JP4762849B2 - 窒化物系半導体発光素子 - Google Patents

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Description

本発明は、窒化物系半導体発光素子に関し、さらに詳細には、大面積の窒化物系半導体発光素子の電流拡散効率を向上させることにより、低い駆動電圧を実現することができる窒化物系半導体発光素子に関する。
一般に、窒化物系半導体は、AlxInyGa(1-x-y)N(ここで、0≦x≦1,0≦y≦1,0≦x+y≦1である)の組成式を有するIII−V族の半導体結晶であって、短波長光(紫外線又は緑色光)、特に、青色光を出すことのできる発光素子に広く用いられる。
一方、前記窒化物系半導体発光素子は、結晶成長のための格子整合条件を満たすサファイア基板やSiC基板などの絶縁性基板を利用して製造されることから、p型及びn型窒化物半導体層に接続した2つの電極が、発光構造の上面に略水平に配列する水平構造を有する。
最近、このような水平構造を有する窒化物系半導体発光素子を照明光源として利用するために、高輝度化が求められ、このような高輝度化を達成するために、大電流で動作し得る大面積の窒化物系半導体発光素子を製作している。
しかしながら、このような水平(planar)構造を有する大面積の窒化物系半導体発光素子は、2つの電極が発光構造物の上下面にそれぞれ配置された垂直(Vertical)構造を有する窒化物系半導体発光素子に比べて、電流の流れが全体発光領域において均一に分布できないため、発光に用いられる有効面積もまた大きくないことから、発光効率が低いという問題がある。
また、前記水平構造を有する大面積の窒化物系半導体発光素子に大電流を印加するようになれば、印加された電流が熱に変換し、素子の温度を上昇させることによって、素子の駆動電圧及び特性を減少させるという問題がある。
以下、図1を参照しつつ、従来の技術に係る水平構造を有する大面積の窒化物系半導体発光素子の問題点について詳細に説明する。
同図は、従来の技術に係る窒化物系半導体発光素子(LED)の電極及び活性領域を示す配置図である。
同図に示すように、基板上に順次積層されたn型窒化物半導体層120、活性層及びp型窒化物半導体層(図示せず)からなる発光素子の上面が示されている。
前記発光素子の上面には、p型窒化物半導体層(反射電極170が形成された場合には、反射電極)及びn型窒化物半導体層120にそれぞれ接続したp型電極160及びn型電極150が形成されている。
前記n型電極150は、2つの電極パッド155及びそれから伸びた多数の枝電極150´,150´´を備え、前記p型電極160と互いに噛み合う構造すなわち、フィンガー(finger)状の構造で形成されている。このとき、前記p型電極160は、前記n型電極150の枝電極150´,150´´を介して発光面積が分割されるように分割されている。
すなわち、前記n型電極上に2つのn型電極パッドを具備し、大電流が印加される際に、印加される電流を分散させ、n型電極から伸びた多数の枝電極及びp型電極をフィンガー状に配置し、電流拡散の効率を向上させることにより、大電流を印加することによる素子の不良を防止していた。
しかしながら、上記のような従来の大面積の窒化物系半導体発光素子は、2つのn型電極パッドを具備し、印加される大電流を分散させることで、素子が駆動電圧及び特性が劣化することを防止しているが、2つのn型電極パッドが全て発光素子の片方に集中するように形成されているため、素子に印加される大電流を分散させて素子の電流拡散の効率を向上させ、駆動電圧を減少させるという点において限界がある。
したがって、前記大面積の窒化物系半導体発光素子の電流拡散効率を向上させ、駆動電圧を下げることのできる発光素子の関連技術の開発が求められつつある。
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、n型電極パッドを3つ以上具備し、大面積に均一に分布されるように配置し、大電流を印加する際に電流を效率的に分散させることによって、電流拡散効率を向上させると共に、駆動電圧を減少させ得る窒化物系半導体発光素子を提供することにある。
上記目的を達成すべく、本発明に係る窒化物系半導体発光素子は、基板と、前記基板上
に形成されており、第1領域及び前記第1領域と互いに噛み合っているフィンガー構造の
第2領域に区分された上面を有するn型窒化物半導体層と、前記n型窒化物半導体層の第
2領域上に形成されている活性層と、前記活性層上に形成されているp型窒化物半導体層
と、前記p型窒化物半導体層上に形成されている反射電極と、前記反射電極上に形成され
ているp型電極と、前記n型窒化物半導体層の第1領域上に形成されているn型電極と、
前記n型電極上に形成され、前記n型電極の複数の外縁にそれぞれ隣接するように配置さ
