JPH04134770A - 磁気ヘッドのコアスライダおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドのコアスライダおよびその製造方法Info
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- JPH04134770A JPH04134770A JP25608690A JP25608690A JPH04134770A JP H04134770 A JPH04134770 A JP H04134770A JP 25608690 A JP25608690 A JP 25608690A JP 25608690 A JP25608690 A JP 25608690A JP H04134770 A JPH04134770 A JP H04134770A
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
磁気記録媒体の回転によって発生すネ気流でコアスライ
ダを浮上させた状態で情報の記録／再生を行なう浮上ヘ
ッド式の磁気ディスク装置における磁気ヘッドのコアス
ライダおよびその製造方法に関し、 浮上面が凸曲面をしたコアスライダを均一にかつ安価に
製造でき、またスプリングアームのバネ圧の作用点を変
更したりする必要がなく、かつ記録／再生の効率にすぐ
れたコアスライダを実現することを目的とし、 浮上式の磁気ヘッドのコアスライダにおいて、浮上面が
平坦に加工された後のコアスライダの背面に対し、浮上
レールを横切る方向にレーザ光を走査することで、熱変
形によりコアスライダの浮上面を凸曲面としてなる構成
とする。
ダを浮上させた状態で情報の記録／再生を行なう浮上ヘ
ッド式の磁気ディスク装置における磁気ヘッドのコアス
ライダおよびその製造方法に関し、 浮上面が凸曲面をしたコアスライダを均一にかつ安価に
製造でき、またスプリングアームのバネ圧の作用点を変
更したりする必要がなく、かつ記録／再生の効率にすぐ
れたコアスライダを実現することを目的とし、 浮上式の磁気ヘッドのコアスライダにおいて、浮上面が
平坦に加工された後のコアスライダの背面に対し、浮上
レールを横切る方向にレーザ光を走査することで、熱変
形によりコアスライダの浮上面を凸曲面としてなる構成
とする。
〔産業上の利用分野］
情報処理システムにおける外部記憶装置として使用され
る磁気ディスク装置用の磁気ヘッドは、ジンバルと呼ば
れる薄い板バネで支持され、磁気ディスクが高速回転す
る際の気流で浮上するようになっている。本発明は、こ
のように磁気記録媒体の回転によって発生する気流でコ
アスライダを浮上させた状態で情報の記録／再生を行な
う浮上ヘッド式の磁気ディスク装置における磁気ヘッド
のコアスライダおよびその製造方法に関する。
る磁気ディスク装置用の磁気ヘッドは、ジンバルと呼ば
れる薄い板バネで支持され、磁気ディスクが高速回転す
る際の気流で浮上するようになっている。本発明は、こ
のように磁気記録媒体の回転によって発生する気流でコ
アスライダを浮上させた状態で情報の記録／再生を行な
う浮上ヘッド式の磁気ディスク装置における磁気ヘッド
のコアスライダおよびその製造方法に関する。
第７図は、磁気ヘッドによって情報の記録／再生を行な
っている状態を示す側面図である。Ｄは磁気ディスクで
あり、矢印ａ１方向に高速回転しているものとする。磁
気ヘッドＨは、コアスライダ１の後端に、電磁変換用の
コイル２を巻いたコア３が接着された構造になっている
。コアスライダ１は、ジンバル４を介してスプリングア
ーム５に取り付けられ、スプリングアーム５が駆動アー
ム６に取り付けられている。いま、キャリッジ７が往復
回転すると、コアスライダ１が紙面と垂直方向に移動さ
れ、シーク動作する。
っている状態を示す側面図である。Ｄは磁気ディスクで
あり、矢印ａ１方向に高速回転しているものとする。磁
気ヘッドＨは、コアスライダ１の後端に、電磁変換用の
