JP4791186B2 - 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法、磁気ディスク装置 - Google Patents

Description

本発明は、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体間の距離を小さくできる、低浮上の磁気ヘッドスライダ及びその製造方法に関する。また、このような磁気ヘッドスライダを搭載した高信頼性の磁気ディスク装置に関する。

磁気ディスク装置では、記録再生素子（磁気ヘッド）を搭載した磁気ヘッドスライダが、空気のくさび膜効果によって磁気ディスクから浮上し、ディスク上に記録された磁気情報を読み書きする。磁気ディスク装置の高記録密度化と、それによる装置の大容量化あるいは小型化を実現するためには、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体の距離（ヘッド浮上量）を縮め、線記録密度を上げることが有効である。近年、前記ヘッド浮上量は１０ｎｍ程度あるいは１０ｎｍ以下まで縮められている。

磁気ヘッドスライダの空気軸受面には、空気のくさび膜効果を高める浮上パッドと呼ばれる凸部が複数形成されている。記録再生素子は前記浮上パッドのうち、空気流出端側にある、稼動時にディスクに最も近接する一つの上に形成されている。この記録再生素子が位置する浮上パッドは素子パッドとも呼ばれる。

今後さらにヘッド浮上量を５ｎｍ以下まで低減するためには、特許文献１に記載されているように、前記素子パッドを凸曲面で構成するのが有効である。その理由は、第一に、素子パッドを平面あるいは凹曲面で構成した場合は、記録再生素子を素子パッドの隅部ぎりぎりに形成しない限り、スライダ傾きに対して浮上量のロスが生じるが、ステップ軸受の形成誤差を考慮すると、隅部ぎりぎりに記録再生素子を形成するのは現実的には不可能である。一方、素子パッドを凸曲面で構成した場合は、スライダが多少傾いても、記録再生素子位置が浮上量の最下点であり続けることができる。

第二に、素子パッドを平面あるいは凹曲面で構成した場合は、一時的にスライダとディスクが近づいてディスク上の潤滑剤が架橋した時に、その液体膜の形状から、大きなメニスカス力が生じ、記録再生を妨げる不安定振動の原因となる。一方、素子パッドを凸曲面で構成した場合は、一時的にスライダが潤滑剤やディスクに接触した際にも、不安定振動の原因となる大きなメニスカス力あるいはファンデルワールス力が発生しない。従って、ヘッド浮上量を５ｎｍ以下まで低減しても、安定した記録再生を続けることができる。

特開平７−２５４２４８号公報

空気軸受面に、ナノメートルオーダで、なめらかな凸曲面を形成する現実的な方法が見当たらないことが、本発明が解決しようとする課題である。微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）プロセスの光学応用分野には、レンズなどの球面を形成するプロセスも存在するが、磁気ヘッドスライダの空気軸受面上に形成するには、そのプロセスは複雑かつ困難である。

本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、その目的は、ナノメートルオーダで滑らかな凸曲面の素子パッドを有する磁気ヘッドスライダと、その製造方法を提供することである。

また、本発明の他の目的は、磁気ヘッドスライダの低浮上状態において安定した記録再生を行うことができる磁気ディスク装置を提供することである。

上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドスライダにおいては、空気流入端面と空気軸受面と空気流出端面を有するスライダと、スライダの空気流出端面に形成された磁気ヘッドと、磁気ヘッドの近傍に設けられた研磨用ヒータとを有し、前記空気軸受面には空気流入端側と空気流出端側にレール面が形成され、前記磁気ヘッドは前記空気流出端側のレール面に位置し、前記研磨用ヒータを用いた前記空気軸受面の研磨加工を経ることにより前記磁気ヘッドが位置する部分が前記スライダの幅方向に凸形状の曲面を成していることを特徴とする。

上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法においては、
セラミック材のウエハの上部に磁気ヘッドを形成するステップと、
前記磁気ヘッドの上部で両端部よりも外側の位置に研磨用ヒータを形成するステップと、
前記ウエハをローバーに切断するステップと、
前記研磨用ヒータに通電し、前記ローバーの空気軸受面となる面を研磨するステップと、
前記研磨用ヒータの通電を停止し、前記空気軸受面となる面の空気流入端側に流入側レール面を、空気流出端側で前記磁気ヘッド素子を含む領域に流出側レール面を形成するステップと、
前記ローバーを前記磁気ヘッド素子単位に切り離すステップと、を含むことを特徴とする。