れた複数のn型電極パッドと、を備え、前記n型電極は、前記n型窒化物半導体層の最外
辺に沿って、前記第1領域上に形成された第1のn型枝電極と、前記第1領域上の、前記
第1のn型枝電極の内側に位置しフィンガー構造を有する部分に形成された第2のn型枝
電極と、を備え、n型電極パッドの一部分およびその他の部分はn型窒化物半導体層の一対の外縁に別々に隣接するように配置され、n型窒化物半導体層の前記一対の外縁は水平方向において互いに平行であり、n型電極パッドの一部分およびその他の部分は水平方向において互いに異なる位置に配置されている
また、前記本発明の窒化物系半導体発光素子では、前記第2領域は、前記基板の中央を基準として対称な形状を有することが好ましい。これは、大面積からなる発光面の全体に均一な発光を起こすためである。
また、前記本発明の窒化物系半導体発光素子では、前記n型電極パッドは、少なくとも3つ形成されることが好ましく、さらに好ましくは、発光面の減少を最小化するために、最大500μm以下の幅を有する。
また、前記本発明の窒化物系半導体発光素子では、前記複数のn型電極パッドは、前記n型電極の第1のn型枝電極を介して全て電気的に接続していることが好ましい。また、前記第1のn型枝電極が、前記第2のn型枝電極の幅より25%以上大きい幅を有するように形成し、これは、それぞれのn型電極パッドから印加される電流の衝突により抵抗が高まるのを防止するためのものである。
また、前記本発明の窒化物系半導体発光素子では、前記第2領域の面積が、発光面を最大化するために、前記第1領域の面積より大きく形成されることが好ましい。
本発明の窒化物系半導体発光素子によれば、前記p型電極をn型電極の枝電極を介して面分割し、電気的に全て接続するように形成することによって、大面積からなる発光面を低い駆動電圧で駆動させることができる。
また、本発明の窒化物系半導体発光素子によれば、互いに異なる面に複数のn型電極パッドを備えて大電流を印加する際、電流を発光面の全ての部分に均一に分散させることによって、発光が発光面の全体において均一に起きるようにして、輝度を向上させることができる。
したがって、本発明は、窒化物系半導体発光素子の駆動電圧を減少させ、輝度を向上させることで、素子の特性及び信頼性を向上させ得るという効果がある。
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。図において複数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して表した。明細書の全体において類似の構成要素については同一の符号を付している。
以下に、本発明の一実施の形態に係る窒化物系半導体発光素子について、図を参照して詳しく説明する。
第1の実施の形態
まず、図2及び図3を参照し、本発明の第1の実施の形態に係る水平構造を有する大面積の窒化物系半導体発光素子の構造について詳細に説明する。
同図は、本発明の第1の実施の形態に係る窒化物系半導体発光素子(LED)の電極及び活性領域を示す配置図であり、図3は、図2のIII−III´断面図である。
図2及び図3に示すように、光透過性の基板100上にバッファ層110及びn型窒化物半導体層120が順次積層されている。このとき、前記n型窒化物半導体層120は、第1領域及び前記第1領域と互いに噛み合っているフィンガー(finger)構造の第2領域に区分されている。
ここで、前記第2領域は発光面を定義しており、それにより、前記第2領域の面積は、第1領域の面積より大きく形成することにより、素子の輝度特性を向上させることが好ましい。すなわち、前記第2領域の面積は、前記n型窒化物半導体層120の全体面積の50%以上に該当する面積を有する。また、前記第2領域は、前記基板100の中央部を基に、両方が互いに対称に形成されたことが好ましい。これは、大面積からなる発光面の全体に均一な発光がおきるようにするためである。
前記基板100は、窒化物半導体の単結晶を成長させるのに適した基板であって、好ましく、サファイアを含む透明な材料を利用して形成され、サファイア以外に、基板100はジンクオキサイド(zinc oxide,ZnO)、ガリウムナイトライド(gallium nitride,GaN)、シリコンカーバイド(silicon carbide,SiC)及びアルミニウムナイトライド(AlN)で形成されることができる。
前記バッファ層110は、前記基板100上にn型窒化物半導体層120を成長させる前に、前記サファイア基板との格子整合を向上させるための層であって、一般に、AlN/GaNで形成されている。
前記n型窒化物半導体層120は、InXAlYGa1-X-YN組成式(ここで、0≦X,0≦Y,X+Y≦1)を有する半導体物質からなることができる。さらに具体的に、前記n型窒化物半導体層120は、n型導電形不純物がドーピングされたGaN層またはGaN/AlGaN層からなることができ、n型導電形不純物としては、例えば、Si,Ge,Snなどを使用し、好ましくは、主にSiを使用する。
