JP4780789B2 - 処理液供給装置 - Google Patents

Description

この発明は、例えばレチクル，半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等に処理液を供給して処理を施す処理液供給装置に関するものである。

一般に、例えば、半導体デバイスやレチクル等の基板の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理，基板上のレジスト膜に対し所定のパターンの露光を行う露光処理，露光処理後の基板上に現像液を供給して基板上のレジスト膜を現像する現像処理等が行われている。

また、この種の基板処理装置において、例えば現像処理後に洗浄処理を施す洗浄ノズルが具備されており、保持手段にて保持された基板に洗浄ノズルから洗浄用の処理液を供給（吐出）して、洗浄処理を行っている。一般に、洗浄ノズルは、チューブ状のストレートノズルが使用されており、このストレートノズルから直接基板に（供給）吐出している。

ところで、例えばレチクル等の基板の現像処理後の洗浄においては、洗浄能力を向上させるために、通常のウエハ洗浄の場合に比べて約３倍の大流量（例えば、３Ｌ／ｍｉｎ以上）の供給（吐出）が必要である。しかし、従来のストレートノズルを用いると流速が早くなるため、基板に対する衝撃が大きくなり基板にダメージを与えてしまう。そのために、口径を大きくしたノズルを使用するのであるが、口径が大きくなると、液の供給を停止したとき、液の重量にノズルの液保持力が負けてしまい、液ダレやボタ落ちを起こすという問題がある。

ボタ落ちを防止する手段として、エアシリンダとハンマとからなる衝撃付与手段によりノズルに衝撃を与えて、ノズルに付着した液を落下させる構造が知られている（例えば、特許文献１参照）。

また、別のボタ落ちを防止する手段として、ノズルの先端部に、処理液の通過領域の大きさを変化させる可変手段を設けた構造が知られている（例えば、特許文献２参照）。
特開平１１−１８６１４１号公報（特許請求の範囲、図３） 特開平１１−３３４３９号公報（特許請求の範囲、図２）

しかしながら、前者すなわち特許文献１に記載のものは、エアシリンダとハンマとからなる衝撃付与手段を設ける必要があるため、構造が複雑になり、また、ノズルに付着した液を衝撃によって落下させるため、処理中には使用できない。

また、後者すなわち特許文献２に記載のものは、処理液の流量が少ないとき、処理液の通過領域を小さくすることによって処理液の吐出流速を高めることができるので、ボタ落ちを防止することができるが、吐出流速を高めることで基板にダメージを与えるおそれがある。

また、特許文献１及び特許文献２に記載のものは、いずれも大流量の液を供給（吐出）することによって流速が早くなり、基板に衝撃やダメージを与えることに関する対応については言及されていない。

この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、基板に対して衝撃やダメージを与えることなく、大流量の処理液を供給（吐出）することができ、かつ、処理液の供給（吐出）停止時には、ノズルからの液ダレやボタ落ちを防止できるようにした処理液供給装置を提供することを課題とする。

上記目的を達成するため、請求項１記載の発明は、保持手段にて保持される被処理基板に処理液を供給する処理液供給装置であって、 処理液供給源に接続される供給管路の先端部に装着され、供給管路に連通する流通路を有するノズルと、 上記ノズルの流通路内に設けられ、上記供給管路から導かれる処理液の流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有する液保持部材と、上記ノズルにおける上記液保持部材より先端側部位に、処理液の通過領域の大きさに応じて開口面積が可変可能な補助液保持部材と、を具備し、 上記補助液保持部材は、先端に向かって狭小テーパ状に形成され、かつ、周方向に適宜間隔をおいて複数のスリットを有する弾性部材にて形成される、ことを特徴とする。

このように構成することにより、ノズルの流通路内に設けられた液保持部材は、供給管路から導かれる処理液の流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有するので、処理液が大流量供給される場合は、処理液は均一に液保持部材に接触して流速が減速される。また、処理液の供給停止時には、液保持部材によって少量の処理液を保持することができる。