上記他の目的を達成するために、本発明の磁気ディスク装置においては、
磁気ディスク媒体と、
空気流入端面と空気軸受面と空気流出端面を有するスライダと、スライダの空気流出端面に形成された磁気ヘッドと、磁気ヘッドの近傍に設けられた研磨用ヒータとを有し、前記空気軸受面には空気流入端側と空気流出端側にレール面が形成され、前記磁気ヘッドは前記空気流出端側のレール面に位置し、前記研磨用ヒータを用いた前記空気軸受面の研磨加工を経ることにより前記磁気ヘッドが位置する部分が前記スライダの幅方向に凸形状の曲面を成している磁気ヘッドスライダと、
を有することを特徴とする。

本発明によれば、ナノメートルオーダで滑らかな凸曲面の素子パッドを有する磁気ヘッドスライダ及びその製造方法を提供することができる。また、磁気ヘッドスライダの低浮上状態において安定した記録再生を行うことができる磁気ディスク装置を提供することができる。

本発明の実施例による磁気ヘッドスライダおよびその製造方法、この磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置について、以下図面を用いて詳細に説明する。図１は磁気ディスク装置の概略構成を示す。磁気ディスク装置１３は、磁気情報が格納されスピンドルモータによって回転する磁気ディスク１０と、記録再生素子から成る磁気ヘッドを搭載しロードビーム１５によって支持および径方向位置決めされる磁気ヘッドスライダ（単にスライダとも呼ぶ）１を有し、スライダ１が相対的に磁気ディスク１０上を走行して磁気ディスク上に記録された磁気情報を読み書きする。前記スライダ１は空気潤滑軸受として空気のくさび膜効果によって浮上し、磁気ディスク１０とスライダ１が直接は固体接触しないようになっている。磁気ディスク装置１３の高記録密度化と、それによる装置の大容量化あるいは小型化を実現するためには、スライダ１と磁気ディスク１０の距離、すなわちスライダ浮上量を縮め、線記録密度を上げることが有効である。近年、スライダ浮上量は１０ｎｍ程度あるいは１０ｎｍ以下まで縮められている。

スライダ１は、板ばね状のロードビーム１５に取り付けられており、ロードビーム１５によって磁気ディスク面への押し付け荷重を与えられ、ロードビーム１５とともにボイスコイルモータ１６によって磁気ディスク１０の径方向にシーク動作し、磁気ディスク面全体で記録再生を行う。スライダ１は、装置の停止時あるいは読み書き命令が一定時間無い時に、磁気ディスク１０上からランプ１４上に待避する。なお、ここではロード・アンロード機構を備えた装置を示したが、装置停止中は磁気ヘッドスライダ１が磁気ディスク１０のある特定の領域で待機するコンタクト・スタート・ストップ方式の磁気ディスク装置であっても良い。

図２は磁気ヘッドスライダ１の斜視図である。スライダ１は、アルミナ／チタンカーバイド焼結体の基板（ウエハ）部分１ａと、薄膜ヘッド部分１ｂから成る。ウエハ状態で、スパッタリング、めっき、研磨などの工程を繰り返して、薄膜ヘッド部分１ｂを基板１ａ上に積層した後に、ダイシングによってウエハを複数のローバーに切断し、ローバーの状態で浮上面研磨及びレール加工を行い、個々のスライダ１に切り離す。スライダ１は例えば長さ１．２５ｍｍ、幅１．０ｍｍ、厚さ０．３ｍｍのほぼ直方体形状をしており、空気軸受面５、空気流入端面１１、空気流出端面１２、両側の側面、背面の計６面から構成される。空気軸受面５は研磨によって平滑に仕上げる。なお、スライダの寸法は前記以外に、更に小型で長さ０．８５ｍｍ、幅０．７ｍｍ、厚さ０．２３ｍｍであっても良い。

空気軸受面５にはイオンミリングやエッチングなどのプロセスによって微細な段差（ステップ軸受）が設けられており、図示されていないディスクと対向して空気圧力を発生し、背面に負荷される荷重を支える空気軸受の役目を果たしている。なお、段差は強調して表示されている。空気軸受面５の段差は、実質的に平行な３種類の面に分類される。最もディスクに近いレール面６、レール面６より約１００ｎｍ乃至２００ｎｍ深いステップ軸受面である浅溝面７、レール面６より約１μｍ深くなっている深溝面８の３種類である。ディスクが回転することで生じる空気流が、空気流入端面１１側のステップ軸受である浅溝面７から流入側レール面６へ進入する際に、先すぼまりの流路によって圧縮され、正の空気圧力を生じる。一方、流入側レール面６や浅溝面７から深溝面８へ空気流が進入する際には流路の拡大によって、負の空気圧力が生じる。

