CN113549211B - 含全氟聚醚的磷酸化合物、表面处理剂及物品 - Google Patents
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- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 title claims abstract description 62
- -1 phosphoric acid compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 60
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 48
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 39
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 title claims abstract description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims abstract description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 59
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 28
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 16
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-methoxypropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000678 plasma activation Methods 0.000 description 4
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000001177 diphosphate Substances 0.000 description 3
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 3
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 3
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N Methyl benzoate Natural products COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N hypofluorous acid Chemical compound FO AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L zinc iodide Chemical compound I[Zn]I UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKAGYSDHEJITFV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoro-3-methoxy-4-(trifluoromethyl)pentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(OC)C(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F QKAGYSDHEJITFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEUJSGDXBNTQMY-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trifluoroethanol Chemical compound OC(F)C(F)F DEUJSGDXBNTQMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C(F)(F)F)C(F)=C1F USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 1,3,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)CC(F)(F)F TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N bromo(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)Br IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical group [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N ethyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCOP(O)(O)=O ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 1
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- NLWBJPPMPLPZIE-UHFFFAOYSA-N methyl 4-(bromomethyl)benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(CBr)C=C1 NLWBJPPMPLPZIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229950008618 perfluamine Drugs 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N perfluorotripropylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/335—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing phosphorus
- C08G65/3353—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing phosphorus containing oxygen in addition to phosphorus
- C08G65/3355—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing phosphorus containing oxygen in addition to phosphorus having phosphorus bound to carbon and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D171/02—Polyalkylene oxides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
本申请提供了一种含全氟聚醚的磷酸化合物,含全氟聚醚的磷酸化合物的通式A为:在通式A中,Rf表示:在Rf中,p、q和r分别独立,为0~200的整数,其中,p、q和r之和大于等于1;‑CF2‑、‑C3F6O‑、‑C2F4O‑和‑CF2O‑在Rf中的存在顺序是任意的,s为1至3的整数,t为0或1,Z表示氟原子或三氟甲基;在通式A中,X1、X2分别独立,X1为‑(CH2)a‑、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基;X2为‑(CH2)b‑、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基;R1、R2分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基;R3和R4分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基。本申请提供一种能够提高水的静态接触角的含全氟聚醚的磷酸化合物。本申请还提供了一种表面处理剂及物品。
Description
技术领域
本申请涉及表面处理的技术领域,尤其涉及一种含全氟聚醚的磷酸化合物、表面处理剂及物品。
背景技术
有机磷酸化合物可与金属或非金属反应形成P-O-基材键,从而在金属或非金属表面形成处理层,提高金属或非金属表面的防腐能力。全氟聚醚具有低表面能、分子链长且柔韧性好的特性,因此将有机磷酸化合物和全氟聚醚结合制备得到的含全氟聚醚的磷酸化合物用作金属或非金属表面处理剂时,其在金属或非金属表面形成的处理层具有疏水疏油、防污、低摩擦系数、耐久性等性能。
现有的一种含全氟聚醚偕二磷酸化合物中,化学结构式如下:
其含有有机磷酸和全氟聚醚,但是将上述含全氟聚醚偕二磷酸化合物应用于云母片,在云母片表面上形成具有防污功能的处理层,经过测试,其处理层的水的静态接触角只有85°,处理层的防污性能较差。
