JP4686962B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4686962B2 JP4686962B2 JP2003198880A JP2003198880A JP4686962B2 JP 4686962 B2 JP4686962 B2 JP 4686962B2 JP 2003198880 A JP2003198880 A JP 2003198880A JP 2003198880 A JP2003198880 A JP 2003198880A JP 4686962 B2 JP4686962 B2 JP 4686962B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rewiring
- layer
- base metal
- metal layer
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/11—Manufacturing methods
Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体装置には、一般的にCSP(chip size package)と呼ばれるもので、シリコン基板上に形成された再配線の接続パッド部上面に柱状電極を形成し、再配線を含む半導体基板上に封止膜をその上面が柱状電極の上面と面一となるように形成したものがある(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−57291号公報
【0004】
この特許文献1に記載された半導体装置の製造方法では、ウエハ状態のシリコン基板上に形成された下地金属層の上面に開口部を有する第1のメッキレジスト膜を形成し、銅の電解メッキにより、第1のメッキレジスト膜の開口部内の下地金属層の上面に再配線(第2の導体層)を形成し、次いで、第1のメッキレジスト膜を剥離し、次いで、再配線を含む下地金属層の上面に開口部を有する第2のメッキレジスト膜を形成し、銅の電解メッキにより、第2のメッキレジスト膜の開口部内の再配線の接続パッド部上面に柱状電極を形成し、次いで、第2のレジスト膜を剥離している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の半導体装置の製造方法では、銅の電解メッキにより再配線を形成した後に第1のメッキレジスト膜を剥離しているが、このように再配線を形成した後にメッキレジスト膜を剥離すると、再配線の表面がレジスト剥離液に曝されて変質し、この表面が変質した再配線の接続パッド部上面に銅の電解メッキにより柱状電極を形成すると、柱状電極の再配線の接続パッド部上面に対する密着性が著しく低下してしまうことが確認された。ここで、銅からなる再配線の表面の変質層をエッチングして除去するようにすることが考えられるが、同時に銅からなる下地金属層もエッチングされるため、特に、ウエハ状態のシリコン基板の周辺部に形成された、膜厚むら等により比較的薄い下地金属層がほとんど除去されてしまうことがあり、ひいては柱状電極を形成するための銅の電解メッキに悪影響を与えることがあった。
【0006】
そこで、この発明は、再配線の上面が変質しないようにすることができ、あるいは、再配線の表面の変質層を除去しても柱状電極を形成するための銅の電解メッキに悪影響を与えないようにすることができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、半導体基板上に下地金属層を形成し、該下地金属層上に該下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより再配線を形成し、該再配線の接続パッド部上に前記下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより柱状電極を形成する半導体装置の製造方法において、前記再配線を前記下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、前記再配線および前記メッキレジスト膜の上面に、対応するエッチング液が前記再配線の表面状態に影響を与えにくい金属薄膜を形成し、次いで、前記メッキレジスト膜をその上に形成された前記金属薄膜と共にレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、前記再配線上に形成された前記金属薄膜を前記対応するエッチング液によりエッチングして除去することを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記下地金属層をTi層とCu層との2層に形成することを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記金属薄膜をスパッタまたは蒸着により形成することを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、前記金属薄膜をTi、Ti−W、Crのいずれかによって形成することを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明は、請求項4に記載の発明において、前記金属薄膜を膜厚500〜3000Åに形成することを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明は、半導体基板上にTi層上にCu層を形成した2層構造の下地金属層を形成し、該下地金属層上に該下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより再配線を形成し、該再配線の接続パッド部上に前記下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより柱状電極を形成する半導体装置の製造方法において、前記再配線を前記下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、前記メッキレジスト膜をレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、前記レジスト剥離液に曝された前記再配線の表面に形成された変質層を除去し、次いで、前記再配線および前記下地金属層の表面に銅薄膜を形成することを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の発明において、前記銅薄膜をスパッタまたは蒸着により形成することを特徴とするものである。