磁気ヘッドスライダ１は空気流入端１１側の浮上量が空気流出端側１２の浮上量より大きくなるような姿勢で浮上するように設計されている。従って流出端近傍の浮上パッドがディスクに最も接近する。流出端近傍では、流出側レール面６（素子パッド６ａ）が周囲の浅溝面７、深溝面８に対して突出しているので、スライダピッチ姿勢およびロール姿勢が一定限度を超えて傾かない限り、レール面６（素子パッド６ａ）が最もディスクに近づくことになる。磁気ヘッドを構成する記録素子２および再生素子３は、レール面６（素子パッド６ａ）の薄膜ヘッド部分１ｂに属する部分に形成されている。ロードビームから押し付けられる荷重と、空気軸受面５で生じる正負の空気圧力とがうまくバランスし、記録素子２および再生素子３からディスクまでの距離を１０ｎｍ程度あるいはそれ以下の適切な値に保つよう、ステップ軸受の形状が設計されている。なお、ここでは空気軸受面５が実質的に平行な３種類の面６、７、８から形成される二段ステップ軸受のスライダについて説明したが、４種類以上の平行な面から形成されるステップ軸受のスライダであっても良い。

背景技術として述べたように、今後さらにヘッド浮上量を低減するためには、前記素子パッド６ａの、最もディスク１０に近づく部分を、凸曲面で構成し、スライダ１が多少傾いても記録再生素子位置が浮上量の最下点であり続けるように、また一時的にスライダ１が潤滑剤に接触した際にも不安定振動の原因となる大きなメニスカス力が発生しないようにする必要がある。従来のスライダの空気軸受面でも、完全な平面ではなく、クラウンもしくはキャンバーと呼ばれる僅かな曲率が設けられていることがある。しかしこのような僅かな曲率では、上述した、スライダの傾きに対して浮上最下点を安定させる効果と、スライダの接触に伴う不安定振動を抑制する効果は期待できない。

そこで本発明の実施例では、素子パッド６ａの流出端側の終端部で、記録再生素子が形成された近傍を、曲率のより大きな凸曲面で構成する。図３は実施例による、凸曲面で構成された素子パッド６ａを備えたスライダ１が、ロール方向に傾いた様子を示す。また、図４は従来の、平面で構成された素子パッド６ｂを備えたスライダが、ロール方向に傾いた様子を示す。図３、図４とも、磁気ヘッドスライダを流出端側から見た図である。従来の構成ではスライダがロール方向に傾くと、浮上最下点は素子パッド６ｂのどちらかの端点となり、記録再生素子位置で浮上量ロスが発生するが、実施例の凸曲面構成の素子パッド６ａでは、多少のロール方向のスライダ傾きがあっても、浮上最下点は記録再生素子位置のままほとんど変わらない。また、素子パッド６ａと磁気ディスク１０の間に液体膜が一時的に形成された場合のメニスカス力が従来の構成に比べて小さい。

上記素子パッド６ａの流出端側の一部を凸曲面で構成するため、本実施例の磁気ヘッドスライダ１は次に述べる加工用ヒータ４を、薄膜ヘッド部分１ｂの内部に備える。加工用ヒータ４の、空気軸受面５への投影位置を、図２において記号４ｐで示した。

凸曲面を形成するプロセスを、図５を用いて説明する。図５は磁気ヘッドスライダ１を、流出端側から見た図である。空気軸受面５の研磨時に作用する加工用ヒータ４は、記録再生素子２および３を挟んで、スライダ幅方向に関して両側に一つずつあり、空気流出端面１２上の電気接続端子４ｔに、直列または並列に配線されている。加工用ヒータ４は、磁気ヘッドを形成する薄膜プロセスの途中で、薄膜抵抗体（たとえば、厚さ０．２μｍのＮｉＣｒ合金膜）をスパッタリングして、ミリングによる除去加工で図のような形状に整えたものである。電気接続端子４ｔを通じて加工用ヒータ４に通電すると、ヒータが電気抵抗で発熱して周囲の物質を温め、図５（ｂ）に示すように熱膨張させる。この状態で空気軸受面５を平滑に研磨すると、通電を止めた状態では図５（ｃ）に示すように記録再生素子２および３の両側にすり鉢状の凹部ができる。この後、空気軸受面５に浅溝７、深溝８から成るステップ軸受を形成すべく、除去加工を行うと、図５（ｄ）に示すように、記録再生素子近傍だけ凸部が残された形状が完成する。磁気ディスク装置１０の出荷後、実際に稼動する時には、加工用ヒータ４は使われない。