そして、前記n型窒化物半導体層120の第2領域上には、活性層130及びp型窒化物半導体層140が順次積層されて発光構造物をなす。
前記活性層130は、多重量子井戸(Multi−Quantum Well)構造のInGaN/GaN層からなることができる。
前記p型窒化物半導体層140は、InXAlYGa1-X-YN組成式(ここで、0≦X,0≦Y,X+Y≦1)を有する半導体物質からなることができる。さらに具体的に、前記p型窒化物半導体層140は、p型導電形不純物がドーピングされたGaN層またはGaN/AlGaN層からなることができ、p型導電形不純物としては、例えば、Mg,Zn,Beなどを使用し、好ましくは、主にMgを使用する。
また、前記n型窒化物半導体層120の第1領域上には、n型電極150が形成されている。前記n型電極150は、大電流を印加する際に、電流を效率的に分散させるために、これから伸びている複数のn型枝電極150´,150´´を備える。さらに詳細に、前記n型電極150は、局部的な電流の集中現象を最小化するために、前記n型窒化物半導体層120の最外辺に沿って、第1領域上に均一に取り囲まれるように形成された第1のn型枝電極150´と、前記n型窒化物半導体層120の内部に位置するフィンガー構造の第1領域上に形成された第2のn型枝電極150´´とを備える。
そして、前記n型電極150上には、複数のn型電極パッド155が形成されており、このうち、いずれか1つ以上のn型電極パッド155は、発光面のいずれの地点でも均一な電流を供給するために、前記n型電極150の互いに異なる辺に隣接するように位置し、互いに異なる辺に隣接するように形成されたn型電極パッド155は、交差配置される。
本実施の形態では、図2に示すように、前記n型電極パッド155を4つ備え、それぞれ互いに異なる面に備えて、互いに交差配置している。このとき、前記n型電極パッド155は、発光面の減少を最小化するために、最大500μm以下の幅に形成されたことが好ましい。
また、本実施の形態では、前記複数のn型電極パッド155が前記n型電極150の第1のn型枝電極150´を介して全て電気的に接続していることから、大面積を有する窒化物系半導体発光素子において、電流を拡散させるのにさらに効率的である。
一方、上記の通りに、前記第1のn型枝電極150´を介して前記複数のn型電極パッド155が全て接続すれば、電流拡散効率は向上させ得るが、それぞれのn型電極パッド155から印加される電流(図2の実線参照)が第1のn型枝電極150´で衝突して抵抗が増加するという問題がある。
したがって、本実施の形態では、上記のような問題を解決するために、前記第1のn型枝電極150´の幅を前記第2のn型枝電極150´´の幅より25%大きく形成して、それぞれのn型電極パッド155から印加される電流が第1のn型枝電極150´で衝突するときに、抵抗が増加するのを防止することが好ましい。
また、前記p型窒化物半導体層140上には、反射電極170が形成されている。
そして、前記反射電極170上には、p型電極160が形成されている。本実施の形態に係る前記p型電極160は、前記n型電極150の第1及び第2のn型枝電極150´、150´´を介して4つに面に分割されており、全て電気的に接続していることから、電流の拡散特性をさらに向上させることができ、駆動電圧もまた減少させることができる。
また、前記p型電極160上には、複数のp型電極パッド165が形成されている。
第2の実施の形態
図4及び図5を参照し、本発明の第2の実施の形態に係る水平構造を有する大面積の窒化物系半導体発光素子の構造について説明する。但し、第2の実施の形態の構成のうち、第1の実施の形態と同じ部分についての説明は省略し、第2の実施の形態で変わる構成についてのみ詳述する。
図4は、本発明の第2の実施の形態に係る窒化物系半導体発光素子(LED)の電極及び活性領域を示す配置図であり、図5は、図4のV−V´断面図である。
図4及び図5に示すように、第2の実施の形態に係る窒化物系半導体発光素子は、第1の実施の形態に係る窒化物系半導体発光素子と殆どの構成が同じである。但し、前記p型電極160が、前記n型電極150の第1及び第2のn型枝電極150´,150´´を介して4つの面に分割されておらず、5つの面に分割されているという点のみが第1の実施の形態と異なる。
一方、第1の実施の形態に係るn型電極パッド155は、4つが形成されていることに対し、第2の実施の形態に係るn型電極パッド155は3つに、第1の実施の形態に比べて1つ減少したが、前記n型電極パッド155が形成された位置がほぼ同じであるため、これは、発光面を最大化するためのもので、発光素子の特性に大きい影響を及ぼさない。
