉末及びその製造方法を提供することを課題としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記課題を解決するため鋭意研究した結果、錫含有量が特定範囲内にあり、粉末の体積固有抵抗率が特定値以下であり、特定の環境下に保管した後の粉末の体積固有抵抗率が初期値の特定倍率以下であるＩＴＯ粉末が有用であること、さらには特定の結晶粒子径、塗膜の光線透過率、粒度分布を有するＩＴＯ粉末が好ましいことを知見し、本発明を完成した。
【００１０】
即ち、本発明の酸化錫添加酸化インジウム粉末は、錫含有量がＳｎＯ_２換算で２〜２０質量％であり、粉末の体積固有抵抗率が１Ω・ｃｍ以下であり、７０℃の乾燥器中で２４０時間保管した後の粉末の体積固有抵抗率が初期値の２倍以下であり、Ｘ線回折により測定した結晶粒子径が１５０Åよりも大きく、且つレーザードップラー法による粒度分布測定において５０％平均径Ｄ _５０が０．１μｍ以下であることを特徴とする。
また、本発明の電磁波シールド形成用透明塗料用酸化錫添加酸化インジウム粉末は、上記の酸化錫添加酸化インジウム粉末からなることを特徴とする。
【００１１】
更に、本発明の酸化錫添加酸化インジウム粉末の製造方法は、インジウム塩及び錫塩を含む酸性水溶液にアルカリ水溶液を添加することにより共沈水酸化物を析出させ、洗浄し、固液分離した後、微還元性雰囲気下、３００〜５００℃で焼成を行い、引き続き微還元性雰囲気又は不活性雰囲気下、６００〜１０００℃で焼成することを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明のＩＴＯ粉末は主として高導電性の薄膜の形成に用いられるのであり、従って、本発明は体積固有抵抗率が１Ω・ｃｍ以下のＩＴＯ粉末を対象にしている。本発明のＩＴＯ粉末の体積固有抵抗率が低いためには、ＩＴＯ粉末が含有する錫濃度はＳｎＯ₂換算で２〜２０質量％であることが重要であり、好ましくは４〜１２質量％である。その理由は粉末の導電性はＩＴＯ中のキャリヤ密度に依存し、そのキャリヤは錫及び酸素欠損の両者から供給されるからである。このインジウム中に添加される錫の量がＳｎＯ₂換算で２％未満の場合には、キャリヤ密度が不十分のために良好な導電性は得られない。また錫の量がＳｎＯ₂換算で２０％を超える場合には、結晶構造上、Ｉｎ₄Ｓｎ₃Ｏ₁₂の相が形成され、この相のキャリヤ密度が低いために導電性は低下すると共に固溶しきれないＳｎＯ₂が析出して導電性を阻害してしまう。
【００１３】
また、本発明のＩＴＯ粉末は、促進試験としての、７０℃の乾燥器中で２４０時間保管した後の粉末の体積固有抵抗率が初期値の２倍以下であることが重要であり、好ましくは１．８倍以下であり、より好ましくは１．５倍以下である。
この促進試験後の粉末の体積固有抵抗率の増加倍率は、導電性についての経時安定性を評価する指標であり、この増加倍率が２倍を超える場合には、粉末の導電性についての経時安定性に劣っており、ひいてはＩＴＯ粉末を電磁波シールド用途に用いた際の導電性においても経時安定性に劣るものとなる。
【００１４】
本発明者等は、ＩＴＯ粉末においては、錫の添加量が同程度でも、粉末の体積固有抵抗率の安定度は、粉末を構成する粒子の結晶粒子径に依存して変動すること、つまり粒子の結晶粒子径の大きさの変化により粉末の体積固有抵抗率についての経時安定性に差があることに着目した。その結果、Ｘ線回折により測定した結晶粒子径が１５０Åよりも大きいことが好ましいことが判明した。即ち、Ｘ線回折により測定した結晶粒子径が１５０Å以下の場合には、粉末の体積固有抵抗率についての経時安定性が損なわれる傾向があり、かかる粉末を電磁波シールド用途に用いた際、形成された電磁波シールド自体の導電性についての経時安定性も不良になる傾向がある。なお、この結晶粒子径は２００Åよりも大きいことがより好ましく、２５０Åよりも大きいことが一層好ましい。