加工用ヒータ４の、空気軸受形状との位置関係について、図６および図７を用いて説明する。図６は磁気ヘッドスライダ１の斜視図で、流出端付近の拡大図である。複数の加工用ヒータ４が同一層上に（スライダ長手方向に関して同位置に）形成されている場合、それらは下記３点の条件を満たす位置にあることが望ましい。
第一に、加工用ヒータ４を空気軸受面に投影した位置４ｐは、レール面６ａの上ではなく、浅溝面７や深溝面８など、記録再生素子が設置された以外の面上にある。
第二に、加工用ヒータ４を空気軸受面に投影した位置４ｐは、レール面６ａの終端より後方にある（図６の位置関係Ｒ２）。
第三に、加工用ヒータ４を空気軸受面に投影した位置４ｐは、スライダ幅方向に関して記録再生素子設置面の両側で、レール面６ａの終端幅よりも外側にある（図６の位置関係Ｒ３）。

図７は、２つのすり鉢状の凹部形状が合成された高低形状を示す。中心部Ｃは、馬の鞍の形であり、スライダ幅方向には凸形状であるが、スライダ長手方向には凹形状となる。記録再生素子が設置された素子パッド６ａ終端が、スライダ長手方向に関して凹面ではなく凸面になるためには、加工用ヒータ投影位置４ｐが、スライダ長手方向に関して素子パッド６ａ終端よりも後方である必要がある。また、素子パッド６ａがスライダ幅方向に関して完全な凸形状になるためには、加工用ヒータ投影位置４ｐが、スライダ幅方向に関してレール幅よりも外側にある必要がある。

上記実施例の変形例を図８に示す。図６の場合と違って、複数の加工用ヒータ４が同一層上に全て形成されている訳ではなく、別の層に形成されたものである。この例では、加工用ヒータ４が記録再生素子の両側と流出端側に３個設けられている。この場合、前述し、図７で示した空気軸受形状との位置関係は、必ずしも必要ない。更には、図９に示すように、記録再生素子の前方にも配置して、前後左右を囲んでも良い。また、図１０に示すように、記録再生素子の両側及び後方を囲むリング状あるいはコの字型の大きなヒータを形成しても良い。もっとも、形成の簡単さを考慮すると、図６に示した実施例が最も現実的である。

さらに磁気ヘッドスライダの他の実施例を図１１に示す。図１１に示した磁気ヘッドスライダ１は、浮上量制御機能を持つものである。浮上量制御機能とは、磁気ヘッドを形成する薄膜プロセスの途中で、薄膜抵抗体から成るヒータを、薄膜ヘッド部分１ｂの内部に形成し、磁気ディスク装置の稼動中に通電して、浮上量の個体ばらつき吸収、環境温度変化による浮上量変動の補償、記録時と再生時の浮上量差の補正などを行うものである。記録素子２および再生素子３を磁気ディスク１０に近づけるよう熱膨張によって動かすことが目的であるため、浮上量制御用ヒータ４ａの位置は、記録素子２および再生素子３の極めて近くである。今後の低浮上化のためには、浮上量制御機能は極めて重要である。

加工用ヒータ４ｂおよび４ｃは、空気軸受面５の研磨時に用いられ、装置稼動時には使われない。一方、浮上量制御用ヒータ４ａは、空気軸受面５の研磨時には用いられず、装置稼動時に用いられる。スライダ外への電気接続端子４ｔに関しては、加工用ヒータも浮上量制御用ヒータもそれぞれ独立に持っても良いが、スライダ流出端１２の面積が限られており、記録再生素子用にも４つの電気接続端子が必要であることを考えると、加工用ヒータの端子と、浮上量制御用ヒータの端子は、共用するのが効果的である。これらを共用しないと空気流出端に最低でも７端子が必要となり、小型スライダの幅０．７ｍｍ、厚さ０．２３ｍｍ規格では実装が困難となる。これらを共用すれば合計６端子となり、小型スライダでも実装可能となる。