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、前記銅薄膜をその膜厚が前記再配線の表面の変質層を除去した膜厚と同程度となるように形成することを特徴とするものである。
請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の発明において、前記銅薄膜を膜厚500〜6000Åに形成することを特徴とするものである。
そして、請求項1に記載の発明によれば、再配線を下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、再配線およびメッキレジスト膜の上面に、対応するエッチング液が再配線の表面状態に影響を与えにくい金属薄膜を形成し、次いで、メッキレジスト膜をその上に形成された金属薄膜と共にレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、再配線上に形成された金属薄膜を上記対応するエッチング液によりエッチングして除去しているので、再配線の上面がレジスト剥離液に曝されることがなく、したがって再配線の上面が変質しないようにすることができる。
また、請求項6に記載の発明によれば、再配線をTi層上にCu層を形成した2層構造の下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、メッキレジスト膜をレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、レジスト剥離液に曝された再配線の表面に形成された変質層を除去し、次いで、再配線および下地金属層の表面に銅薄膜を形成しているので、再配線の表面の変質層を除去しても柱状電極を形成するための銅の電解メッキに悪影響を与えないようにすることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明の一実施形態としての製造方法により製造された半導体装置の断面図を示す。この半導体装置は、一般的にCSPと呼ばれるものであり、シリコン基板(半導体基板)1を備えている。シリコン基板1の上面中央部には所定の機能の集積回路(図示せず)が設けられ、上面周辺部にはアルミニウム系金属等からなる複数の接続パッド2が集積回路に接続されて設けられている。接続パッド2の中央部を除くシリコン基板1の上面には酸化シリコン等からなる絶縁膜3が設けられ、接続パッド2の中央部は絶縁膜3に設けられた開口部4を介して露出されている。
【0009】
絶縁膜3の上面にはエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる保護膜5が設けられている。この場合、絶縁膜3の開口部4に対応する部分における保護膜5には開口部6が設けられている。保護膜5の上面の所定の箇所には銅等からなる下地金属層7が両開口部4、6を介して接続パッド2に接続されて設けられている。下地金属層7の上面全体には銅からなる再配線8が設けられている。
【0010】
再配線8の接続パッド部上面には銅からなる柱状電極9が設けられている。再配線8を含む保護膜5の上面にはエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる封止膜10がその上面が柱状電極9の上面と面一となるように設けられている。封止膜10から露出された柱状電極9の上面には半田ボール11が設けられている。
【0011】
次に、この半導体装置の製造方法について説明する。まず、図2に示すように、ウエハ状態のシリコン基板(半導体基板)1上にアルミニウム系金属等からなる接続パッド2、酸化シリコン等からなる絶縁膜3およびエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる保護膜5が設けられ、接続パッド2の中央部が絶縁膜3および保護膜5に形成された開口部4、6を介して露出されたものを用意する。この場合、ウエハ状態のシリコン基板1には、各半導体装置が形成される領域に所定の機能の集積回路が形成され、接続パッド2は、それぞれ、対応する領域に形成された集積回路に電気的に接続されている。
【0012】
次に、図3に示すように、両開口部4、6を介して露出された接続パッド2の上面を含む保護膜5の上面全体に下地金属層7を形成する。この場合、下地金属層7は、詳細には図示していないが、スパッタまたは蒸着により形成したTi層上にスパッタまたは蒸着によりCu層を形成した2層構造となっている。
【0013】
次に、下地金属層7の上面にメッキレジスト膜21をパターン形成する。この場合、再配線8形成領域に対応する部分におけるメッキレジスト膜21には開口部22が形成されている。次に、下地金属層7をメッキ電流路とした銅の電解メッキを行なうと、メッキレジスト膜21の開口部22内の下地金属層7の上面に再配線8が形成される。
【0014】
次に、図4に示すように、再配線8およびメッキレジスト膜21の上面にTi薄膜23をスパッタまたは蒸着により膜厚500〜3000Åに形成する。次に、レジスト剥離液を用いて、メッキレジスト膜21をその上に形成されたTi薄膜23と共に剥離する。すなわち、メッキレジスト膜21上に形成されたTi薄膜23は、所謂リフトオフされ、メッキレジスト膜21と共に除去される。したがって、この状態では、図5に示すように、再配線8の上面にのみTi薄膜23が残存されている。
【0015】
このように、レジスト剥離液を用いてメッキレジスト膜21を剥離するとき、再配線8の上面はTi薄膜23で覆われているため、再配線8の上面がレジスト剥離液に曝されることはない。したがって、再配線8の上面が変質することはなく、後述の如く、再配線8の接続パッド部上面に銅の電解メッキにより柱状電極9を形成しても、柱状電極9の再配線8の接続パッド部上面に対する密着性を良くすることができる。
【0016】
次に、Ti薄膜23をエッチングして除去する(図6参照)。この場合、Tiエッチング液として、後述の如く、下地金属層7のうちのTi層をエッチングするときに用いるものと同じである、過酸化水素とアルカリ系の水溶液を用いると、再配線8の上面が変質することはなく、また、銅からなる再配線8および下地金属層7のうちのCu層はほとんどエッチングされることはない。
【0017】
次に、図7に示すように、再配線8を含む下地金属層7の上面にメッキレジスト膜24をパターン形成する。この場合、柱状電極9形成領域に対応する部分におけるメッキレジスト膜24には開口部25が形成されている。次に、下地金属層7をメッキ電流路とした銅の電解メッキを行なうと、メッキレジスト膜24の開口部25内の再配線8の接続パッド部上面に柱状電極9が形成される。
