JP4718463B2 - パーフルオロポリエーテルアミド連結ホスホネート、ホスフェートおよびそれらの誘導体 - Google Patents
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Description
次式Iの化合物:
弗素化シランおよび
次式Iの化合物:
本明細書(英文)で用いられる「a」、「an」および「the」という用語は、記載されているエレメントの1つ以上を意味する「少なくとも1つ」と互換可能に用いられる。
化合物は次式Iにより表される。
ヒドロフルオロエーテルおよび式I、式IIまたはそれらの組み合わせによる化合物を含む組成物が提供される。
本発明のもう1つの面は、基材および前記基材の表面に結合された式Iによる化合物を含む物品を提供する。式Iの化合物は上述したのと同じである。
以下の式のホスフェート化合物の調製のために、J.Fluorine Chem.,95,51(1999)に記載された手順に従った。
以下の式の化合物を製造するために、次式のジエチル(4−アミノベンジル)ホスホネート(10g、0.041モル、アルドリッチ(Aldrich))、
以下の式の化合物を製造するために、次式のジエチル(α−アミノベンジル)ホスホネート塩酸塩(10.5g、0.037モル、アルドリッチ(Aldrich))、
実施例3および実施例1で調製した材料をHFE7100中でそれぞれ0.1重量%に希釈し、振とうしてクリア溶液を得た。実施例2で調製した材料はHFE7100に直接的には容易に溶解できなかった。そこで、その材料をイソプロピルアルコール中で最初に5重量%に希釈し、振とうして固形物を溶解させた。0.45μmのフィルターカートリッジを通してこの溶液を濾過して、少量の未溶解材料を除去した。得られたクリア溶液(重量分析により固形物4.97重量%)を49gのHFE−7100で希釈(1g)して、0.1重量%溶液を調製し、それはクリアであり、室温で少なくとも数週間にわたり沈殿の形成に対して貯蔵安定性であった。
実施例2および3で調製した材料のサンプルをそれぞれイソプロピルアルコール中で0.2重量%に希釈し、振とうしてクリア溶液を得た。アルミニウム被覆シリコンウェハ(直径100mm、カリフォルニア州サンホセのウェハネット(WaferNet(San Jose,CA))から得たもの)の4枚の1/4ウェハ片を建て付けUV/オゾンチャンバ内で5分にわたり照射することにより清浄化し、直ちに上の溶液で処理した。2枚の片をそれぞれ溶液で処理し、一方は、室温で1時間浸漬、その後、イソプロピルアルコール中で1分リンスすることにより処理し、他方は回転塗布(500rpm/5秒、その後、2000rpm/15秒)、その後、真空ホットプレート上で150℃で3分加熱、その後、イソプロピルアルコールで1分リンスによって処理した。被覆されたウェハ片を窒素下で吹き付け乾燥させ、その後、実施例1の手順および装置を用いて水接触角の測定に供した。結果は表3に示している。
Claims (3)
- 次式Iにより表される化合物:
yは1または2に等しく、
各Xは独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アルカリ金属、アンモニウム、アルキルまたはシクロアルキルで置換されたアンモニウム、あるいは正に帯電した窒素原子を有する5員〜7員のヘテロ環式基であり、
R1は水素またはアルキルであり、そして
R2は、アルキレン、アリーレンまたはそれらの組み合わせから選択された2価基であり、該2価基は、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、スルホンアミドまたはそれらの組み合わせから選択された2価基を任意に含有し、ここで、アルキレンは、少なくとも1個のエーテル基を任意に含有し、かつR2は、置換されていないか、またはアルキル、アリール、ハロまたはそれらの組み合わせで置換されている)。 - ヒドロフルオロエーテルおよび
次式Iの化合物:
yは1または2に等しく、
各Xは独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アルカリ金属、アンモニウム、アルキルまたはシクロアルキルで置換されたアンモニウム、あるいは正に帯電した窒素原子を有する5員〜7員のヘテロ環式基であり、
R1は水素またはアルキルであり、そして
R2は、アルキレン、アリーレン、硫黄、酸素またはNR d (式中、R d は水素またはアルキルである)で置換された1個以上の炭素原子を有するアルカンから2個の水素原子の引抜によって形成されたアルキレン部分またはそれらの組み合わせから選択された2価基およびカルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、スルホンアミドまたはそれらの組み合わせから選択された任意の2価基を含み、ここで、R2は、置換されていないか、またはアルキル、アリール、ハロまたはそれらの組み合わせで置換されている)
またはそれらの組み合わせを含み、そして
前記ヒドロフルオロエーテルは、次式III:
aは1〜3の整数であり、
R f 1 は、パーフルオロアルカン、パーフルオロエーテルまたはパーフルオロポリエーテルの、1価、2価または3価の基であり、そして
R h は、アルキル、または硫黄、酸素またはNR d (式中、R d は水素またはアルキルである)で置換された1個以上の炭素原子を有するアルカンから1個の水素原子の引抜によって形成されたアルキル部分である)によって表される、組成物。 - 弗素化シランおよび
次式Iの化合物:
yは1または2に等しく、
各Xは独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アルカリ金属、アンモニウム、アルキルまたはシクロアルキルで置換されたアンモニウム、あるいは正に帯電した窒素原子を有する5員〜7員のヘテロ環式基であり、
R1は水素またはアルキルであり、そして