前記浮上量制御用ヒータ４ａの抵抗値は、前記加工用ヒータ４ｂ，４ｃの抵抗値の合計に比べて大きくすると良い。例えば、加工用ヒータは一つ２０Ω、二つで４０Ω、浮上量制御用ヒータ４ａは４００Ωとする。そうすれば、図１１（ａ）に示すように浮上量制御用ヒータ４ａと加工用ヒータ４ｂ，４ｃを並列に接続した場合、加工時は加工用ヒータ４ｂ，４ｃにおける発熱量が、浮上量制御用ヒータ４ａにおける発熱量の１０倍となり、浮上量制御用ヒータ４ａによる突出は無視できる。

その後のステップ軸受の形成工程において、図１１（ｂ）に示すように加工用ヒータ配線はイオンミリング等で切断され、磁気ディスク装置の稼動時には端子に通電しても加工用ヒータ４ｂ，４ｃは発熱しなくなる。なお、加工用ヒータ配線の切断は、レーザ照射によって、ステップ軸受形成工程とは別に行っても良い。

加工用ヒータ配線の他の例を図１２に示す。浮上量制御用ヒータ４ａの回路にはコンデンサが挿入されず、加工用ヒータ４ｂ、４ｃの回路には、コンデンサ９が挿入されている。図１２では端子４ｔと重なる電極形状を持つコンデンサ９を示したが、回路のどの部分に挿入されていても良い。空気軸受面５の研磨時に加工用ヒータ４ｂ，４ｃに通電する際には、高周波の交流電源を印加する。前述したように浮上量制御用ヒータ４ａの抵抗値を、前記加工用ヒータの抵抗値合計に比べて何倍にも大きくしておけば、浮上量制御用ヒータ４ａによる加工時の突出は無視できる。磁気ディスク装置の稼動時には、端子間に直流電圧を印加すれば、コンデンサ９がハイパスフィルタとして作用し、加工用ヒータ４ｂ，４ｃには通電されず、発熱しない。従って、本実施例においても、加工用ヒータ４ｂ，４ｃの端子と、浮上量制御用ヒータ４ａの端子を、共用することができる。

以上述べたように、本発明の実施例によれば、ナノメートルオーダでなめらかな凸曲面を磁気ヘッドスライダの素子パッド上に形成することができる。その結果、磁気ヘッドスライダの低浮上化と、更には磁気ディスク装置の高記録密度化を実現することができる。

本発明の実施例による磁気ヘッドスライダを搭載する磁気ディスク装置の概略構成を示す上面図である。 本発明の実施例による磁気ヘッドスライダの浮上面側から見た斜視図である。 ロール姿勢を与えられた状態で、実施例の磁気ヘッドスライダを流出端側から見た概念図である。 ロール姿勢を与えられた状態で、従来の磁気ヘッドスライダを流出端側から見た概念図である。 実施例の磁気ヘッドスライダを加工するプロセスを示す図である。 実施例の磁気ヘッドスライダの、流出端近傍の拡大斜視図である。 実施例の磁気ヘッドスライダの、流出端近傍の空気軸受面の高低を示す図である。 変形例による磁気ヘッドスライダの、流出端近傍の拡大斜視図である。 他の変形例による磁気ヘッドスライダの、流出端近傍の拡大斜視図である。 さらに他の変形例による磁気ヘッドスライダの、流出端近傍の拡大斜視図である。 本発明の他の実施例による磁気ヘッドスライダを加工するプロセスを示す図である。 他の実施例の変形例による磁気ヘッドスライダを加工するプロセスを示す図である。

符号の説明

１…磁気ヘッドスライダ、１ａ…基板（ウエハ）部分、１ｂ…薄膜ヘッド部分、２…記録素子、３…再生素子、４…ヒータ、４ｐ…ヒータの空気軸受面への投影位置、４ａ…浮上制御用ヒータ、４ｂ，４ｃ…加工用ヒータ、４ｔ…電気接続端子、５…空気軸受面、６…レール面、６ａ…素子パッド、７…浅溝面、８…深溝面、９…コンデンサ、１０…磁気ディスク、１１…空気流入端面、１２…空気流出端面、１３…磁気ディスク装置、１４…ランプ、１５…ロードビーム、１６…ボイスコイルモータ。

Claims (20)

1. 空気流入端面と空気軸受面と空気流出端面を有するスライダと、該スライダの空気流出端面に形成された磁気ヘッドと、該磁気ヘッドの近傍に設けられた研磨用ヒータとを有し、前記空気軸受面には空気流入端側と空気流出端側にレール面が形成され、前記磁気ヘッドは前記空気流出端側のレール面に位置し、前記研磨用ヒータに通電し、前記研磨用ヒータの通電により突出した前記空気軸受面の研磨加工を経ることにより前記磁気ヘッドが位置する部分が前記スライダの幅方向に凸形状の曲面を成していることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
2. 請求項１記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   前記研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側に設けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
3. 請求項１記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   前記研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側で、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドよりも空気流出側に設けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
4. 請求項１記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   前記研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側と、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドよりも空気流出側に設けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
5. 請求項１記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   前記研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側と、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドの前後に設けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
6. 請求項１記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   前記研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側を、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドの空気流出側を囲むように設けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
7. 請求項１記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   さらに、前記研磨用ヒータよりも前記磁気ヘッドに近接して浮上制御用ヒータが設けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
8. 請求項７記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   前記研磨用ヒータの配線が接続される電気接続端子と前記浮上制御用ヒータの配線が接続される電気接続端子が共用されていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
9. 請求項８記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
   前記研磨用ヒータの配線と前記浮上制御用ヒータの配線が前記共用電気接続端子に並列に接続され、前記浮上制御用ヒータの抵抗値は前記研磨用ヒータの抵抗値の合計よりも大きいことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
10. 請求項９記載の磁気ヘッドスライダにおいて、
    前記研磨用ヒータの配線と前記共用電気接続端子との間にコンデンサが接続されていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
11. セラミック材のウエハの上部に磁気ヘッドを形成するステップと、
    前記磁気ヘッドの上部で両端部よりも外側の位置に研磨用ヒータを形成するステップと、
    前記ウエハをローバーに切断するステップと、
    前記研磨用ヒータに通電し、前記研磨用ヒータの通電により突出した前記ローバーの空気軸受面となる面を研磨するステップと、
    前記研磨用ヒータの通電を停止し、前記空気軸受面となる面の空気流入端側に流入側レール面を、空気流出端側で前記磁気ヘッド素子を含む領域に流出側レール面を形成するステップと、
    前記ローバーを前記磁気ヘッド素子単位に切り離すステップと、
    を含むことを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
12. 請求項１１記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、
    前記磁気ヘッドを形成するステップの前に、前記ウエハの上部に浮上制御用ヒータを形成するステップをさらに含み、
    前記研磨用ヒータの配線と前記浮上制御用ヒータの配線は共用電気接続端子に並列に接続され、前記浮上制御用ヒータの抵抗値は前記研磨用ヒータの抵抗値の合計よりも大きく設定されていることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
13. 請求項１２記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、
    前記ローバーの空気軸受面となる面を研磨するステップの後、前記研磨用ヒータの配線を切断することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
14. 請求項１２記載の磁気ヘッドスライダの製造方法において、
    前記研磨用ヒータの配線と前記共用電気接続端子との間にコンデンサを接続し、前記ローバーの空気軸受面となる面を研磨するステップにおいて前記共用電気接続端子に交流電流を供給することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。
15. 磁気ディスク媒体と、
    空気流入端面と空気軸受面と空気流出端面を有するスライダと、該スライダの空気流出端面に形成された磁気ヘッドと、該磁気ヘッドの近傍に設けられた研磨用ヒータとを有し、前記空気軸受面には空気流入端側と空気流出端側にレール面が形成され、前記磁気ヘッドは前記空気流出端側のレール面に位置し、前記研磨用ヒータに通電し、前記研磨用ヒータの通電により突出した前記空気軸受面の研磨加工を経ることにより前記磁気ヘッドが位置する部分が前記スライダの幅方向に凸形状の曲面を成している磁気ヘッドスライダと、
    を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
16. 請求項１５載の磁気ディスク装置において、
    前記磁気ヘッドスライダの研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側に設けられていることを特徴とする磁気ディスク装置。
17. 請求項１５記載の磁気ディスク装置において、
    前記磁気ヘッドスライダの研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側で、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドよりも空気流出側に設けられていることを特徴とする磁気ディスク装置。
18. 請求項１５記載の磁気ディスク装置において、
    前記磁気ヘッドスライダの研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側と、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドよりも空気流出側に設けられていることを特徴とする磁気ディスク装置。
19. 請求項１５記載の磁気ディスク装置において、
    前記磁気ヘッドスライダの研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側と、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドの前後に設けられていることを特徴とする磁気ディスク装置。
20. 請求項１５載の磁気ディスク装置において、
    前記磁気ヘッドスライダの研磨用ヒータは、前記スライダの幅方向に関して前記磁気ヘッドの両側を、前記スライダの長手方向に関して前記磁気ヘッドの空気流出側を囲むように設けられていることを特徴とする磁気ディスク装置。

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