コイル２を巻いたコア３が接着された構造になっている
。コアスライダ１は、ジンバル４を介してスプリングア
ーム５に取り付けられ、スプリングアーム５が駆動アー
ム６に取り付けられている。いま、キャリッジ７が往復
回転すると、コアスライダ１が紙面と垂直方向に移動さ
れ、シーク動作する。
磁気ディスクＤが高速回転すると、コアスライダ１と磁
気ディスク０間に発生する矢印ａ１方向の空気流で、コ
アスライダ１が１μｍ以下の微小隙間Ｇをおいて浮上し
、浮上状態で記録／再生ギャップ８によって、情報の記
録／再生が行なわれる。
気ディスク０間に発生する矢印ａ１方向の空気流で、コ
アスライダ１が１μｍ以下の微小隙間Ｇをおいて浮上し
、浮上状態で記録／再生ギャップ８によって、情報の記
録／再生が行なわれる。
このように、磁気ヘッドＨが、磁気ディスクＤの高速回
転時の気流で浮上し、磁気ディスクＤが停止すると、ス
プリングアーム５のハネ力で磁気ディスク面に圧接する
方式をＣ５５（Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔＳ ｔｏｐ
）方式と呼んでいる。一方、ＣＳＳ方式の磁気ディスク
媒体には、コアスライダ１が摺動する際の磨耗を防止す
るために、潤滑剤が塗布される。
転時の気流で浮上し、磁気ディスクＤが停止すると、ス
プリングアーム５のハネ力で磁気ディスク面に圧接する
方式をＣ５５（Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔＳ ｔｏｐ
）方式と呼んでいる。一方、ＣＳＳ方式の磁気ディスク
媒体には、コアスライダ１が摺動する際の磨耗を防止す
るために、潤滑剤が塗布される。
この潤滑剤によって、停止状態のコアスライダが磁気デ
ィスク面に粘着しているため、起動時には粘着力に抗し
てコアスライダｌが引き離されることになり、ジンバル
４か変形したり、コアスライダ１が磁気ディスク面から
引き離されたときの反動で磁気ディスク面に傷を付ける
などの恐れがある。また、通常複数枚の磁気ディスクの
各面に磁気ヘッドが配設されているため、起動時には同
時に多数の磁気ヘッドを磁気ディスク面から引き離す必
要があり、起動トルクの大きなモータを使用しなければ
ならない、という問題がある。
ィスク面に粘着しているため、起動時には粘着力に抗し
てコアスライダｌが引き離されることになり、ジンバル
４か変形したり、コアスライダ１が磁気ディスク面から
引き離されたときの反動で磁気ディスク面に傷を付ける
などの恐れがある。また、通常複数枚の磁気ディスクの
各面に磁気ヘッドが配設されているため、起動時には同
時に多数の磁気ヘッドを磁気ディスク面から引き離す必
要があり、起動トルクの大きなモータを使用しなければ
ならない、という問題がある。
そこで、コアスライダの粘着力を軽減するために、特開
昭５５−１０５８５７号公報、特開昭５６−６８９６１
号公報、特開昭５８−１２８０５１号公報などに記載の
ように、コアスライダの浮上面（磁気ディスクと対向す
る面）を平面とせず、凸曲面とすることで、磁気ディ−
スフ面との接触面積を小さ（することが試みられている
。
昭５５−１０５８５７号公報、特開昭５６−６８９６１
号公報、特開昭５８−１２８０５１号公報などに記載の
ように、コアスライダの浮上面（磁気ディスクと対向す
る面）を平面とせず、凸曲面とすることで、磁気ディ−
スフ面との接触面積を小さ（することが試みられている
。
［発明が解決しようとする課題］
このように浮上面を凸曲面に形成するには、研磨加工な
どが用いられるが、均一に仕上げることが困難であり、
またコスト高となる。凸曲面としたことにより、スプリ
ングアームのバネ圧やバネ圧の作用点を変更しなければ
ならない。さらに、記録／再生ギャップ部が磁気ディス
ク面から遠ざかり、記録／再生の効率が低下する、など
の新たな問題が生じた。
どが用いられるが、均一に仕上げることが困難であり、
またコスト高となる。凸曲面としたことにより、スプリ
ングアームのバネ圧やバネ圧の作用点を変更しなければ
ならない。さらに、記録／再生ギャップ部が磁気ディス
ク面から遠ざかり、記録／再生の効率が低下する、など
の新たな問題が生じた。
本発明の技術的課題は、このような問題に着目し、浮上
面が凸曲面をしたコアスライダを均一にかつ安価に製造
でき、またスプリングアームのバネ圧の作用点を変更し
たりする必要がな（、かつ記録／再生の効率にすぐれた
コアスライダを実現することにある。
面が凸曲面をしたコアスライダを均一にかつ安価に製造
でき、またスプリングアームのバネ圧の作用点を変更し
たりする必要がな（、かつ記録／再生の効率にすぐれた
コアスライダを実現することにある。
第１図は本発明による磁気ヘッドのコアスライダおよび
その製造方法の基本原理を説明する図で、（ａ）は平面
図、（ｂ）は側面図、（Ｃ）は底面図である。
その製造方法の基本原理を説明する図で、（ａ）は平面
図、（ｂ）は側面図、（Ｃ）は底面図である。
（１） 第１図において、９は本発明における浮上式
の磁気ヘッドのコアスライダであり、浮上面９Ｃが平坦
に加工された後のコアスライダ９の背面９ａに対し、浮
上レール９ｂを横切る方向（矢印ａ２方向）すなわち磁
気ディスクＤの半径方向にレーザ光ＬＢを走査すること
で、熱変形によりコアスライダ９の浮上面９Ｃが凸曲面
となっている。
の磁気ヘッドのコアスライダであり、浮上面９Ｃが平坦
に加工された後のコアスライダ９の背面９ａに対し、浮
上レール９ｂを横切る方向（矢印ａ２方向）すなわち磁
気ディスクＤの半径方向にレーザ光ＬＢを走査すること
で、熱変形によりコアスライダ９の浮上面９Ｃが凸曲面
となっている。
（２）前記の凸曲面は、高低差りを６０〜１１００ｎと
することが有効である。
することが有効である。
（３）前記のレーザ光走査による凸曲面の形成方法であ
って、浮上面９Ｃが平坦に加工された後のコアスライダ
９の背面に対し、浮上レール９ｂを横切る方向（矢印ａ
２方向）にレーザ光ＬＢを走査する。
って、浮上面９Ｃが平坦に加工された後のコアスライダ
９の背面に対し、浮上レール９ｂを横切る方向（矢印ａ
２方向）にレーザ光ＬＢを走査する。
走査回数は１回でも複数回でもよい。
〔作用］
（１） 従来のコアスライダにおける凸曲面は、研磨
加工などによって形成されるため、凸曲面の曲率が大き
く、気流による圧力の発生状況が、浮上面が平坦なコア
スライダとは異なる。そのため、特開昭５５−１０５８
５７号公報などに記載のように、スプリングアームによ
る加圧点をずらすとか、記録／再生ギヤツブ部が磁気デ
ィスク面から離れて記録／再生の効率が低下するなどの
新たな問題が生した。
加工などによって形成されるため、凸曲面の曲率が大き
く、気流による圧力の発生状況が、浮上面が平坦なコア
スライダとは異なる。そのため、特開昭５５−１０５８
５７号公報などに記載のように、スプリングアームによ
る加圧点をずらすとか、記録／再生ギヤツブ部が磁気デ
ィスク面から離れて記録／再生の効率が低下するなどの
新たな問題が生した。
これに対し、本発明は、浮上面９Ｃが平坦に加工された
後のコアスライダ９の背面９ａに対し、浮上レール９ｂ
を横切る方向にレーザ光ＬＢを走査することで、熱変形
によりコアスライダ９の浮上面９Ｃを凸曲面に形成して
いるため、凸曲面の曲率が極めて小さくなる。そのため
、気流による圧力の発生状況は従来の平坦形のコアスラ
イダと殆ど変わらず、スプリングアームによる加圧点を
変更する必要はない。また、浮上状態において、磁気デ
ィスク面に最も接近する部分は記録／再生ギャンプ部８
であり、記録／再生の効率が低下する恐れもない。
後のコアスライダ９の背面９ａに対し、浮上レール９ｂ
を横切る方向にレーザ光ＬＢを走査することで、熱変形
によりコアスライダ９の浮上面９Ｃを凸曲面に形成して
いるため、凸曲面の曲率が極めて小さくなる。そのため