R2は、アルキレン、アリーレン、硫黄、酸素またはNR d (式中、R d は水素またはアルキルである)で置換された1個以上の炭素原子を有するアルカンから2個の水素原子の引抜によって形成されたアルキレン部分またはそれらの組み合わせから選択された2価基およびカルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、スルホンアミドまたはそれらの組み合わせから選択された任意の2価基を含み、ここで、R2は、置換されていないか、またはアルキル、アリール、ハロまたはそれらの組み合わせで置換されている)
またはそれらの組み合わせを含み、そして
前記弗素化シランは、次式IV:
R f は1価または2価のパーフルオロポリエーテル基であり、
cは1〜2の整数であり、
bは0〜1の整数であり、
R 3 は、アルキル、アリール、ハロまたはそれらの組み合わせで置換されていないか、または置換されている、アルキレン、アリーレン、硫黄、酸素またはNR d (式中、R d は水素またはアルキルである)で置換された1個以上の炭素原子を有するアルカンから2個の水素原子の引抜によって形成されたアルキレン部分、カルボニル、カルボニルオキシ、カルボニルイミノ、スルホンアミドまたはそれらの組み合わせから選択され、
R 4 はアルキル基であり、そして
Yは、アルコキシまたはアシルオキシから選択される)によって表される、組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US49683703P | 2003-08-21 | 2003-08-21 | |
US60/496,837 | 2003-08-21 | ||
PCT/US2004/021713 WO2005023822A1 (en) | 2003-08-21 | 2004-07-07 | Perfluoropolyether amide-linked phosphonates, phosphates, and derivatives thereof |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007502814A JP2007502814A (ja) | 2007-02-15 |
JP2007502814A5 JP2007502814A5 (ja) | 2007-08-09 |
JP4718463B2 true JP4718463B2 (ja) | 2011-07-06 |
Family
ID=34272523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006523841A Expired - Fee Related JP4718463B2 (ja) | 2003-08-21 | 2004-07-07 | パーフルオロポリエーテルアミド連結ホスホネート、ホスフェートおよびそれらの誘導体 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7678426B2 (ja) |
EP (1) | EP1656385B1 (ja) |
JP (1) | JP4718463B2 (ja) |
KR (1) | KR20060080920A (ja) |
CN (1) | CN100558735C (ja) |
AT (1) | ATE346852T1 (ja) |
DE (1) | DE602004003506T2 (ja) |
WO (1) | WO2005023822A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2004
- 2004-07-07 AT AT04756725T patent/ATE346852T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-07-07 JP JP2006523841A patent/JP4718463B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-07 DE DE200460003506 patent/DE602004003506T2/de active Active
- 2004-07-07 WO PCT/US2004/021713 patent/WO2005023822A1/en active IP Right Grant
- 2004-07-07 KR KR1020067003401A patent/KR20060080920A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-07-07 EP EP20040756725 patent/EP1656385B1/en active Active
- 2004-07-07 CN CNB2004800239962A patent/CN100558735C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-07 US US10/886,123 patent/US7678426B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007502814A (ja) | 2007-02-15 |
US20050048288A1 (en) | 2005-03-03 |
CN1839141A (zh) | 2006-09-27 |
US7678426B2 (en) | 2010-03-16 |
WO2005023822A1 (en) | 2005-03-17 |
EP1656385A1 (en) | 2006-05-17 |
CN100558735C (zh) | 2009-11-11 |
ATE346852T1 (de) | 2006-12-15 |
DE602004003506D1 (de) | 2007-01-11 |
EP1656385B1 (en) | 2006-11-29 |
DE602004003506T2 (de) | 2007-09-20 |
KR20060080920A (ko) | 2006-07-11 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |