JP4716721B2 - 透明導電フィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Description
その結果、実用性に優れた透明導電フィルムを得ることが困難となる。
上記透明導電膜は、3回以上に分けて断続的にスパッタリングすることにより、3層以上のスパッタ層の積層体として形成されており、
上記透明導電膜の積層体のうち、表層のスパッタ層は他のスパッタ層に比べて酸化スズ(SnO 2 )の混入割合が高いことを特徴とする透明導電フィルムにある(請求項1)。
上記透明導電膜は、上述のごとく、3回以上に分けて断続的にスパッタリングすることにより、3層以上のスパッタ層の積層体として形成されている。このように、透明導電膜を1層とするよりも多層膜とした方が、歪み、発熱による焼けが少なく、またクラックも入りにくいため、透明導電膜の透明度を向上させることができ、ひいては透明度の高い透明導電フィルムを得ることができる。また、上記透明導電膜の応力を低減することができるため、透明導電フィルムの反りを抑制することができる。
また、本発明において重要なことは、上記透明導電膜の積層体のうち、表層のスパッタ層は他のスパッタ層に比べて酸化スズ(SnO 2 )の混入割合が高いことである。
これにより、全体として表面抵抗が低く、表面平滑性に優れた透明導電膜を有する透明導電フィルムを得ることができる。
上記ITOのスパッタリングを3回以上に分けて断続的に行い、3層以上のスパッタ層の積層体として上記透明導電膜を形成し、上記透明導電膜の積層体のうち、表層のスパッタ層は他のスパッタ層に比べて酸化スズ(SnO 2 )の混入割合が高いことを特徴とする透明導電フィルムの製造方法にある(請求項6)。
また、上述のごとく、透明導電膜の膜厚を大きくすることが可能となり、表面抵抗の小さい透明導電フィルムを得ることができる。
また、本発明において重要なことは、上記透明導電膜の積層体のうち、表層のスパッタ層は他のスパッタ層に比べて酸化スズ(SnO 2 )の混入割合が高いことである。
これにより、全体として表面抵抗が低く、表面平滑性に優れた透明導電膜を有する透明導電フィルムを得ることができる。
それ故、表層のスパッタ層におけるSnO2の混入割合を高くし、その他のスパッタ層におけるSnO2の混入割合を低くすることにより、全体として表面抵抗が低く、表面平滑性に優れた透明導電膜を得ることができる。
上記間隔が10秒未満の場合には、上記透明導電膜が、一度にスパッタリングして形成した場合と同様の結晶構造となり、3層以上の層構造となりにくく、本発明の作用効果を充分に得ることが困難となるおそれがある。一方、上記間隔が60秒を超える場合には、生産性が低下するおそれがある。
この場合には、表面抵抗が小さく、透明度が高く、かつ反りの生じ難い透明導電フィルムを確実に得ることができる。
上記膜厚が10nm未満の場合には、透明導電フィルムの表面抵抗を小さくすることが困難となるおそれがある。一方、上記膜厚が100nmを超える場合には、透明導電フィルムの透明度の向上、反りの抑制が困難となるおそれがある。
この場合には、透明度の高い透明導電フィルムを、容易かつ安価に得ることができる。
この場合には、上記基材フィルムと上記透明導電膜との間の密着性を確保して、耐久性に優れた透明導電フィルムを得ることができる。また、上記接着剤層によって、基材フィルムと上記透明導電膜との間の応力を緩和し、透明導電膜にクラックが入ることを防ぐことができる。
また、上記基材フィルム2の厚みは、例えば25〜188μmとすることができる。上記厚みが25μm未満の場合には、透明導電フィルムの強度を充分に確保することが困難となるおそれがある。一方、上記厚みが188μmを超える場合には、透明導電フィルムの透明度が低下するおそれがある。
この場合には、一層耐久性に優れた透明導電フィルムを得ることができる。
上記表面エネルギーが30mN/m未満の場合には、上記基材フィルムと上記透明導電膜との間の密着性を確保して、透明導電フィルムの耐久性を確保することが困難となるおそれがある。一方、上記表面エネルギーが80mN/mを超える場合には、透明導電フィルムの製造が困難となるおそれがある。
本例の透明導電フィルム1は、図1に示すごとく、透明な基材フィルム2と、該基材フィルム2の表面にスパッタリングにより形成したITOからなる透明導電膜3とを有する。
該透明導電膜3は、3回に分けて断続的にスパッタリングすることにより、3層のスパッタ層、即ち第1スパッタ層31と第2スパッタ層32と第3スパッタ層33との積層体として形成されている。
10〜100nmの膜厚を有する。
また、上記基材フィルム2は、PET(ポリエチレンテレフタレート)からなる。
また、上記基材フィルム2と上記透明導電膜3との間には、ポリエステル系の接着剤層4が介在している。該接着剤層4としてはポリエステル系を用いる。また、接着剤層4は、表面エネルギーが30〜80mN/mである。