、気流による圧力の発生状況は従来の平坦形のコアスラ
イダと殆ど変わらず、スプリングアームによる加圧点を
変更する必要はない。また、浮上状態において、磁気デ
ィスク面に最も接近する部分は記録／再生ギャンプ部８
であり、記録／再生の効率が低下する恐れもない。
凸曲面の曲率は小さいが、磁気ディスク面が高精度な平
坦面となっているため、摩擦係数は極めて小さく、粘着
防止の効果は充分である。
坦面となっているため、摩擦係数は極めて小さく、粘着
防止の効果は充分である。
（２）前記のレーザ光走査によって形成される凸曲面は
、高低差りが６０〜１１００ｎの場合が最も有効である
。高低差りが６０ｎ＋ａ以下では、殆ど平面となり、凸
曲面としての粘着防止効果が不十分で、潤滑剤によって
コアスライダが磁気ディスク面に粘着する。高低差りが
６０以上になると、厚擦係数は充分小さくなるが、１１
００ｎ以上となると曲率が大きすぎて、浮上したとき記
録／再生ギャップが磁気ディスク面から離れすぎ、記録
／再生の効率が低下する。また、高低差りを１１００ｎ
以上とするには、複数回にわたってレーザ光走査しなけ
ればならないため、コアスライダが割れてしまう恐れも
ある。
、高低差りが６０〜１１００ｎの場合が最も有効である
。高低差りが６０ｎ＋ａ以下では、殆ど平面となり、凸
曲面としての粘着防止効果が不十分で、潤滑剤によって
コアスライダが磁気ディスク面に粘着する。高低差りが
６０以上になると、厚擦係数は充分小さくなるが、１１
００ｎ以上となると曲率が大きすぎて、浮上したとき記
録／再生ギャップが磁気ディスク面から離れすぎ、記録
／再生の効率が低下する。また、高低差りを１１００ｎ
以上とするには、複数回にわたってレーザ光走査しなけ
ればならないため、コアスライダが割れてしまう恐れも
ある。
（３）第２図（ａ）に示すように、薄い金属板１０に片
側からレーザ光ＬＢを走査すると、レーザ光走査側に曲
がり、０））のように８曲げできることが、特開昭６３
−３０３２３７号公報などによって知られている。
側からレーザ光ＬＢを走査すると、レーザ光走査側に曲
がり、０））のように８曲げできることが、特開昭６３
−３０３２３７号公報などによって知られている。
すなわち、薄い金属板１０に、高エネルギーのレーザ光
ＬＢが短時間照射されたことで、金属ＦｉｌＯが急激に
温度上昇して熱膨張する。金属板ＩＯがあるでいと高温
になると、材料の蹄状応力が低下するので、加熱部分は
塑性変形し、（ａ）のように凸になる。
ＬＢが短時間照射されたことで、金属ＦｉｌＯが急激に
温度上昇して熱膨張する。金属板ＩＯがあるでいと高温
になると、材料の蹄状応力が低下するので、加熱部分は
塑性変形し、（ａ）のように凸になる。
ところが、レーザ光照射を止めると、材料は急激に冷却
されて、（ｂ）のように収縮する。このとき、熱影響部
に外部から熱応力がかかり、凹に塑性変形する。レーザ
光として、エネルギー量が０．０５ジユール／パルスの
パルスレーザラ用い、１１０ｎｏｎ。
されて、（ｂ）のように収縮する。このとき、熱影響部
に外部から熱応力がかかり、凹に塑性変形する。レーザ
光として、エネルギー量が０．０５ジユール／パルスの
パルスレーザラ用い、１１０ｎｏｎ。
＆す５０ｍｍ、 厚さ７８μｍのステンレス板に、幅３
開にわたったレーザ光を走査したところ、幅３ｍｍのレ
ーザ光走査部が８曲げされ、全体の曲げ角度が３０度と
なった。
開にわたったレーザ光を走査したところ、幅３ｍｍのレ
ーザ光走査部が８曲げされ、全体の曲げ角度が３０度と
なった。
このように薄板の場合は、レーザ光を複数回走査するこ
とで、走査領域が８曲げされることが確認されているが
、ブロック状をしたコアスライダの背面に浮上レール９
ｂを横切る方向にレーザ光走査すると、１回の走査でも
、コアスライダの粘着防止用として最適な高低差りが６
０〜１１００ｎの凸曲面を得ることができる。また、レ
ーザ光走査するだけで足りるので、凸曲面の形成が簡単
