JP5518273B1 - 発光ダイオード素子および発光ダイオード装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図3(a)は、本発明による発光ダイオード装置の実施形態1を示す断面図である。図3(a)に示すように、本実施形態の発光ダイオード装置20は、実装基板12の上に発光ダイオード素子(チップ)14がフェースダウンで実装され、構成されている。n型半導体層とp型半導体層は、何れが先に作製されてもよいが、この例では、n型半導体層が先に作製され、p型半導体層側に電極が設けられる例を挙げて説明する。
本発明による発光ダイオード装置の実施形態2を説明する。本実施形態の発光ダイオード装置は、導電層が透明導電性材料または導電材料で構成されている点で実施形態1と異なる。図15は、実施の形態2の発光ダイオード装置20’の構成を示す説明図である。なお、実施形態1の発光ダイオード装置20と同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態の発光ダイオード装置20’は、発光ダイオード素子以外は、実施形態1の発光ダイオード装置20と同じ構成である。本実施形態の発光ダイオード素子14’は、導電層以外は発光ダイオード素子14と同じ構成である。
以下、本発明による発光ダイオード素子および発光ダイオード装置のその他の実施形態を説明する。
2、32、42、52、62、72 n型半導体層
a1 第1の領域
a2 第2の領域
a3 第3の領域
a4 第4の領域
a5 第5の領域
a6 第6の領域
a7 第7の領域
2b 裏面
2f 主面
2e 部分
2i エピタキシャル成長層
2j、9a 凹凸構造
2r 凹部
3 活性層
4 p型導電層
5、55、65、75 p型電極
6、56、66、76 n型電極
9、9’、29、39、49、59、79 導電層
9b 面
9b 凹凸構造
10 バンプ
11 バンプ
12 実装基板
14、14’、24、34、44、54、64、74 発光ダイオード素子
20、20’、30、40、50、60、70、80 発光ダイオード装置
21 半導体積層構造
22 ボンディングパッド
23 ワイヤ
Claims (14)
- 主面および裏面を有する第1導電型の第1の半導体層と、
前記第1の半導体層の前記主面における第1の領域に位置する、第2導電型の第2の半導体層と、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に位置する活性層と、
前記第2の半導体層の、前記活性層が位置する側と反対側の面に設けられた第1の電極と、
前記第1の半導体層の前記主面における第2の領域に設けられた第2の電極と、
前記第1の半導体層の前記裏面において、前記裏面に垂直な方向から見て、前記第1の電極と前記第2の電極との間に位置する第3の領域と、前記第3の領域に隣接し、前記第2の電極の少なくとも一部と重なる第4の領域と、前記第3の領域に隣接し、前記第1の電極の一部と重なる第5の領域とを覆う導電層と、
を備え、
前記導電層は、前記第1の半導体層に接触しており、
前記第1の半導体層は、前記第1の半導体層の前記裏面において、前記裏面に垂直な方向から見て、前記導電層に覆われておらず、前記第1の電極の他の部分と重なる第6の領域を有し、
前記第1導電型の第1の半導体層には、前記主面および前記裏面の間を貫通する貫通電極が設けられていない、発光ダイオード素子。 - 前記第1導電型の第1の半導体層の厚さは、20μm以下である、請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 前記導電層の最大厚さは4μm以上100μm以下である、請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 前記第1の半導体層は、前記裏面における前記第6の領域に設けられた凹凸構造を有する請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 前記導電層は、前記第1の半導体層が位置する側と反対側の面に設けられた凹凸構造を有する請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 前記第1の半導体層は、前記活性層側に位置している第1導電型のエピタキシャル成長層と、前記導電層側に位置する第1導電型の半導体基板とを含む請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 前記第3、第4および第5の領域における前記半導体基板と前記導電層との合計の厚さの平均値は、前記第6の領域における前記半導体基板の厚さの平均値よりも大きい、請求項8に記載の発光ダイオード素子。
- 前記第3、第4および第5の領域における前記半導体基板と前記導電層との合計の厚さの最小値は、前記第6の領域における前記半導体基板の厚さの最小値よりも大きい、請求項8に記載の発光ダイオード素子。
- 前記第1の半導体層の前記裏面から見て、前記第4の領域と前記第2の電極とは一致する請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 前記第1の半導体層、前記第2の半導体層および前記活性層はGaN系非極性半導体またはGaN系半極性半導体によって構成されている請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 前記第1導電型はn型である請求項1に記載の発光ダイオード素子。
- 実装面を有し、前記実装面に設けられた第1の端子および第2の端子を有する実装基板と、
請求項1に記載の発光ダイオード素子であって、前記第1の電極および第2の電極が前記第1の端子および前記第2の端子に対応するように配置された発光ダイオード素子と、
を備える発光ダイオード装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006339646A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 白色発光素子およびその製造方法 |
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---|---|---|---|---|
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006339646A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 白色発光素子およびその製造方法 |
WO2011010436A1 (ja) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | パナソニック株式会社 | 発光ダイオード |
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