まず、厚み25〜188μmのPETからなる基材フィルム2を用意する。そして、該基材フィルム2の表面にポリエステル系の接着剤層4を、ロールコーター法等の手段により、0.2μmの膜厚で形成する。
スパッタリングに当っては、まず、スパッタ装置のチャンバ内に、接着剤層4を設けた基材フィルム2をセットする。即ち、図2に示すごとく、長尺の基材フィルム2を、スパッタ装置のチャンバ内の台座ドラム51に沿わせるにようにして配置する。
次いで、図2の矢印Aに示すように基材フィルム2を0.5〜5m/分の搬送速度で移動させながら、第1のITOターゲット521により2〜3W/cm2の出力にて、スパッタリングを1〜5秒間行う。これにより、膜厚40nmのITOからなる第1スパッタ層31を形成する。
次いで、第2のITOターゲット522により、2〜3W/cm2の出力にて、スパッタリングを1〜5秒間行う。これにより、膜厚40nmのITOからなる第2スパッタ層32を形成する。
以上により、図1に示すごとく、3層のスパッタ層の積層体として、膜厚120nmの透明導電膜3が得られ、基材フィルム2の表面に接着剤層4を介して透明導電膜3が積層された透明導電フィルム1が得られる。
なお、上記各条件等は単なる一例であり、本発明は、これに限定されない。
上記透明導電膜3は、上述のごとく、3回に分けて断続的にスパッタリングすることにより、図1に示すごとく、3層のスパッタ層、即ち第1スパッタ層31、第2スパッタ層32、第3スパッタ層33の積層体として形成されている。このように、透明導電膜3を1層とするよりも多層膜とした方が、歪み、発熱による焼けが少なく、またクラックも入りにくいため、透明導電膜3の透明度を向上させることができ、ひいては透明度の高い透明導電フィルム1を得ることができる。
即ち、例えば透明導電フィルム1の透明度を従来に対して約5%向上させることができる。この透明度の比較は、光線透過率を測定することにより行うことができる。
即ち、例えば、透明導電フィルム1の反り量を5%未満にすることができる。即ち、10cm当りの反り上がり高さを5mm未満とすることができる。
また、上記基材フィルム2は、PETからなるため、透明度の高い透明導電フィルム1を、容易かつ安価に得ることができる。
また、上記接着剤層4は、表面エネルギーが30〜80mN/mであるため、一層耐久性に優れた透明導電フィルム1を得ることができる。
2 基材フィルム
3 透明導電膜
31 第1スパッタ膜
32 第2スパッタ膜
33 第3スパッタ膜
4 接着剤層
Claims (10)
- 透明な基材フィルムと、該基材フィルムの表面にスパッタリングにより形成したITOからなる透明導電膜とを有する透明導電フィルムであって、
上記透明導電膜は、3回以上に分けて断続的にスパッタリングすることにより、3層以上のスパッタ層の積層体として形成されており、
上記透明導電膜の積層体のうち、表層のスパッタ層は他のスパッタ層に比べて酸化スズ(SnO 2 )の混入割合が高いことを特徴とする透明導電フィルム。 - 請求項1において、上記各スパッタ層は、それぞれ10〜100nmの膜厚を有することを特徴とする透明導電フィルム。
- 請求項1又は2において、上記基材フィルムは、PETからなることを特徴とする透明導電フィルム。
- 請求項1〜3のいずれか一項において、上記基材フィルムと上記透明導電膜との間には、ポリエステル系の接着剤層が介在していることを特徴とする透明導電フィルム。
- 請求項4において、上記接着剤層は、表面エネルギーが30〜80mN/mであることを特徴とする透明導電フィルム。
- 透明な基材フィルムの表面にITOをスパッタリングすることより透明導電膜を形成して透明導電フィルムを製造する方法において、
上記ITOのスパッタリングを3回以上に分けて断続的に行い、3層以上のスパッタ層の積層体として上記透明導電膜を形成し、上記透明導電膜の積層体のうち、表層のスパッタ層は他のスパッタ層に比べて酸化スズ(SnO 2 )の混入割合が高いことを特徴とする透明導電フィルムの製造方法。 - 請求項6において、上記各スパッタ層は、それぞれ10〜100nmの膜厚を有することを特徴とする透明導電フィルムの製造方法。
- 請求項6又は7において、上記基材フィルムは、PETからなることを特徴とする透明導電フィルムの製造方法。
- 請求項6〜8のいずれか一項において、上記基材フィルムと上記透明導電膜との間には、ポリエステル系の接着剤層を介在させることを特徴とする透明導電フィルムの製造方法。
- 請求項9において、上記接着剤層は、表面エネルギーが30〜80mN/mであることを特徴とする透明導電フィルムの製造方法。
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