したがって、第2の実施の形態もまた、第1の実施の形態と同様に、複数のn型電極パッド155及び複数の面に分割されており、全て電気的に接続しているp型電極160を備えていることから、第1の実施の形態と同じ作用及び効果が得られる。
また、第2の実施の形態は、第1の実施の形態より前記p型電極160が1つ多く分割されているため、図6に示すように、第1の実施の形態に比べて、より低い駆動電圧が得られるという利点がある。
ここで、図6は、本発明に係る窒化物系半導体発光素子の発光面積の分割に応じる駆動電圧の変化を示すシミュレーション結果図である。
一方、本発明に係る第1及び第2の実施の形態において示したn型電極パッド及びp型電極パッドは、図面上に155及び165と示したが、これは実際に存在せずに、単に、サブマウントとバンプボールを介して電気的に接続する際、バンプボールが接触する領域を意味する。
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更をすることが可能であり、このような置換、変更なども特許請求の範囲に属するものである。
従来の技術に係る窒化物系半導体発光素子(LED)の電極及び活性領域を示す配置図である。 本発明の第1の実施の形態に係る窒化物系半導体発光素子(LED)の電極及び活性領域を示す配置図である。 図2のIII−III´断面図である。 本発明の第2の実施の形態に係る窒化物系半導体発光素子(LED)の電極及び活性領域を示す配置図である。 図4のV−V´断面図である。 本発明に係る窒化物系半導体発光素子の発光面積分割に応じた駆動電圧の変化を示すシミュレーション結果図である。
符号の説明
100 基板
110 バッファ層
120 n型窒化物半導体層
130 活性層
140 p型窒化物半導体層
150 n型電極
150´,150´´ 枝電極
155 n型電極パッド
160 p型電極
165 p型電極パッド
170 反射電極

Claims (7)

  1. 基板と、
    前記基板上に形成されており、第1領域及び前記第1領域と互いに噛み合っているフィンガー構造の第2領域に区分された上面を有するn型窒化物半導体層と、
    前記n型窒化物半導体層の第2領域上に形成されている活性層と、
    前記活性層上に形成されているp型窒化物半導体層と、
    前記p型窒化物半導体層上に形成されている反射電極と、
    前記反射電極上に形成されているp型電極と、
    前記n型窒化物半導体層の第1領域上に形成されているn型電極と、
    前記n型電極上に形成され、前記n型電極の複数の外縁にそれぞれ隣接するように配置された複数のn型電極パッドと、
    を備え、
    前記n型電極は、
    前記n型窒化物半導体層の最外辺に沿って、前記第1領域上に形成された第1のn型枝電極と、
    前記第1領域上の、前記第1のn型枝電極の内側に位置しフィンガー構造を有する部分に形成された第2のn型枝電極と、
    を備え
    n型電極パッドの一部分およびその他の部分はn型窒化物半導体層の一対の外縁に別々に隣接するように配置され、n型窒化物半導体層の前記一対の外縁は水平方向において互いに平行であり、
    n型電極パッドの一部分およびその他の部分は水平方向において互いに異なる位置に配置されている、窒化物系半導体発光素子。
  2. 前記第2領域は、前記基板の中央を基準として対称な形状を有することを特徴とする請求項1に記載の窒化物系半導体発光素子。
  3. 前記n型電極パッドは、少なくとも3つ形成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の窒化物系半導体発光素子。
  4. 前記n型電極パッドは、500μm以下の幅を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の窒化物系半導体発光素子。
  5. 前記第1のn型枝電極は、前記第2のn型枝電極の幅より25%以上大きい幅を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の窒化物系半導体発光素子。
  6. 前記複数のn型電極パッドは、前記n型電極の第1のn型電極枝を介して全て電気的に接続していることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の窒化物系半導体発光素子。
  7. 前記第2領域の面積は、前記第1領域の面積より大きいことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の窒化物系半導体発光素子。
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