【0018】
次に、メッキレジスト膜24をレジスト剥離液を用いて剥離する。この場合、再配線8の接続パッド部上面には既に柱状電極9が形成されているため、再配線8の接続パッド部上面がレジスト剥離液に曝されることはない。なお、再配線8の接続パッド部上面以外の表面はレジスト剥離液に曝されて変質するが、再配線8の接続パッド部上面以外の表面が変質しても何ら支障はない。
【0019】
次に、柱状電極9および再配線8をマスクとして下地金属層7の不要な部分をエッチングして除去すると、図8に示すように、再配線8下にのみ下地金属層7が残存される。この場合、Cuエッチング液としては硫化物塩系水溶液を用い、Tiエッチング液としては過酸化水素とアルカリ系の水溶液を用いる。
【0020】
次に、図9に示すように、印刷法やトランスファモールド法等により、柱状電極9および再配線8を含む保護膜5の上面全体にエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる封止膜10をその厚さが柱状電極9の高さよりも厚くなるように形成する。したがって、この状態では、柱状電極9の上面は封止膜10によって覆われている。
【0021】
次に、封止膜10および柱状電極9の上面側を適宜に研磨し、図10に示すように、柱状電極9の上面を露出させ、且つ、この露出された柱状電極9の上面を含む封止膜10の上面を平坦化する。次に、図11に示すように、封止膜9から露出された柱状電極9の上面に半田ボール11を形成する。次に、図12に示すように、ダイシング工程を経ると、図1に示す半導体装置が複数個得られる。
【0022】
なお、Ti薄膜23の代わりに、対応するエッチング液が銅からなる再配線8の表面状態に影響を与えにくい金属、例えば、Ti−W合金薄膜やCr薄膜を膜厚500〜3000Åに形成するようにしてもよい。この場合、Ti−W合金エッチング液としては過酸化水素を用い、Crエッチング液としては硝酸ニアンモニウムセリウム(IV)と過塩素酸との混合液あるいは硝酸ニアンモニウムセリウム(IV)と硝酸との混合液を用いる。
【0023】
また、図3に示す工程後に、メッキレジスト膜21をレジスト剥離液を用いて剥離してもよい(図13参照)。ただし、この場合、再配線8の表面がレジスト剥離液に曝されて変質する。そこで、次に、図14に示すように、再配線8の表面の変質層をエッチングして除去する。この場合、再配線8下以外の領域における下地金属層7のうちのCu層もエッチングされるため、特に、ウエハ状態のシリコン基板1の周辺部に形成された、膜厚むら等により比較的薄い下地金属層7のうちのCu層がほとんど除去されても、下地金属層7のうちのTi層は残存される。
【0024】
次に、図15に示すように、スパッタまたは蒸着により、上面全体にCu薄膜31を膜厚500〜6000Åに形成する。すなわち、再配線8の表面の変質層をエッチングして除去した膜厚と同程度の膜厚だけ、上面全体にCu薄膜31を形成し、Cu薄膜31を含む、再配線8の膜厚および下地金属層7のうちのCu層の膜厚を元の膜厚程度とする。
【0025】
このように、Cu薄膜31を含む、再配線8の膜厚および下地金属層7のうちのCu層の膜厚を元の膜厚程度としているため、再配線8の表面の変質層を除去しても、柱状電極を形成するための銅の電解メッキに悪影響を与えないようにすることができる。以下、図7に示す工程に続く。
【0026】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に記載の発明によれば、再配線を下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、再配線およびメッキレジスト膜の上面に、対応するエッチング液が再配線の表面状態に影響を与えにくい金属薄膜を形成し、次いで、メッキレジスト膜をその上に形成された金属薄膜と共にレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、再配線上に形成された金属薄膜を上記対応するエッチング液によりエッチングして除去しているので、再配線の上面がレジスト剥離液に曝されることがなく、したがって再配線の上面が変質しないようにすることができる。
また、請求項6に記載の発明によれば、再配線をTi層上にCu層を形成した2層構造の下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、メッキレジスト膜をレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、レジスト剥離液に曝された再配線の表面に形成された変質層を除去し、次いで、再配線および下地金属層の表面に銅薄膜を形成しているので、再配線の表面の変質層を除去しても柱状電極を形成するための銅の電解メッキに悪影響を与えないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態としての製造方法により製造された半導体装置の断面図。
【図2】図1に示す半導体装置の製造に際し、当初用意したものの断面図。
【図3】図2に続く工程の断面図。
【図4】図3に続く工程の断面図。
【図5】図4に続く工程の断面図。
【図6】図5に続く工程の断面図。
【図7】図6に続く工程の断面図。
【図8】図7に続く工程の断面図。
【図9】図8に続く工程の断面図。
【図10】図9に続く工程の断面図。
【図11】図10に続く工程の断面図。
【図12】図11に続く工程の断面図。
【図13】この発明の他の実施形態としての製造方法において、所定の工程の断面図。
【図14】図13に続く工程の断面図。
【図15】図14に続く工程の断面図。
【符号の説明】
1 シリコン基板
2 接続パッド
3 絶縁膜
5 保護膜
7 下地金属層
8 再配線
9 柱状電極
10 封止膜
11 半田ボール
21 メッキレジスト膜
23 Ti薄膜
24 メッキレジスト膜
31 Cu薄膜
Claims (9)