另外,现有US8945712 B2公开了另一种包含全氟聚醚和有机磷酸的组合物,全氟聚醚和有机磷酸中均含有不饱和双键,但是将该组合物应用于表面镀铬的基材,所得的处理层水的静态接触角只有98°,无尘布耐磨次数超过200次时,水的静态接触角降至80°以下,其耐久性不佳,应用范围小,难以在产业制造中实施应用。
发明内容
有鉴于此,本申请提供一种能够提高水的静态接触角的含全氟聚醚的磷酸化合物。
另外,还有必要提供一种含全氟聚醚的磷酸化合物的表面处理剂及物品。
为实现上述目的,本申请提供了一种含全氟聚醚的磷酸化合物,所述含全氟聚醚的磷酸化合物的通式A为:
在通式A中,Rf表示:
在Rf中,p、q和r分别独立,为0~200的整数,其中,p、q和r之和大于等于1;-CF2-、-C3F6O-、-C2F4O-和-CF2O-在Rf中的存在顺序是任意的,s为1至3的整数,t为0或1,Z表示氟原子或三氟甲基;在通式A中,X1、X2分别独立,X1为-(CH2)a-、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基,X2为-(CH2)b-、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基;R1、R2分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基;Q表示-O-、-S-、-C(O)O-、-CONR3-、-O-CONR3-、-NR3-、-Si(R4)2-、-(Si(R4)2O)b-Si(R4)2-、-C6H4-中的基团中一种或多种,a、b、c为1~20的整数;R3和R4分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基;m为1~3的整数。
在一些实施例中,Rf为CF3O(C2F4O)q(CF2O)rCF2-时,r、q的和为20-100。
在一些实施例中,m为1。
在一些实施例中,所述X1为-CH2-或-CH(CH3)-。
本申请还提供一种表面处理剂,包括液态介质,所述表面处理剂还包括所述的含全氟聚醚的磷酸化合物。
在一些实施例中,所述液态介质为氟类有机溶剂。
在一些实施例中,所述氟类有机溶剂为氢氟醚。
在一些实施例中,所述表面处理剂含有0.01-30wt%的含全氟聚醚的磷酸化合物。
本申请还提供一种物品,包括基材,所述物品还包括形成于所述基材表面的处理层,所述处理层由所述的表面处理剂覆盖于所述基材表面形成。
在一些实施例中,所述基材为非金属或金属。
在一些实施例中,所述处理层的水静态接触角大于等于110°。
本申请中提供的含全氟聚醚的磷酸化合物中,直链结构的氟代烷基醚Rf能够提高基材表面层的耐摩擦性、润滑性和耐指纹擦拭性,含全氟聚醚的磷酸化合物末端的磷酸基团可以与基材表面的羟基形成P-O-基材键结构,实现含全氟聚醚的磷酸化合物与基材的结合,提高含有含全氟聚醚的磷酸化合物的表面处理剂于基材表面形成处理层的耐磨擦性。
附图说明
图1是含全氟聚醚苯甲酸甲酯化合物M1的核磁氢谱图。
图2是含全氟聚醚苯甲酸酯化合物M1的红外谱图。
图3是含全氟聚醚苄基醇化合物M2的核磁氢谱图。
图4是含全氟聚醚苄基醇化合物M2的红外谱图。
图5是含全氟聚醚磷酸乙酯化合物M3的核磁氢谱图。
图6是含全氟聚醚磷酸乙酯化合物M3的核磁磷谱图。
图7是含全氟聚醚磷酸乙酯化合物M3的红外谱图。
图8是含全氟聚醚的磷酸化合物A的核磁氢谱图。
图9是含全氟聚醚的磷酸化合物A的核磁磷谱图。
图10是含全氟聚醚的磷酸化合物A的红外谱图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
本申请提供一种含全氟聚醚的磷酸化合物,所述含全氟聚醚的磷酸化合物的通式A为:
在通式A中,Rf表示:
在Rf中,p、q和r分别独立,为0~200的整数,其中,p、q和r之和大于等于1;-CF2-、-C3F6O-、-C2F4O-和-CF2O-在Rf中的存在顺序是任意的,s为1至3的整数,t为0或1,Z表示氟原子或三氟甲基;
在通式A中,X1、X2分别独立,X1为-(CH2)a-、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基,X2为-(CH2)b-、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基;R1、R2分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基;
Q表示-O-、-S-、-C(O)O-、-CONR3-、-O-CONR3-、-NR3-、-Si(R4)2-、-(Si(R4)2O)b-Si(R4)2-、-C6H4-中的基团中一种或多种,a、b、c为1~20的整数;R3和R4分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基;