請求項２の発明は、請求項１記載の処理液供給装置において、 上記ノズルを、上記供給管路に固着される円筒部材にて形成し、 上記液保持部材を、上記円筒部材内に着脱可能に挿入し、シール部材を介して円筒部材に螺合される筒状キャップ部材にて固定してなる、ことを特徴とする。

このように構成することにより、液保持部材をノズル内に着脱可能に取り付けることができる。

なお、この発明において、上記液保持部材は、供給管路から導かれる処理液の流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有するものであれば、その形態は任意でよく、例えば、メッシュ部材，格子部材，多孔質部材，ハニカム部材、あるいは、同心円上に複数の筒部を有する同心円筒部材等にて形成することができる。

また、請求項１記載のように構成することにより、処理液の供給停止時に、液保持部材を通過してノズル先端側に流れる少量の処理液を、補助液保持部材によって保持することができる。また、処理液が大流量供給されると、処理液の通過領域の大きさに応じて補助液保持部材の開口面積が可変して所定量の処理液を流すことができる。

この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような優れた効果を奏する。

（１）請求項１記載の発明によれば、処理液が大流量供給される場合は、処理液は均一に液保持部材に接触して流速が減速されるので、被処理基板に対する衝撃やダメージを抑制することができる。また、処理液の供給停止時には、液保持部材によって少量の処理液を保持することができるので、液ダレやボタ落ちを防止することができる。

（２）請求項２記載の発明によれば、液保持部材をノズル内に着脱可能に取り付けることができるので、上記（１）に加えて、更に液保持部材の交換を容易にすることができると共に、液保持部材の液保持機能を最適な状態に維持することができる。

（３）請求項１記載の発明によれば、処理液の供給停止時に、液保持部材を通過してノズル先端側に流れる少量の処理液を、補助液保持部材によって保持することができるので、上記（１）に加えて、更に液ダレやボタ落ちを確実に防止することができる。

以下、この発明の最良の形態について、添付図示に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る処理液供給装置を、フォトマスク用の被処理基板、例えばレチクル用のガラス基板に現像処理を施す現像処理装置に適用した場合について説明する。

図１は、上記現像処理装置を示す概略断面図であり、図２は、上記現像処理装置の概略平面図である。

上記現像処理装置は、ケーシング１を有し、このケーシング１内の中央部には、基板Ｇを回転させるための回転基台２が設けられている。回転基台２は、例えば円盤形状を有している。回転基台２は、例えばこの回転基台２の下方に設けられたモータ等の回転駆動部３に連結し、回転基台２の中心軸を回転軸として所定の回転速度で回転できるように構成されている。

回転基台２上には、方形の基板Ｇの外周部を支持して保持するための基板保持部材４が取り付けられている。基板保持部材４に保持される基板の外方には、基板Ｇの外周部を囲むように外周板としての助走ステージ５が設けられている。

助走ステージ５は、図２に示すように平面から見て円形の薄い板形状を有し、中央部に基板Ｇを収容する四角の開口部５ａが形成されている。このように助走ステージ５の外形を円形状に形成することにより、助走ステージ５を回転させた際に、助走ステージ５の外周部付近において乱流が形成されることを防止している。また、助走ステージ５は、図１に示すように例えば円柱状の固定部材６によって回転基台２に固定されている。助走ステージ５は、基板Ｇの表面と同一平面上、若しくは、僅かに高い位置例えば２００〜４００μｍ高い位置に固定されている。これにより、基板Ｇの表面から助走ステージ３の表面に渡る同一平面上に連続した液膜を形成することができる。助走ステージ５の開口部５ａは，基板Ｇよりも僅かに大きく形成されており、基板保持部材４に保持された基板Ｇと助走ステージ５との間には、基板Ｇの受け渡しのための隙間Ｃが形成されている。図２に示すように、隙間Ｃには、基板Ｇの外側面に当接し基板Ｇを位置決めするための複数の位置決めピン７が設けられている。位置決めピン７は、例えば基板Ｇの各角にそれぞれ２つずつ計８つ配置されている。