であり、しかも予め浮上面９ｃを平坦に加工した後にレ
ーザ光走査するので、均一な凸曲面となり、しかも高低
差りが設計どおりの凸曲面を得ることができ、再現性が
極めてすぐれている。
とで、走査領域が８曲げされることが確認されているが
、ブロック状をしたコアスライダの背面に浮上レール９
ｂを横切る方向にレーザ光走査すると、１回の走査でも
、コアスライダの粘着防止用として最適な高低差りが６
０〜１１００ｎの凸曲面を得ることができる。また、レ
ーザ光走査するだけで足りるので、凸曲面の形成が簡単
であり、しかも予め浮上面９ｃを平坦に加工した後にレ
ーザ光走査するので、均一な凸曲面となり、しかも高低
差りが設計どおりの凸曲面を得ることができ、再現性が
極めてすぐれている。
次に本発明による磁気ヘッドのコアスライダおよびその
製造方法が実際上どのように具体化されるかを実施例で
説明する。第３図、第４図はレーザの印加電圧と高低差
（Ｐ−Ｖ値： Ｐｅａｋ ｔｏ Ｖａｌｌｅｙ）ｈとの
関係を示す図で、第３図はレーザ光の走査回数が１回の
場合、第４図は２回の場合である。
製造方法が実際上どのように具体化されるかを実施例で
説明する。第３図、第４図はレーザの印加電圧と高低差
（Ｐ−Ｖ値： Ｐｅａｋ ｔｏ Ｖａｌｌｅｙ）ｈとの
関係を示す図で、第３図はレーザ光の走査回数が１回の
場合、第４図は２回の場合である。
その他のレーザ光走査条件は、パルス幅二〇、 ２ ｌ
ｌｌ５、レーザビーム径： ６．Ｏａｍ、レンズ焦点距
！１１１ ： ５０ａ＋ｍ、レーザ繰り返し数： ４０
ｐｐｓ 、走査速度１０ａｕａ／ ｓ 。
ｌｌ５、レーザビーム径： ６．Ｏａｍ、レンズ焦点距
！１１１ ： ５０ａ＋ｍ、レーザ繰り返し数： ４０
ｐｐｓ 、走査速度１０ａｕａ／ ｓ 。
焦点すらし量：２１１１１．であった。なお、コアスラ
イダとしては、寸法が４．ＩＸ ３．２Ｘ１．６ ｎ＋
ｍのフェライト製のものを使用し、ＷＡＧ レーザで走
査した。
イダとしては、寸法が４．ＩＸ ３．２Ｘ１．６ ｎ＋
ｍのフェライト製のものを使用し、ＷＡＧ レーザで走
査した。
このように浮上レールの長手方向の長さが４．１ｎ＋ｍ
のコアスライダにおいて、浮上レールの高低差が６０〜
１００ｎＩｌｌの場合、浮上レールの曲率半径は１６．
８１１０１程度となる。
のコアスライダにおいて、浮上レールの高低差が６０〜
１００ｎＩｌｌの場合、浮上レールの曲率半径は１６．
８１１０１程度となる。
第３図から明らかなように、レーザ光走査回数が１回の
場合は、高低差りが６０〜１１００ｎの凸曲面を形成す
るのに、５００〜５７０ｖ程度の印加電圧が必要であっ
た。これに対し２回走査の場合は、４７０〜５２０ｖ程
度で高低差りが６０＝１００ｎａ＋の凸曲面を形成でき
た。なお、この実施例は、同じ個所を２回走査した例で
あるが、間隔をおいて２か所、あるいは３か所走査して
もよい。
場合は、高低差りが６０〜１１００ｎの凸曲面を形成す
るのに、５００〜５７０ｖ程度の印加電圧が必要であっ
た。これに対し２回走査の場合は、４７０〜５２０ｖ程
度で高低差りが６０＝１００ｎａ＋の凸曲面を形成でき
た。なお、この実施例は、同じ個所を２回走査した例で
あるが、間隔をおいて２か所、あるいは３か所走査して
もよい。
第５図は高低差りと静摩擦係数との関係を示す特性図、
第６図は高低差りと動摩擦係数との関係を示す特性図で
ある。第５図の（ａ）はコアスライダを磁気ディスク面
に静置した状態において、最初の１回転を始めるときの
静摩擦係数であり、高低差りが大きくなるほど、静摩擦
係数が減少している。これに対し、（ｂ）は磁気ディス
クが１回転した後の静摩擦係数であり、この場合は、高
低差りが４０〜８０ｎｓの範囲において、静摩擦係数が
急激に減少し、８０ｎｍ以上になると、横ばいになって
いる。
第６図は高低差りと動摩擦係数との関係を示す特性図で
ある。第５図の（ａ）はコアスライダを磁気ディスク面
に静置した状態において、最初の１回転を始めるときの
静摩擦係数であり、高低差りが大きくなるほど、静摩擦
係数が減少している。これに対し、（ｂ）は磁気ディス
クが１回転した後の静摩擦係数であり、この場合は、高
低差りが４０〜８０ｎｓの範囲において、静摩擦係数が
急激に減少し、８０ｎｍ以上になると、横ばいになって
いる。
したがって、静摩擦係数に間しては、高低差りは６０以
上が望ましく、１１０ｎｓ程度も有れば充分である。
上が望ましく、１１０ｎｓ程度も有れば充分である。
第６図（ａ）は磁気ディスクを１００回転／分で回転し
ている状態における動摩擦係数であり、第５図（ａ）の
静摩擦係数の場合と同様に、高低差りが大きくなるほど
、動摩擦係数が減少している。第６図のら）は高低差り
と動摩擦係数の変化率Δμとの関係であり、高低差りが
６０〜９０ｎｍ付近において急激に減少し、１００ｎｓ
以上で横ばいになっている。
ている状態における動摩擦係数であり、第５図（ａ）の
静摩擦係数の場合と同様に、高低差りが大きくなるほど
、動摩擦係数が減少している。第６図のら）は高低差り
と動摩擦係数の変化率Δμとの関係であり、高低差りが
６０〜９０ｎｍ付近において急激に減少し、１００ｎｓ
以上で横ばいになっている。
以上のように、高低差りが６０ｎｍ付近から摩擦係数低
下の効果が顕著になっており、また第３図から明らかな
ように、高低差りが６０〜ｌｏｏｎｍ程度の凸曲面であ
れば、１回のレーザ光走査でも充分である。
下の効果が顕著になっており、また第３図から明らかな
ように、高低差りが６０〜ｌｏｏｎｍ程度の凸曲面であ
れば、１回のレーザ光走査でも充分である。
以上は、フェライト製のモノリシックのコアスライダの
例であるが、本発明は、薄膜型磁気ヘッドのＡｌＴｉＣ
製コアスライダにも適用できることは言うまでもない。
例であるが、本発明は、薄膜型磁気ヘッドのＡｌＴｉＣ
製コアスライダにも適用できることは言うまでもない。
以上のように本発明によれば、浮上面を平坦に仕上げた
後に、前面にレーザ光を走査するのみでコアスライダの
浮上面を凸曲面に形成でき、加工が容易でかつ均一に形
成でき、再現性にも冨んでいる。また、凸曲面の高低差
りが６６０−１Ｏ０ｎと、曲率が小さいため、気流によ
る圧力発生は浮上面が平坦なコアスライダと大差なく、
スプリングアームのバネ圧作用点を移動したりする必要
はなく、また記録／再生ギャップが磁気ディスク面から
遠ざかることもなく、記録／再生効率が低下するような
ことはない。
後に、前面にレーザ光を走査するのみでコアスライダの
浮上面を凸曲面に形成でき、加工が容易でかつ均一に形
成でき、再現性にも冨んでいる。また、凸曲面の高低差
りが６６０−１Ｏ０ｎと、曲率が小さいため、気流によ
る圧力発生は浮上面が平坦なコアスライダと大差なく、
スプリングアームのバネ圧作用点を移動したりする必要
はなく、また記録／再生ギャップが磁気ディスク面から
遠ざかることもなく、記録／再生効率が低下するような
ことはない。
第１図は本発明による磁気ヘッドのコアスライダおよび
その製造方法の基本原理を説明する図、第２図はレーザ
光による曲げ加工の原理を説明する側面図、 第３図、第４図はレーザの印加電圧と高低差との関係を
示す図で、第３図はレーザ光の走査回数が１回の場合、
第４図は２回の場合である。 第５図は高低差と静摩擦係数との関係を示す特性図で、
（ａ）は磁気ディスクが最初の１回転を始めるときの静
摩擦係数、（ｂ）は磁気ディスクが１回転した後の静摩
擦係数である。 第６図（ａ）は高低差と磁気ディスクが１００回転／分
で回転している状態における動摩擦係数との関係、［有
］）は高低差と動摩擦係数の変化率Δμとの関係である
。 第７図はＣＳＳ弐の磁気ディスク装置の側面図である。 図において、Ｄは磁気ディスク、Ｈは磁気ヘッド、１は
コアスライダ、４はジンバル、５はスプリングアーム、
８は記録／再生用ギャンプ、９は本発明によるコアスラ
イダ、９ａはコアスライダの背面、９ｂは浮上レール、
９ｃは浮上面、ｈは高低差、ＬＢはレーザ光をそれぞれ