m为1~3的整数。
在本申请中,Rf是直链结构的氟代烷基醚。当含有所述的含全氟聚醚的磷酸化合物(化合物A)的表面处理剂应用于基材表面时,该含全氟聚醚的磷酸化合物用于在基材表面反应得到处理层,具有直链结构的氟代烷基醚可以提高处理层的耐摩擦性和润滑性。
另外,当s为1~10的整数,得到的化合物A对处理层的润滑性和耐摩擦性更为优异。更优选s为1~6的整数,特别优选s为1~3的整数。
当t为0或1时,更有利于工业生产制备,同时,当该化合物A用于在基材表面反应得到处理层时,也利于提高处理层的耐摩擦性。
优选地,R1、R2分别独立,为H原子、碳原子个数为1~3的烷基。
R1、R2都为H原子时,化合物A末端的磷酸基团-P(=O)(OH)2与基材表面的羟基(基材表面等离子处理对基材表面进行羟基化处理)发生脱水缩合反应,形成基材-O-P的化学键结构,提高化合物A与基材的结合力。
在一些实施例中,优选,a、b、c为1~10的整数,更优选为1~3的整数。
在一些实施例中,Q优选为-O-、-C(O)O-、-CONR3、-C6H4-,Q作为连接基,在上述条件下,更容易实现工业制造,且得到的具有化合A的表面处理剂于基材表面形成的处理层的耐摩擦性更为优良。
当化合物A中,m大于3时,化合物A中有较多的极性磷酸基团,会降低化合物A作用于基材表面形成处理层的润滑性、耐指纹擦拭性和耐摩擦性。
在一些实施例中,Rf为CF3O(C2F4O)q(CF2O)rCF2-时,r、q的和为20-100。
在一些实施例中,m为1。
在一些实施例中,所述X1为-CH2-或-CH(CH3)-。
在一些实施例中,所述Q为-C6H4-。
在一些实施例中,所述X2为-CH2-或-CH(CH3)-。
在一些实施例中,R1,R2分别独立,为H或-C2H5。
在一些实施例中,所述含全氟聚醚的磷酸化合物的数均分子量为500~10,000。
本申请一实施方式还提供一种表面处理剂,包括液态介质,还包括所述的含全氟聚醚的磷酸化合物。
其中,所述表面处理剂可以是溶液,也可以是化合物A与液态介质形成的分散液。所述表面处理剂是由化合物A与液态介质混合所得,在表面处理剂中也可含有制备化合物A生成的副产物等杂质。
所述液态介质,可以选用有机溶剂。有机溶剂可以选用氟类有机溶剂、非氟类有机溶剂或包含这两者溶剂的混合物。
氟类有机溶剂可以采用氟代烷烃、氟代芳香族化合物、氟代烷基醚、氟代烷基胺、氟代醇中一种或多种。
其中,氟代芳香族化合物,如六氟苯、三氟甲基苯、全氟甲苯、双(三氟甲基)苯等。氟代烷基醚,优选碳原子个数为4~12的化合物,比如3M公司市售的产品C4F9OCH3(HFE-7100)、C4F9OC2H5(HFE-7200)、C2F5CF(OCH3)C3F7(HFE-7300)以及太普(上海)氟化工贸易有限公司制备的HFE-347。氟代烷基胺,可采用全氟三丙胺、全氟三丁胺等。氟代醇,可采用2,2,3,3-四氟代丙醇、2,2,2-三氟代乙醇、六氟代异丙醇等。
非氟类有机溶剂,可以选用仅由氢原子和碳原子构成的化合物,或仅有氢原子、碳原子和氧原子构成的化合物,比如烃类有机溶剂、醇类有机溶剂、酮类有机溶剂、醚类有机溶剂、酯类有机溶剂等。
在一些实施例中,所述液态介质为氟类有机溶剂。优选为HFE-7200、FC-100(浙江巨化股份有限公司制得)、HFE-347。其中,氟类有机溶剂为FC-100和HFE-347时,FC-100和HFE-347的质量比大于等于2,优选质量比为3。
在一些实施例中,所述氟类有机溶剂为氢氟醚。
在一些实施例中,所述表面处理剂含有0.01-30wt%的含全氟聚醚的磷酸化合物。优选为0.05-20wt%,更优选为10-20wt%。
在本申请中,在表面处理剂于基材表面形成处理层前,还对基材进行了预处理,处理步骤如下:
步骤一:提供基材,对基材表面进行清洗和活化。
在一些实施例中,基材为金属或非金属,比如,基材可以为铁、铝、钛、镁、镉、铜、金等金属单体或合金,还可以是玻璃、陶瓷(比如,氧化锆或三氧化二铝等)、不锈钢。
基材的具体形状并不做特定限制,可以根据物品的用途设定。基材的表面无过多缺陷点,当表面出现2个以上缺陷点时,两个缺陷点距离应大于20毫米。
其中,清洗可以是使用清洗剂或丙酮或乙醇或超纯水超声清洗所述基材,并用热风干燥基材的表面,使基材表面无残留的水渍或清洗剂(即,脱脂处理)。
在一些实施例中,所述活化为真空等离子活化。具体是,将清洗后的基材放置于等离子清洗机中,可以采用压缩空气、氩气、氧气或氩气与氧气的混合气体处理基材表面,优选为氩气和氧气的混合气体,当采用氩气和氧气混合气体时,氩气与氧气的体积比大于等于3。等离子活化处理时间为5~15分钟,优选为8~10分钟。
在一些实施例中,所述基材表面活化为真空等离子活化。真空等离子活化可以除去所述基材表面的油脂,同时能够活化基材的表面,使得化合物A与所述基材表面结合更加牢固,提高基材表面处理层的耐磨耐久性。
步骤二:表面处理剂通过湿润覆盖法涂布于步骤一得到的基材的表面。
所述湿润覆盖法包括浸涂、旋涂或喷涂。从基材表面形成的处理层的均匀和工业制造难易度考虑,优选为喷涂,喷涂注液流量为2~5g/min,优选为3g/min,喷涂输送速度为0.2~0.8m/min,优选为0.6~0.8m/min。
表面处理剂涂布于基材表面过程中,还对含有所述表面处理剂的所述基材进行热处理。所述热处理的温度为100~160℃,热处理的时间为2~12h。热处理有助于化合物A与所述基材表面形成P-O-基材键,也有助于分子迁移和旋转,形成致密的单分子层膜,这样可以提高处理层的耐久性。
在一些实施例中,所述表面处理剂通过两次以上的所述湿润覆盖法形成于所述基材表面。这样进行多次湿润覆盖,可以得到更加致密的处理层。
本申请在一实施方式中还提供一种物品,包括基材,所述物品还包括形成于所述基材表面的处理层,所述处理层由所述的表面处理剂覆盖于所述基材表面形成。
在一些实施例中,所述物品可以为智能手机、平板或电脑的显示器屏幕、卫浴五金、厨房五金、汽车窗饰五金、建筑外墙。
在一些实施例中,所述基材的表面镀有硬质涂层,所述硬质涂层为金属氮化物、金属碳化物、金属氧化物、金属硼化物、磷化物或硅化物种的一种或多种。所述硬质涂层设置于基材表面与处理层之间。
在一些实施例中,所述硬质涂层为氮化镉或氮化钛。
在一些实施例中,所述处理层的水静态接触角大于等于110°。
下面将结合实施例对本发明的方案进行解释。本领域技术人员将会理解,下面示例仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。除另有交待,以下实施例中涉及的未特别交待的试剂、软件及仪器,都是常规市售产品或者开源的。
合成实施例
以m=1,X1和X2均为-(CH2)a-,其中a为1,Q为-C6H4-,R1、R2均为H原子,即化合物A为:
具体进行示例说明。
上述化合物A的制备方法包括以下步骤:
步骤一:在带搅拌子、温度计、氮气保护的100mL的三口圆底烧瓶中加入10.1g平均组成为CF3O(CF2CF2O)q(CF2O)rCF2CH2OH(r、q之和为35-42)的含全氟聚醚基醇(数均分子量约3800)、15mL 1,3-二(三氟甲基)苯和5mL乙二醇二甲醚,置于冰水浴下,加入2.6g 50wt%的氢氧化钾水溶液,室温下搅拌反应2小时,接着向反应瓶加入6g对溴甲基苯甲酸甲酯和0.4g四丁基溴化铵,在50℃下搅拌反应3小时,经萃取洗涤和旋蒸得到10.2g无色透明产物,即为含全氟聚醚基苯甲酸甲酯化合物M1。
M1的化学式为:CF3O(CF2CF2O)q(CF2O)rCF2CH2OCH2C6H4COOCH3
参阅图1,以核磁共振波谱仪鉴定,化合物M1特征1H-NMR(溶剂:C6H6/CD3OD、基准:TMS)化学位移(δ,ppm)如下表所示:
参阅图2,以傅里叶变换红外光谱仪鉴定,化合物M1结构特征吸收峰如下表所示:
步骤二:在带搅拌子、恒压低液漏斗、氮气保护的100mL的三口圆底烧瓶中加入10.2g步骤一得到的M1,用30mL 9-氟丁基乙基醚(3M公司,以下简称HFE-7200)溶解,置于冰水浴下,搅拌下滴入9.5mL 1mol/L氢化铝锂四氢呋喃溶液,室温反应4小时,反应结束后,冰水浴下用水淬灭反应,再用5%的盐酸水溶液调节pH为酸性,然后用水和乙腈的混合液进行萃取洗涤,旋蒸得9.7g无色透明产物,即为含全氟聚醚基苄基醇化合物M2。M2的化学式为:CF3O(CF2CF2O)q(CF2O)rCF2CH2OCH2C6H4CH2OH
参阅图3,以核磁共振波谱仪鉴定,化合物M2特征1H-NMR(溶剂:C6H6/CD3OD、基准:TMS)化学位移(δ,ppm)如下表所示:
参阅图4,以傅里叶变换红外光谱仪鉴定,化合物M2结构特征吸收峰如下表所示:
步骤三:在带搅拌子、回流冷凝管的100mL圆底烧瓶中加入9.2g步骤二得到的M2和20mL 1,3-二(三氟甲基)苯,搅拌溶解,再加入1.2g碘化锌和1.3mL亚磷酸三乙酯,在120℃下回流反应12小时后,反应完全,冷却至室温,加入20mL HFE-7200,用5%的盐酸水溶液调节pH小于7,用水和甲醇的混合液进行萃取洗涤,旋蒸除去下层溶液溶剂得9.5g无色透明产物,即为含全氟聚醚磷酸乙酯化合物M3。
M3的化学式为:CF3O(CF2CF2O)q(CF2O)rCF2CH2OCH2C6H4CH2P(O)(OEt)2
参阅图5,以核磁共振波谱仪鉴定,化合物M3特征1H-NMR(溶剂:HFX/CDCl3、基准:TMS)化学位移(δ,ppm)如下表所示:
参阅图6,化合物M3特征31P-NMR(溶剂:HFX/CDCl3)化学位移(δ,ppm)如下表所示:
参阅图7,以傅里叶变换红外光谱仪鉴定,化合物M3结构特征吸收峰如下表所示:
步骤四:在带搅拌子、氮气保护的100mL圆底烧瓶中加入5g步骤三得到的M3,并用15mL HFE-7200和5mL乙腈溶解,加入1g三甲基溴硅烷,50℃下搅拌反应10小时,反应完全。冷却到室温再加入5mL甲醇反应1小时,反应结束,用5mL水和10mL乙腈进行萃取洗涤,重复三次,旋蒸除去下层溶液溶剂得4.4g粘稠透明产物,即为含全氟聚醚的磷酸化合物A。
参阅图8,以核磁共振波谱仪鉴定,化合物A特征1H-NMR(溶剂:HFX/CD3OD、基准:TMS)化学位移(δ,ppm)如下表所示:
参阅图9,化合物A特征31P-NMR(溶剂:HFX/CD3OD)化学位移(δ,ppm)如下表所示:
参阅图10,以傅里叶变换红外光谱仪鉴定,化合物A结构特征吸收峰如下表所示:
上述步骤的反应过程为:
实施例1
基材拋光氧化锆陶瓷片的清洗和活化工艺:将基材拋光氧化锆陶瓷片(深圳海德陶瓷)放于质量浓度10%氢氧化钠水溶液中超声清洗10分钟,超纯水冲洗2分钟后,浸于工业酒精中超声清洗15分钟,超纯水冲洗2分钟后,浸于超纯水中超声清洗15分钟,压缩空气吹干,在Ar:O2体积比为0.8:0.2下,plasma清洗10分钟。
基材拋光氧化锆陶瓷片表面的涂布工艺:将含全氟聚醚磷酸化合物A溶于HFE-7200配制成为5wt‰的表面处理剂,通过喷涂涂布方式,以3g/min的注液流量、0.8m/min的输送速度将表面处理剂覆盖于上述处理后的氧化锆陶瓷基材表面,经放于温度为150℃的环境下4小时固化,再放入到HFE-7200中超声10分钟后,再次通过喷涂涂布方式,再次固化,在氧化锆陶瓷基材表面形成处理层。
实施例2
实施例2与实施例1的不同之处在于:覆盖于不锈钢基材表面,其余实施步骤与实施例1相同。
实施例3
实施例3与实施例1的不同之处在于:覆盖于钛合金基材的表面,其余实施步骤与实施例1相同。
对比例1
对比例1采用专利US9971306 B2描述的一种含全氟聚醚偕二磷酸化合物(d1)和含全氟聚醚胺基化合物(d2)的组合物,该两种化合物相互作用形成离子对,可在玻璃和金属表面作表面处理剂应用。该组合物作用于不锈钢合金,得到的处理层水的静态接触角可达110°。d1和d2的化学式如下所示:
对实施例1-3得到的处理层进行静态接触角测试和无尘布耐磨性能测试,测试结果见表1和表2。
1.疏水疏油性的评价
利用接触角测定装置(北京哈科公司,HARKE-DWA)测定处理层对于水及正十六烷的静态接触角。
2.无尘布耐磨性能测试
无尘布:TX1009
负荷:0.25kg/cm2
移动行程:40mm
移动速度:60rpm
表1实施例1-3和对比例1的静态接触角测试结果
表2实施例1-3的无尘布耐磨性能测试结果
根据表1和表2的数据可知,实施例1-3的水静态接触角和正十六烷的静态接触角均大于对比例1,说明实施例1-3中表面处理剂在氧化锆陶瓷表面形成的处理层具有很好的防污性能。同时,对比例1中化合物(d1)和(d2)的组合物作用于其他金属或非金属时,其效果不佳。这也说明化合物A中的直链结构氟代烷基醚Rf和磷酸基团可以提高处理层表面的静态接触角。
经过多次耐磨测试,实施例1-3形成于基材表面的处理层的静态接触角变化幅度较小,说明含有化合物A中末端的磷酸基团能够牢固地与基材结合,提升了具有处理层的基材的耐磨耐久性。
以上实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照以上实施方式对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换都不应脱离本发明技术方案的精神和范围。
Claims (17)
1.一种含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,所述含全氟聚醚的磷酸化合物的通式A为:
在通式A中,Rf表示:
在Rf中,p、q和r分别独立,为0~200的整数,其中,p、q和r之和大于等于1;-CF2-、-C3F6O-、-C2F4O-和-CF2O-在Rf中的存在顺序是任意的,s为1至3的整数,t为0或1,Z表示氟原子或三氟甲基;
在通式A中,X1、X2分别独立,X1为-(CH2)a-、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基,或-CH(CH3)-,X2为-(CH2)b-、邻、间或对亚苯基,或邻、间或对亚苄基,或-CH(CH3)-;R1、R2分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基;
Q表示-O-、-S-、-C(O)O-、-CONR3-、-O-CONR3-、-NR3-、-Si(R4)2-、-(Si(R4)2O)c-Si(R4)2-、-C6H4-中的基团中一种或多种,a、b、c为1~20的整数;R3和R4分别独立,为H原子、碳原子个数为1~10的烷基或芳基;
m为1~3的整数。
2.如权利要求1所述的含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,Rf为CF3O(C2F4O)q(CF2O)rCF2-时,r、q的和为20~100。
3.如权利要求1所述的含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,m为1。
4.如权利要求1所述的含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,所述X1为-CH2-或-CH(CH3)-。
5.如权利要求1所述的含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,所述Q为-C6H4-。
6.如权利要求1所述的含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,所述X2为-CH2-或-CH(CH3)-。
7.如权利要求1所述的含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,R1,R2分别独立,为H或-C2H5。
8.如权利要求1所述的含全氟聚醚的磷酸化合物,其特征在于,所述含全氟聚醚的磷酸化合物的数均分子量为500~10,000。
9.一种表面处理剂,包括液态介质,其特征在于,所述表面处理剂还包括如权利要求1-8任一项所述的含全氟聚醚的磷酸化合物。
10.如权利要求9所述的表面处理剂,其特征在于,所述液态介质为氟类有机溶剂。
11.如权利要求10所述的表面处理剂,其特征在于,所述氟类有机溶剂为氢氟醚。
12.如权利要求9所述的表面处理剂,其特征在于,所述表面处理剂含有0.01-30wt%的含全氟聚醚的磷酸化合物。
13.如权利要求12所述的表面处理剂,其特征在于,所述表面处理剂含有0.05-20wt%的含全氟聚醚的磷酸化合物。
14.如权利要求13所述的表面处理剂,其特征在于,所述表面处理剂含有10-20wt%的含全氟聚醚的磷酸化合物。
15.一种物品,包括基材,其特征在于,所述物品还包括形成于所述基材表面的处理层,所述处理层由将如权利要求9-14项中任一项所述的表面处理剂覆盖于所述基材表面形成。
16.如权利要求15所述的物品,其特征在于,所述基材为非金属或金属。
17.如权利要求15所述的物品,其特征在于,所述处理层的水静态接触角大于等于110°。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116003770A (zh) * | 2022-12-23 | 2023-04-25 | 湖南柯盛新材料有限公司 | 一种全氟聚醚磷酸酯类化合物及其制备方法和应用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1839141A (zh) * | 2003-08-21 | 2006-09-27 | 3M创新有限公司 | 全氟聚醚酰胺连接的膦酸酯、磷酸酯和其衍生物 |
CN101679572A (zh) * | 2007-06-06 | 2010-03-24 | 3M创新有限公司 | 氟化组合物和由其制成的表面处理剂 |
CN106715634A (zh) * | 2014-09-17 | 2017-05-24 | 旭硝子株式会社 | 含有具有全氟聚醚基的磷酸酯化合物的基材用表面处理剂 |
JP2020019852A (ja) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 株式会社フロロテクノロジー | フッ素系グリースの基油拡散防止剤 |
CN112262170A (zh) * | 2018-06-14 | 2021-01-22 | 优迈特株式会社 | 全氟聚醚磷酸酯、其制造方法以及以其为有效成分的表面处理剂 |
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CN1839141A (zh) * | 2003-08-21 | 2006-09-27 | 3M创新有限公司 | 全氟聚醚酰胺连接的膦酸酯、磷酸酯和其衍生物 |
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Publication number | Publication date |
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