【００１５】
また、超音波分散機を用いて本発明のＩＴＯ粉末を水中に１０分間分散させて調製したスラリーのレーザードップラー法による粒度分布測定において５０％平均径Ｄ₅₀が０．１μｍ以下であると、電磁波シールド用透明塗料用途において好適である上、上記結晶粒子径の大きさとのバランスが取れるので好ましい。
【００１６】
また、本発明のＩＴＯ粉末は、アクリル樹脂ダイヤナール（登録商標）ＬＲ−１６７からなる樹脂固形分３０質量部とＩＴＯ粉末７０質量部との割合で配合し、分散メディアとして直径１ｍｍのガラスビーズを用いて３時間分散させて塗料を調製し、この塗料を用いて湿厚み８μｍの塗膜を形成し、乾燥させて得られる導電性塗膜の全光線透過率が９０％よりも高いことが好ましく、９５％よりも高いことがより好ましい。このようにして測定する全光線透過率が９０％以下の場合には、かかる粉末を含む導電塗料により得られるＩＴＯ薄膜は透明性の点で劣ったものとなる。
【００１７】
また、本発明のＩＴＯ粉末は、粉末を構成する粒子の凝集が小さいことに起因して分散性に優れており、高い透明性及び電磁波に対する高い遮蔽性を有する電磁波シールドを形成することができる透明塗料用途を考慮すると、レーザードップラー法による粒度分布測定において５０％平均径Ｄ₅₀が０．１μｍ以下であり、１０％平均径Ｄ₁₀がＤ₅₀の０．６倍以下であり、９０％平均径Ｄ₉₀がＤ₅₀の２倍以下であることが好ましい。
【００１８】
次に本発明の製造方法について説明する。
本発明の課題である、高導電性であり、経時変化による導電性の劣化が少なく且つ光線に対する高い透過性を有する薄膜を形成するのに用いることができ、さらには分散性に優れており、高い透明性及び電磁波に対する高い遮蔽性を有する電磁波シールドを形成することができる透明塗料用途に好適なＩＴＯ粉末を製造するためには、前記した従来技術の問題点を改善し、高導電性で結晶粒子径を大きくすることができ、さらには粒子の凝集を抑制できる方法を選択しなければならない。
【００１９】
即ち、結晶粒子径を大きくさせる際の高い温度での熱処理による粒子凝集や分散不良の改善、ならびに結晶粒子径が大きくなると結晶自体がより強固な構造となり、微還元焼成により酸素欠損を導入し難くなってしまう点の改善が重要である。そこで本発明者等は、従来技術のように空気中又は不活性雰囲気中で一度熱処理（仮焼）する事により結晶粒子径を大きくしてから微還元性雰囲気焼成で酸素欠損を導入するのでなく、はじめに比較的低い温度で微還元焼成を行って酸素欠損を導入し、続けて不活性雰囲気又は微還元性雰囲気で高温焼成を行なうことにより、充分な量の酸素欠損を導入しながら結晶性が高く結晶粒子径の大きいＩＴＯ粉末が得られること、また２段階の焼成を連続で行うことにより、従来の方法に比べ熱処理の時間が短くなり、粒子凝集も抑えられることを知見したのである。
【００２０】
即ち、本発明のＩＴＯ粉末の製造方法は、インジウム塩及び錫塩を含む酸性水溶液にアルカリ水溶液を添加することにより共沈水酸化物を析出させ、洗浄し、固液分離した後、微還元性雰囲気下、３００〜５００℃で焼成を行い、引き続き微還元性雰囲気又は不活性雰囲気下、６００〜１０００℃で焼成することを特徴とする。
【００２１】
本発明の製造方法においては、出発原料であるインジウム塩及び錫塩としてそれぞれ可溶性インジウム化合物及び可溶性錫化合物を使用する。可溶性インジウム化合物としては、例えばＩｎ（ＮＯ₃）₃、Ｉｎ₂（ＳＯ₄）₃、ＩｎＣｌ₃及び水和物等を用いることができ、可溶性錫化合物としては、例えばＳｎＣｌ₄、ＳｎＣｌ₂、ＳｎＢｒ₂、ＳｎＳＯ₄等を用いることができる。また、中和に用いるアルカリ水溶液としては、アンモニア水溶液、炭酸アンモニウム水溶液、重炭酸アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等を用いることができるが、アンモニア水溶液が好ましい。
【００２２】
まずインジウム塩水溶液と錫塩水溶液とを、焼成後のＩＴＯ粉中の錫含有量がＳｎＯ₂換算で２〜２０質量％となるように混合し、酸を添加して酸性水溶液とする。このインジウム塩及び錫塩を含む酸性水溶液とアルカリ水溶液とを混合攪拌して反応させることにより、インジウムの水酸化物と錫の水酸化物との共沈生成物が得られる。このときのインジウム塩及び錫塩を含む酸性水溶液と、アルカリ水溶液との混合の仕方には特に限定はなく、それらの２液を定量ポンプで一定割合で添加し連続的に混合したり、インジウム塩及び錫塩を含む酸性水溶液を攪拌しながらそれにアルカリ水溶液を定量ポンプで滴下しても、もしくはアンモニア水溶液を攪拌しながらそれに定量ポンプでインジウム塩及び錫塩を含む酸性水溶液を滴下してもかまわない。
【００２３】
このようにして得られたインジウムの水酸化物と錫の水酸化物との共沈生成物を含むスラリーを常法に従って洗浄し、固液分離し、乾燥し、その後、共沈生成物乾燥粉末を微還元性雰囲気下３００〜５００℃で焼成し、引き続き微還元性雰囲気又は不活性雰囲気下６００〜１０００℃で焼成する。
【００２４】
この熱処理の工程は、途中で粉砕処理等を行う必要がなく、通気するガスの組成と温度を制御するだけで良い。前半の微還元時のガスは０．１〜３％の還元性ガスを含む不活性ガスを粉体１ｇ当たり１〜１０ｍＬ／分で通気すれば良い。また、後半の微還元性雰囲気又は不活性雰囲気中処理時のガスは０〜３％の還元性ガスを含む不活性ガスを粉体１ｇ当たり１〜１０ｍＬ／分で通気すれば良い。この際に用いられる還元性ガスとしては水素、一酸化炭素等があり、不活性ガスとしては窒素、ヘリウム、アルゴン等がある。
【００２５】
また、焼成の際の温度が高すぎると、粒子の焼結に起因して粉末の凝集を生じることになり、逆に焼成の際の温度が低すぎると酸素欠損量が不足して導電性が低下したり、結晶粒子径が大きくならず導電性についての経時安定性に欠けたりするので、十分な注意を要する。
【００２６】
【実施例】
以下に、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明する。
実施例１〜４及び比較例１〜６
それぞれ第１表に示す量の、Ｉｎ（ＮＯ₃）₃を含有する硝酸水溶液（インジウム濃度はＩｎ換算で１００ｇ／Ｌであり、液比重は１．６１ｇ／ｍＬである）に、ＳｎＣｌ₄濃度が４４質量％の塩酸水溶液を添加して各々の混合溶液を調製した。それらの混合溶液にｐＨが１．５になるまで濃塩酸を添加してそれぞれ酸性水溶液Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤを調製した。
【００２７】
【表１】

【００２８】
それぞれ第２表に示す種類の酸性水溶液を反応槽に入れ、攪拌機で攪拌しながらホットスターラーで４０℃に加熱した。液温が一定になったところで、ｐＨが４になるまで１０％アンモニア水溶液をローラーポンプを用いて１Ｌ／ｍｉｎの速度で添加した。アンモニア水溶液の添加により、インジウム塩及び錫塩を含有するそれぞれの酸性水溶液は白濁し、共沈水酸化物を含有するスラリーが生成した。
【００２９】