示す。 特許出願人 富士通株式会社 復代理人 弁理士 福 島 康 文 （む し−で順１巾埼 （ｂ
）し−ザ麻嚢ゴ４等、よ、αら（加梠時）
（冷却時）し−ず光１；よる曲げ加工（７１
免理 糖２０ レー・す゛心ｐ刀０嘔コ王 し−゛リパω兵ｐ刀口Ｃ１玉乙 Ｉｔもり咥こ■ル門イ
丞第４図 （ｄ ） ＰＶＩｉＶ、Ｓ ＪＴＪＭＩｒｐｒｎ−ｐ
ｐｖ４ｚ Ｖ４Ｌ １＞Ａｅ５−デ’ｔｈｔｔｌＪＫ＊ｔ！Ｌ＠（）＋ｆ４
＋第６０
その製造方法の基本原理を説明する図、第２図はレーザ
光による曲げ加工の原理を説明する側面図、 第３図、第４図はレーザの印加電圧と高低差との関係を
示す図で、第３図はレーザ光の走査回数が１回の場合、
第４図は２回の場合である。 第５図は高低差と静摩擦係数との関係を示す特性図で、
（ａ）は磁気ディスクが最初の１回転を始めるときの静
摩擦係数、（ｂ）は磁気ディスクが１回転した後の静摩
擦係数である。 第６図（ａ）は高低差と磁気ディスクが１００回転／分
で回転している状態における動摩擦係数との関係、［有
］）は高低差と動摩擦係数の変化率Δμとの関係である
。 第７図はＣＳＳ弐の磁気ディスク装置の側面図である。 図において、Ｄは磁気ディスク、Ｈは磁気ヘッド、１は
コアスライダ、４はジンバル、５はスプリングアーム、
８は記録／再生用ギャンプ、９は本発明によるコアスラ
イダ、９ａはコアスライダの背面、９ｂは浮上レール、
９ｃは浮上面、ｈは高低差、ＬＢはレーザ光をそれぞれ
示す。 特許出願人 富士通株式会社 復代理人 弁理士 福 島 康 文 （む し−で順１巾埼 （ｂ
）し−ザ麻嚢ゴ４等、よ、αら（加梠時）
（冷却時）し−ず光１；よる曲げ加工（７１
免理 糖２０ レー・す゛心ｐ刀０嘔コ王 し−゛リパω兵ｐ刀口Ｃ１玉乙 Ｉｔもり咥こ■ル門イ
丞第４図 （ｄ ） ＰＶＩｉＶ、Ｓ ＪＴＪＭＩｒｐｒｎ−ｐ
ｐｖ４ｚ Ｖ４Ｌ １＞Ａｅ５−デ’ｔｈｔｔｌＪＫ＊ｔ！Ｌ＠（）＋ｆ４
＋第６０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、浮上式の磁気ヘッドのコアスライダにおいて、 浮上面（９ｃ）が平坦に加工された後のコアスライダ（
９）の背面（９ａ）に対し、浮上レール（９ｂ）を横切
る方向にレーザ光（ＬＢ）を走査することで、熱変形に
よりコアスライダ（９）の浮上面（９ｃ）を凸曲面とし
てなることを特徴とする磁気ヘッドのコアスライダ。 ２、浮上式の磁気ヘッドのコアスライダにおいて、 浮上面（９ｃ）が平坦に加工された後のコアスライダ（
９）の背面（９ａ）に対し、浮上レール（９ｂ）を横切
る方向にレーザ光（ＬＢ）を走査することで、熱変形に
よりコアスライダ（９）の浮上面（９ｃ）を高低差が６
０〜１００ｎｍの凸曲面としてなることを特徴とする磁
気ヘッドのコアスライダ。 ３、浮上式磁気ヘッドのコアスライダの浮上面を凸曲面
に加工する方法であって、 浮上面（９ｃ）が平坦に加工された後のコアスライダ（
９）の背面（９ａ）に対し、浮上レール（９ｂ）を横切
る方向にレーザ光（ＬＢ）を走査することを特徴とする
磁気ヘッドのコアスライダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25608690A JPH04134770A (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 磁気ヘッドのコアスライダおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25608690A JPH04134770A (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 磁気ヘッドのコアスライダおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04134770A true JPH04134770A (ja) | 1992-05-08 |
Family
ID=17287701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25608690A Pending JPH04134770A (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 磁気ヘッドのコアスライダおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04134770A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5825591A (en) * | 1993-07-23 | 1998-10-20 | Hitachi, Ltd. | Frictionally sliding head magnet disk apparatus |
| WO2000060582A1 (fr) * | 1999-04-02 | 2000-10-12 | Fujitsu Limited | Procede de correction de la forme superficielle d'un coulisseau de tete magnetique, et coulisseau de tete magnetique |
| JP2007188570A (ja) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法、磁気ディスク装置 |
| US7738216B2 (en) | 2005-07-26 | 2010-06-15 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having a thermal plastic deformation portion and manufacturing the same |
-
1990
- 1990-09-26 JP JP25608690A patent/JPH04134770A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5825591A (en) * | 1993-07-23 | 1998-10-20 | Hitachi, Ltd. | Frictionally sliding head magnet disk apparatus |
| WO2000060582A1 (fr) * | 1999-04-02 | 2000-10-12 | Fujitsu Limited | Procede de correction de la forme superficielle d'un coulisseau de tete magnetique, et coulisseau de tete magnetique |
| US6552302B2 (en) | 1999-04-02 | 2003-04-22 | Fujitsu Limited | Method for correcting surface shape of magnetic head slider and magnetic head slider |
| US7738216B2 (en) | 2005-07-26 | 2010-06-15 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having a thermal plastic deformation portion and manufacturing the same |
| JP2007188570A (ja) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法、磁気ディスク装置 |
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