図１に示すように回転基台２と基板保持部材４の基板Ｇの外周部に対応する位置には、垂直方向に貫通する貫通孔８が形成されている。貫通孔８内には、基板Ｇを支持して昇降させる昇降ピン９が設けられている。昇降ピン９は、例えばシリンダ等の昇降駆動部１０によって昇降自在であり、回転基台２上に突出して基板保持部材４に対する基板Ｇの受け渡しを行うように構成されている。また、回転基台２の上面中央部には、上方に向けてリンス液を吐出し基板Ｇの裏面を洗浄するリンス液供給部としての裏面洗浄ノズル１５が設けられている。

回転基台２は、基板Ｇから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するためのカップ１６内に収容されている。カップ１６は、回転基台２の側方と下方を覆うように、例えば下面が閉鎖され上面が開口した四角形の略筒状に形成されている。カップ１６の下面には、例えば工場の排液部に連通した排出管１７が接続されており、カップ１６において回収した液体を現像処理装置１の外部に排出できる。

図２に示すように、カップ１６のＹ方向負方向（図２の左方向）側には、第１の待機部１８が設けられている。第１の待機部１８には、現像液及びリンス液（リンス液）の供給と吸引を行う現像ノズルヘッド２０（以下にノズルヘッド２０という）が設けられている。ノズルヘッド２０は、例えば少なくとも基板Ｇの対向辺の寸法と同じかそれよりも長い、Ｘ方向に沿った略正方対形状を有している。ノズルヘッド２０は、門型のヘッドアーム２１に支持されている。ノズルヘッド２０は、ヘッドアーム２１が取り付けられた例えばボールねじとその回転モータ等からなる水平移動機構２２によって、第１の待機部１８から少なくともカップ１６のＹ方向正方向（図２の右方向）側の端部付近まで水平移動できる。また，ノズルヘッド２０は、例えばヘッドアーム２１に取り付けられたシリンダなどの昇降機構（図示せず）によって上下方向にも移動できる。

また、上記回転基台２，助走ステージ５及び基板保持台４は、カップ１６内に収容可能に形成されており、カップ１６の外方側の第１の待機部１８と対向する第２の待機部１９には、回転基台２に保持された基板Ｇに向かって処理液であるリンス液（リンス液）例えば純水を供給するこの発明に係る処理液供給装置３０が配設されている。この処理液供給装置３０は、例えば回転駆動軸３１に取り付けられたノズルアーム３２の先端部に後述するリンス用のノズル３３を具備している。

上記のように構成される現像処理装置において、装置外部の搬送アーム（図示せず）によって現像処理装置内に基板Ｇが搬入されると、基板Ｇは、予め上昇していた昇降ピン９に受け渡され、昇降ピン９の下降によって基板保持部材４上に載置される。このとき、基板Ｇの載置位置と基板保持部材４及び助走ステージ５との間には、十分な隙間Ｃが設けられているため、基板保持部材４に対する基板Ｇの受け渡しが適切に行われる。基板Ｇが基板保持部材４上に載置されると、吸引口（図示せず）からの吸引により基板Ｇが水平状態に吸着保持される。

続いて第１の待機部１８で待機していたノズルヘッド２０がＹ方向正方向側に移動し、基板ＧよりＹ方向負方向側の助走ステージ５上まで移動して、ノズルヘッド２０に設けられた図示しないリンス液吐出口，現像液吐出口及び現像液吸引口のある下面が助走ステージ５上に配置される。そして、ノズルヘッド２０が下降し、スタート位置である助走ステージ５の表面に近接される。次にノズルヘッド２０のリンス液吐出口からリンス液の吐出した状態でＹ方向正方向に移動して、例えば助走ステージ５の表面上から基板Ｇの表面上に渡ってリンス液の液膜を形成される。このようにして、基板Ｇの表面の濡れ性を向上するプリウェット処理が行われる。続いて、ノズルヘッド２０が再び助走ステージ５のＹ方向負方向側のスタート位置まで戻される。ノズルヘッド２０の下面がリンス液の液膜に接触した状態で、今度はリンス液吐出口からリンス液，現像吐出口から現像液を吐出し、現像液吸引口からそのリンス液と現像液を吸引しながらＹ方向正方向側に移動して、基板Ｇの表面の一部の領域に帯状の現像液の流れが形成される。この現像液の流れによって基板Ｇの表面が現像される。現像によって生じた溶解生成物は直ちに現像液吸引口から排出される。

ノズルヘッド２０が助走ステージ５のＹ方向正方向側の端部付近まで移動すると、現像液及びリンス液の供給とその吸引が停止され、ノズルヘッド２０は、第１の待機部１８に戻される。続いて、第２の待機部１９で待機していたこの発明に係る処理液供給装置のリンス用のノズル３３が基板Ｇの中心部上方まで移動し、回転基台２によって基板Ｇが回転される。ノズル３３から回転された基板Ｇ上にリンス液例えば純水ＤＷが吐出され、基板Ｇが洗浄される。このとき、例えば裏面洗浄ノズル１５からもリンス液である純水ＤＷを吐出し、基板Ｇの裏面に純水ＤＷを供給してもよい。

基板Ｇが所定時間洗浄された後、基板Ｇが高速回転され、基板Ｇが乾燥される。基板Ｇが乾燥されると、基板Ｇの吸着が解除され、再び昇降ピン９によって持ち上げられ、図示しない搬送アームによって基板処理装置の外部に搬出される。

以下に、この発明に係る処理液供給装置３０の装置構成について詳細に説明する。

＜第一実施形態＞
図３は、この発明に係る処理液供給装置の第１実施形態を示す断面図、図４は、第１実施形態における液保持部材の取付状態を示す分解斜視図である。

処理液供給装置３０は、例えば回転駆動軸３１に取り付けられたノズルアーム３２の先端部に取り付けられると共に、処理液供給源であるリンス液供給源３４に接続される例えばフッ素樹脂製チューブからなる供給管路３５の先端部に装着されるリンス用のノズル３３と、このノズル３３の流通路３６内に設けられ、供給管路３５から導かれるリンス液例えば純水ＤＷの流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有する液保持部材４０とを具備している。

供給管路３５には開閉弁Ｖが介設されており、供給管路３５の先端部にノズル３３が装着されている。このノズル３３は、供給管路３５に例えば溶接によって固着され、供給管路３５に連通する流通路３６を有する円筒部材３７にて形成されている。この場合、円筒部材３７は、図３及び図４に示すように、中間部の内周面に、供給管路３５の内径と同じ口径の環状突部３７ａを有しており、円筒部材３７内に挿入される供給管路３５の先端が環状突部３７ａに当接した状態で、円筒部材３７の一端開口部と供給管路３５とが溶接によって固着されている。また、円筒部材３７の先端側外周面には、雄ねじ部３７ｂが設けられている。

一方、液保持部材４０は、図３及び図４に示すように、供給管路３５の内径と同じ口径を有する筒状基部４１の開口面にメッシュ体４２を張設した複数例えば３個の開口率が異なるメッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃにて形成されている。この場合、メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃの順に開口率が小さくなるように形成されている。これらメッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃは、開口率が大きい順からノズル３３の円筒部材３７内に着脱可能に挿入され、シール部材例えばＯリング３８を介して円筒部材３７の先端側外周面に設けられた雄ねじ部３７ｂに螺合される略筒状のキャップ部材３９にて固定される。なお、キャップ部材３９には、供給管路３５の内径と同じ口径の開口部３９ａが設けられている。また、キャップ部材３９には、円筒部材３７に設けられた雄ねじ部３７ｂに螺合する雌ねじ部３９ｂが設けられている。

上記のように構成することにより、液保持部材４０を構成するメッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃは、供給管路３５から導かれる純水ＤＷの流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有するので、純水ＤＷが大流量供給される場合は、純水ＤＷは均一にメッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃに接触して流速が減速される。これにより、純水ＤＷは衝撃力が抑制されたつまりソフトな状態で基板Ｇに供給（吐出）される。また、純水ＤＷの供給（吐出）開始時又は供給（吐出）停止時には、メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃによって少量の純水ＤＷを保持することができる。しかも、メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃは、ノズル３３の先端側に向かって順次開口率が小さくなるように形成されているので、ノズル先端側で少量となる純水ＤＷを先端側の小開口率のメッシュ部材４０ｃによって保持することができるので、純水ＤＷの液ダレやボタ落ちを確実に防止することができる。なお、上記説明では、液保持部材４０は、メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃの順に開口率が小さくなるように形成される場合について説明したが、逆にしてもよい。すなわち、メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃの開口率を先端側に向かって順次を大きくなるように形成してもよい。

また、メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃは、ノズル３３の流通路３６内に着脱可能に取り付けられるので、液保持部材４０（メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃ）の交換を容易にすることができると共に、液保持部材４０（メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃ）の液保持機能を最適な状態に維持することができる。

上記説明では、液保持部材４０が３個のメッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃにて形成される場合について説明したが、開口率が異なれば２個あるいは４個以上の複数のメッシュ部材にて液保持部材４０を形成してもよい。

また、液保持部材の別の形態として、例えば図５に示すように、純水ＤＷとの接触面積をもたせるべく純水ＤＷの流れ方向に沿って長く形成される断面が格子状部材４０Ａによって液保持部材を形成してもよい。また、格子状部材４０Ａに代えて、図６（ａ）に示すような断面が多孔質状部材４０Ｂや、図６（ｂ）に示すような断面がハニカム状部材４０Ｃ、あるいは、図６（ｃ）に示すような断面が同心円上に位置する複数の複数の筒部を有する同心円筒部材４０Ｄによって液保持部材４０を形成してもよい。なお、同心円筒部材４０Ｄによって液保持部材４０を形成する場合は、図６（ｃ）に示すように、隣接する筒部同士を例えば棒状の連結部材４３によって連結する。

なお、上記説明では、格子状部材４０Ａ，多孔質状部材４０Ｂ，ハニカム状部材４０Ｃ及び同心円筒部材４０Ｄは、純水ＤＷの流れ方向に沿って長く形成される場合について説明したが、メッシュ部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃと同様に、格子状部材４０Ａ，多孔質状部材４０Ｂ，ハニカム状部材４０Ｃ，同心円筒部材４０Ｄを複数の板状に形成し、各部材を異なる開口率にしてもよい。

上記のように液保持部材を、格子状部材４０Ａ，多孔質状部材４０Ｂ，ハニカム状部材４０Ｃあるいは同心円筒部材４０Ｄにて形成する場合においても、供給管路３５から導かれる純水ＤＷの流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有するので、純水ＤＷが大流量供給される場合は、純水ＤＷは均一に格子状部材４０Ａ，多孔質状部材４０Ｂ，ハニカム状部材４０Ｃ，同心円筒部材４０Ｄに接触して流速が減速され、純水ＤＷは衝撃力が抑制されたつまりソフトな状態で基板Ｇに供給（吐出）される。また、純水ＤＷの供給（吐出）開始時又は供給（吐出）停止時には、格子状部材４０Ａ，多孔質状部材４０Ｂ，ハニカム状部材４０Ｃ，同心円筒部材４０Ｄによって少量の純水ＤＷを保持することができる。

＜第２実施形態＞
図７は、この発明の第２実施形態に係る処理液供給装置３０Ａを示す概略断面図である。

第２実施形態は、ノズル３３に、液保持部材例えばメッシュ部材４０ａを設けると共に、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側部位の側部、具体的には上記キャップ部材３９の側部に流通路３６と外部とを連通する連通路５０を設け、この連通路５０に吸引管路５１を介して吸引手段５２を接続した場合である。この場合、吸引手段５２の駆動及び停止と、供給管路３５に介設される開閉弁Ｖの開閉とを選択的に駆動する制御手段であるコントローラ６０が設けられている。このコントローラ６０からの制御信号に基づいて開閉弁Ｖの開放時に吸引手段５２を停止し、開閉弁Ｖの閉鎖時に吸引手段５２が駆動されるように形成されている。

なお、第２実施形態において、その他の部分は第１実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

第２実施形態の処理液供給装置３０Ａによれば、リンス処理を行った後、コントローラ６０からの制御信号に基づいて開閉弁Ｖが閉鎖して、純水ＤＷの供給が停止すると、開閉弁Ｖの閉鎖と同時に吸引手段５２が駆動して、図８（ａ）に示すように、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側に付着する純水ＤＷを連通路５０及び吸引管路５１を介して外部に排出することができる。したがって、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側に付着する純水ＤＷは除去され、ノズル３３内の残りの純水ＤＷはメッシュ部材４０ａの液保持力によって保持され、液ダレやボタ落ちを防止することができる（図８（ｂ）参照）。

＜第３実施形態＞
図９は、この発明の第３実施形態に係る処理液供給装置３０Ｂの純水供給時の状態を示す概略断面図、図１０は、上記処理液供給装置３０Ｂの純水停止時の状態を示す概略断面図である。

第３実施形態は、ノズル３３に、液保持部材例えばメッシュ部材４０ａを設けると共に、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側部位の側部、具体的には上記キャップ部材３９の側部に、例えば合成ゴム製の伸縮自在な中空環状部材７０を設け、この中空環状部材７０の中空部７０ａ内に流体例えば空気を供給する流体供給手段例えばコンプレッサ７１を接続した場合である。この場合、コンプレッサ７１の駆動及び停止と、供給管路３５に介設される開閉弁Ｖの開閉とを選択的に駆動する制御手段であるコントローラ６０Ａが設けられている。このコントローラ６０Ａからの制御信号に基づいて開閉弁Ｖの開放時にコンプレッサ７１を停止し、開閉弁Ｖの閉鎖時にコンプレッサ７１が駆動されるように形成されている。

なお、第３実施形態において、その他の部分は第１実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

第３実施形態の処理液供給装置３０Ｂによれば、リンス処理を行った後、コントローラ６０Ａからの制御信号に基づいて開閉弁Ｖが閉鎖して、純水ＤＷの供給が停止すると、開閉弁Ｖの閉鎖と同時にコントローラ６０Ａが駆動して、図１０に示すように、中空環状部材７０の中空部７０ａ内に空気を供給する。すると、中空環状部材７０は膨隆して、ノズル３３の流通路３６の口径が小さくなり、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側に付着する純水ＤＷを保持する。したがって、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側に付着する純水ＤＷは中空環状部材７０によって保持され、液ダレやボタ落ちを防止することができる。

＜第４実施形態＞
図１１は、この発明の第４実施形態に係る処理液供給装置３０Ｃの純水供給時の状態を示す断面図（ａ）及び純水停止時の状態を示す断面図（ｂ）である。

第４実施形態は、ノズル３３に、液保持部材例えばメッシュ部材４０ａを設けると共に、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側部位に、純水ＤＷの通過領域の大きさに応じて開口面積が可変可能な補助液保持部材８０を設けた場合である。この場合、補助液保持部材８０は、キャップ部材３９の先端に接着されており、先端に向かって狭小テーパ状に形成され、かつ、周方向に適宜間隔をおいて複数のスリット８１を有する弾性部材例えば可撓性を有する合成ゴム製部材にて形成されている。

なお、第４実施形態において、その他の部分は第１実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

第４実施形態の処理液供給装置３０Ｃによれば、リンス処理時には、図１１（ａ）に示すように、供給管路３５を介してノズル３３の流通路３６内を流れる純水ＤＷの通過領域が大きくなるので、これに応じて補助液保持部材８０が拡径して純水ＤＷを供給（吐出）することができる。また、リンス処理を行った後、開閉弁Ｖが閉鎖して、純水ＤＷの供給が停止すると、図１１（ｂ）に示すように、供給管路３５を介してノズル３３の流通路３６内を流れる純水ＤＷの通過領域が小さくなるので、これに応じて補助液保持部材８０が縮径して、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側の純水ＤＷを保持する。したがって、ノズル３３におけるメッシュ部材４０ａより先端側に付着する純水ＤＷは補助液保持部材８０によって保持され、液ダレやボタ落ちを防止することができる。

＜その他の実施形態＞
上記第２ないし第４実施形態では、液保持部材４０がメッシュ部材４０ａにて形成される場合について説明したが、メッシュ部材４０ａに代えて上記格子状部材４０Ａ，多孔質状部材４０Ｂ，ハニカム状部材４０Ｃ又は同心円筒部材４０Ｄを用いてもよい。また、液保持部材を複数用いてもよい。

上記実施形態では、この発明に係る処理液供給装置３０，３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃを現像処理装置のリンス処理部に適用した場合について説明したが、この発明に係る処理液供給装置は現像処理装置以外の処理液供給部にも適用可能である。

なお、上記実施形態は、レチクル等のガラス基板の処理に関する場合について説明したが、この発明はこれに限らず、例えば、この発明は、ＬＣＤ，ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）等の方形の基板や、ウエハ等の円形の基板など他の基板にも適用できる。

この発明に係る処理液供給装置を適用した現像処理装置を示す概略縦断面図である。 上記現像処理装置の概略平面図である。 この発明に係る処理液供給装置の第１実施形態を示す断面図である。 第１実施形態における液保持部材の取付状態を示す分解斜視図である。 この発明における液保持部材の別の形態の取付状態を示す断面図（ａ）及び（ａ）のＩ−Ｉ線に沿う断面図（ｂ）である。 この発明における液保持部材の更に別の形態を示す断面図である。 この発明に係る処理液供給装置の第２実施形態を示す概略断面図である。 第２実施形態の処理液排出時の状態を示す断面図（ａ）及び排出後の状態を示す断面図（ｂ）である。 この発明に係る処理液供給装置の第３実施形態を示す概略断面図である。 第３実施形態の処理液供給停止時の状態を示す断面図である。 この発明に係る処理液供給装置の第４実施形態の処理液供給時の状態を示す断面図（ａ）及び処理液供給停止時の状態を示す断面図（ｂ）である。

符号の説明

Ｇ ガラス基板（被処理基板）
２ 回転基台
３０，３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ 処理液供給装置
３３ ノズル
３４ リンス液供給源（処理液供給源）
３５ 供給管路
Ｖ 開閉弁
３６ 流通路
３７ 円筒部材
３８ Ｏリング（シール部材）
３９ キャップ部材
４０ 液保持部材
４０ａ，４０ｂ，４０ｃ メッシュ部材（液保持部材）
４０Ａ 格子部材（液保持部材）
４０Ｂ 多孔質部材（液保持部材）
４０Ｃ ハニカム状部材（液保持部材）
４０Ｄ 同心円筒部材（液保持部材）
５０ 連通路
５１ 吸引管路
５２ 吸引手段
６０，６０Ａ コントローラ（制御手段）
７０ 中空環状部材
７０ａ 中空部
７１ コンプレッサ（流体供給手段）
８０ 補助液保持部材
８１ スリット

Claims (3)

1. 保持手段にて保持される被処理基板に処理液を供給する処理液供給装置であって、
   処理液供給源に接続される供給管路の先端部に装着され、供給管路に連通する流通路を有するノズルと、
   上記ノズルの流通路内に設けられ、上記供給管路から導かれる処理液の流れ方向に対して直交する断面領域において液保持力を有する液保持部材と、
   上記ノズルにおける上記液保持部材より先端側部位に、処理液の通過領域の大きさに応じて開口面積が可変可能な補助液保持部材と、を具備し、
   上記補助液保持部材は、先端に向かって狭小テーパ状に形成され、かつ、周方向に適宜間隔をおいて複数のスリットを有する弾性部材にて形成される、ことを特徴とする処理液供給装置。
2. 請求項１記載の処理液供給装置において、
   上記ノズルを、上記供給管路に固着される円筒部材にて形成し、
   上記液保持部材を、上記円筒部材内に着脱可能に挿入し、シール部材を介して円筒部材に螺合される筒状キャップ部材にて固定してなる、ことを特徴とする処理液供給装置。
3. 請求項１又は２に記載の処理液供給装置において、
   上記液保持部材は、先端側に向かって順次開口率が異なるように形成される、複数の部材からなる、ことを特徴とする処理液供給装置。

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