- 半導体基板上に下地金属層を形成し、該下地金属層上に該下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより再配線を形成し、該再配線の接続パッド部上に前記下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより柱状電極を形成する半導体装置の製造方法において、前記再配線を前記下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、前記再配線および前記メッキレジスト膜の上面に、対応するエッチング液が前記再配線の表面状態に影響を与えにくい金属薄膜を形成し、次いで、前記メッキレジスト膜をその上に形成された前記金属薄膜と共にレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、前記再配線上に形成された前記金属薄膜を前記対応するエッチング液によりエッチングして除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記下地金属層をTi層とCu層との2層に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記金属薄膜をスパッタまたは蒸着により形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項3に記載の発明において、前記金属薄膜をTi、Ti−W、Crのいずれかによって形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項4に記載の発明において、前記金属薄膜を膜厚500〜3000Åに形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 半導体基板上にTi層上にCu層を形成した2層構造の下地金属層を形成し、該下地金属層上に該下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより再配線を形成し、該再配線の接続パッド部上に前記下地金属層をメッキ電流路とした銅の電解メッキにより柱状電極を形成する半導体装置の製造方法において、前記再配線を前記下地金属層上に形成したメッキレジスト膜を用いて形成した後に、前記メッキレジスト膜をレジスト剥離液を用いて剥離し、次いで、前記レジスト剥離液に曝された前記再配線の表面に形成された変質層を除去し、次いで、前記再配線および前記下地金属層の表面に銅薄膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項6に記載の発明において、前記銅薄膜をスパッタまたは蒸着により形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項7に記載の発明において、前記銅薄膜をその膜厚が前記再配線の表面の変質層を除去した膜厚と同程度となるように形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項8に記載の発明において、前記銅薄膜を膜厚500〜6000Åに形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003198880A JP4686962B2 (ja) | 2003-07-18 | 2003-07-18 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003198880A JP4686962B2 (ja) | 2003-07-18 | 2003-07-18 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005038979A JP2005038979A (ja) | 2005-02-10 |
JP4686962B2 true JP4686962B2 (ja) | 2011-05-25 |
Family
ID=34208490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003198880A Expired - Fee Related JP4686962B2 (ja) | 2003-07-18 | 2003-07-18 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4686962B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10950539B2 (en) | 2018-09-13 | 2021-03-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Redistribution substrate, method of fabricating the same, and semiconductor package including the same |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5119756B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2013-01-16 | 株式会社デンソー | 配線基板 |
KR100780960B1 (ko) | 2006-09-22 | 2007-12-03 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자의 배선 및 범프의 형성 방법 |
JP4533436B2 (ja) | 2008-02-22 | 2010-09-01 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07161723A (ja) * | 1993-12-09 | 1995-06-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 金属パターンの形成方法 |
JPH10261663A (ja) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003258047A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-09-12 | Hitachi Ltd | 半導体素子の検査方法およびそのシステム |
-
2003
- 2003-07-18 JP JP2003198880A patent/JP4686962B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07161723A (ja) * | 1993-12-09 | 1995-06-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 金属パターンの形成方法 |