得られた各々のスラリー対して５０℃の温水によるデカンテーションを４回繰り返して洗浄し、上澄み液の導電率が１００μＳ／ｓｅｃ以下になったことを確認して洗浄を終了した。洗浄の終了した各々の共沈生成物に純水を加えて１００ｇ／Ｌの濃度のスラリーを調製し、それらのスラリーを、入口温度１４０℃、出口温度７５℃に設定したスプレードライヤーで噴霧乾燥させた。
【００３０】
次に、得られた各々の乾燥粉末２５ｇを回転環状雰囲気炉内に保持し、第２表の一段目のガス雰囲気の欄に示す組成のガスを１５０ｍＬ／ｍｉｎの速度で炉内に供給し、そのガス雰囲気中で、第２表の一段目の温度の欄に示す温度に２時間保持することにより焼成処理を行った。続いて雰囲気炉内の温度を８００℃に上昇させ、第２表の二段目のガス雰囲気の欄に示す組成のガス雰囲気中でさらに１時間焼成を続け、その後ガス雰囲気を窒素雰囲気に切り替えて常温まで冷却してＩＴＯ粉末を得た。なお、比較例４の場合には、一段目の焼成のみを実施し、大気雰囲気中で常温まで冷却した。
【００３１】
【表２】

【００３２】
上記のようにして得られた各々のＩＴＯ粉末について、下記の諸特性を下記の方法で測定した。それらの結果は第３表に示す通りであった。
１）酸化錫及び酸化インジウム含有率
試料を酸に溶解させ、ＩＣＰ法により含有率を測定した。
【００３３】
２）粉末の体積固有抵抗率
直径４５ｍｍ、深さ１０ｍｍのアルミニウム製カップに各々の試料を充填し、このカップをプレス成形機にて１９．６ＭＰａの圧力で加圧成形し、各々の試料ペレットを作製した。この作製した試料ペレットについて三菱化学社製抵抗率測定器ロレスタＡＰ及び四短針プローブを用いて測定し、粉末の体積固有抵抗率を測定した。
【００３４】
３）粉末の体積固有抵抗率についての経時安定性
促進試験として、試料をステンレス製バットに入れ、箱型温風循環式乾燥機中に７０℃で２４０時間保管し、その後に、上記２）の粉末の体積固有抵抗率の測定法を実施して促進試験後の粉末の体積固有抵抗率を測定した。上記２）で得られた粉末の体積固有抵抗率を初期値Ａとし、促進試験後の粉末の体積固有抵抗率をＢとし、促進試験後の粉末の体積固有抵抗率の増加倍率Ｂ／Ａを算出した。この増加倍率が小さい方が粉末の体積固有抵抗率についての経時安定性に優れていることになる。
【００３５】
４）結晶粒子径
理学電機社製の自動Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ−２０００を使用し、２θ＝２０°〜４０°の範囲で測定して結晶歪み及び結晶子径計測プログラムにより結晶粒子径を算出した。なお、計測プログラムに使用するピークは２θ＝２１．５°、３０．５°、３５．５°及び３７．７°の４本を選択した。
【００３６】
５）レーザードップラー法による粒度分布測定のＤ₁₀、Ｄ₅₀及びＤ₉₀値
容積１００ｍＬのガラス製ビーカーに試料１ｇ及び純水１００ｍＬを入れ、日本製機製作所社製の超音波分散機ＵＳ−２００を用いて１０分間分散させた。調製したスラリーを日機装社から入手できるレーザードップラー法による粒度分布測定装置マイクロトラックＵＰＡを用いてＤ₁₀、Ｄ₅₀及びＤ₉₀値を測定した。
【００３７】
６）全光線透過率
容積５０ｍＬのポリエチレン製ボトルに６．４８ｇの試料及び６．０４ｇの三菱レーヨン社製アクリル樹脂ダイヤナール（登録商標）ＬＲ−１６７（樹脂固形分が４６質量％のもの）を入れ、更に溶剤としてトルエンとブタノールとを７：３の質量比で混合した溶液１２．４８ｇを添加し、更に分散メディアとして直径１ｍｍのガラスビーズ２５ｇを入れて蓋をした。これをレッドデビル社製の分散機を用いて３時間攪拌混合を行って導電性塗料を調製した。この塗料を用いてポリエステルベースフィルム上にワイヤーバーにより湿厚み８μｍの均一な塗膜を形成した。これを７０℃の乾燥機中で１０分間乾燥させて導電性塗膜を得た。室温まで冷却した後に塗膜を５ｃｍ角に裁断し、日本電色工業社の光線透過率測定装置ＮＤＨ−１００１ＤＰによって全光線透過率を測定した。
【００３８】
【表３】

【００３９】
第３表のデータからも明らかなように実施例１〜４の本発明のＩＴＯ粉末は、粉末の体積固有抵抗率が小さいことは勿論のこと、結晶粒子径が大きいことに起因して促進試験後の粉末の体積固有抵抗率の増加倍率が小さく、粉末の体積固有抵抗率についての経時安定性に優れている。また、レーザードップラー法による粒度分布測定のＤ₁₀、Ｄ₅₀及びＤ₉₀値から見ても、凝集が少なく、分散性に優れており、また、それらのＩＴＯ粉末を用いて形成された導電性塗膜の全光線透過率は高く、透明性の点でも優れている。
【００４０】
これに対して、比較例１〜６のＩＴＯ粉末は、粉末の体積固有抵抗率が大きいか、或いは結晶粒子径が小さいことに起因して促進試験後の粉末の体積固有抵抗率の増加倍率が大きく、粉末の体積固有抵抗率についての経時安定性に劣っているか、又は分散性や透明性の点で劣っているか、それらの２種以上の特性で劣っている。
【００４１】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明のＩＴＯ粉末は、高導電性であり、経時変化による導電性の劣化が少なく且つ光線に対する高い透過性を有する薄膜を形成するのに用いることができ、さらには粉末を構成する粒子の凝集が小さいことに起因して分散性に優れており、高い透明性及び電磁波に対する高い遮蔽性を有する電磁波シールドを形成することができる透明塗料用途に好適である。
また、本発明の製造方法は、上記のＩＴＯ粉末を製造し得ると共に、強い還元性雰囲気における焼成処理を必要とすることなく、従って高価な設備やその設備による高いランニングコストを必要とせず、経済的で且つ安全性の高い製造方法である。

Claims

錫含有量がＳｎＯ_２換算で２〜２０質量％であり、粉末の体積固有抵抗率が１Ω・ｃｍ以下であり、７０℃の乾燥器中で２４０時間保管した後の粉末の体積固有抵抗率が初期値の２倍以下であり、Ｘ線回折により測定した結晶粒子径が１５０Åよりも大きく、且つレーザードップラー法による粒度分布測定において５０％平均径Ｄ_５０が０．１μｍ以下であることを特徴とする酸化錫添加酸化インジウム粉末。
アクリル樹脂ダイヤナール（登録商標）ＬＲ−１６７からなる樹脂固形分３０質量部と酸化錫添加酸化インジウム粉末７０質量部との割合で配合し、分散メディアとして直径１ｍｍのガラスビーズを用いて３時間分散させて塗料を調製し、この塗料を用いて湿厚み８μｍの塗膜を形成し、乾燥させて得られる導電性塗膜の全光線透過率が９０％よりも高いことを特徴とする請求項１記載の酸化錫添加酸化インジウム粉末。
レーザードップラー法による粒度分布測定において５０％平均径Ｄ_５０が０．１μｍ以下であり、１０％平均径Ｄ_１０がＤ_５０の０．６倍以下であり、９０％平均径Ｄ_９０がＤ_５０の２倍以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の酸化錫添加酸化インジウム粉末。
請求項１〜３の何れかに記載の酸化錫添加酸化インジウム粉末からなることを特徴とする電磁波シールド形成用透明塗料用酸化錫添加酸化インジウム粉末。
インジウム塩及び錫塩を含む酸性水溶液にアルカリ水溶液を添加することにより共沈水酸化物を析出させ、洗浄し、固液分離した後、微還元性雰囲気下、３００〜５００℃で焼成を行い、引き続き微還元性雰囲気又は不活性雰囲気下、６００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化錫添加酸化インジウム粉末の製造方法。