JPH10261663A (ja) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003258047A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-09-12 | Hitachi Ltd | 半導体素子の検査方法およびそのシステム |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10950539B2 (en) | 2018-09-13 | 2021-03-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Redistribution substrate, method of fabricating the same, and semiconductor package including the same |
US11600564B2 (en) | 2018-09-13 | 2023-03-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Redistribution substrate, method of fabricating the same, and semiconductor package including the same |
US11973028B2 (en) | 2018-09-13 | 2024-04-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Redistribution substrate, method of fabricating the same, and semiconductor package including the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005038979A (ja) | 2005-02-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3848080B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR100714818B1 (ko) | 반도체 장치 및 그 제조 방법 | |
US20030102551A1 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing | |
TW200832641A (en) | Semiconductor device having projecting electrode formed by electrolytic plating, and manufacturing method thereof | |
JP3945380B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US7879714B2 (en) | Semiconductor device manufacturing method | |
JP2004273591A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
WO2009016495A1 (en) | Semiconductor device having a bump electrode and method for its manufacture | |
JP2004349610A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4492621B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2019083250A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP4686962B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20060244109A1 (en) | Method for fabricating connection regions of an integrated circuit, and integrated circuit having connection regions | |
JP4506767B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2008244383A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP6137454B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2007258629A (ja) | チップサイズパッケージの製造方法 | |
JP4134770B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4725626B2 (ja) | 電子装置の製造方法 | |
JP2004071872A (ja) | 電子装置 | |
JP5170915B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP5095991B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3298570B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2012253189A (ja) | 半導体装置の製造方法、及び半導体装置 | |
JP4126392B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060208 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060405 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060705 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080519 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100629 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100827 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110131 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |