JP4684378B2 - 有機elディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光層への電荷の注入時に光を発する有機EL素子からなる有機EL(electroluminescent)ディスプレイパネルに関する。
【0002】
【従来の技術】
最近では、有機発光ダイオード(Light Emitting Diode: LED)とも呼ばれる有機EL素子の技術が速い速度で発展しており、既にいくつかの試製品が発表されている。
【0003】
有機EL素子は、非常に薄く、マトリックス状にアドレス可能であり、15V以上の低電圧でも駆動可能であるという長所があった。また、有機EL素子は、視野角が広く、プラスティックのような可撓性(flexible)透明基板上にも形成可能であり、このため次代の平板ディスプレイ(Flat Panel Display: FPD)に適した素子である。更に、よく知られているLCD(Liquid Crystal Display)に比べてバックライト(backlight)を必要としないため、電力消耗が少ないという長所もあった。
【0004】
上記のような長所を持つ有機EL素子は、一般的に無機EL素子とは動作原理の面で大きな違いがある。
【0005】
無機EL素子は、高い電界によって加速された電子が発光体(luminescent impurity)に衝突して励起され、励起された発光体が基底状態に落ちながら発光するのに対して、有機EL素子は、陰極及び陽極から各々注入された電子と正孔とが結合して生成されたエクスィトン(exciton)が励起状態から基底状態に落ちながら発光する。このような有機EL素子は、今まで発光効率を改善させ且つ多様な色を作り出すために活発に研究されてきた。また、今後有機EL素子の商業化のために生産性、均一性、信頼性等の研究に更に努力を注がなければならない。
【0006】
有機ELディスプレイパネルを駆動する最も簡単な方法は、図1に示すようにシンプルパッシブマトリックス(simple passive matrix)方式であり、直交する二つの電極の間に有機EL層を形成する構造を有する。この駆動方式では、各々の有機EL素子がディスプレイ素子とスイッチング素子の役割を共に行う。このような駆動モードでは、各々の有機EL素子がダイオードのような非線形電流−電圧の特性を有するため、理論的にはマルチプレックス(multiplexing)による駆動が可能である。
【0007】
一方、有機EL素子を商業化するにあたって解決すべき問題は、ピクセレーション(pixellation)及びパターニング(patterning)技術である。その理由は、既存のピクセレーション技術が、ソルベントに弱い性質を有する有機物質によって多く制約されるからである。
【0008】
既存のピクセレーション方法のうち、最も簡単な方法はシャドーマスク(shadow mask)を利用する方法である。
【0009】
図1及び図2に示すように、透光性基板1上に第1電極2を帯(stripe)形状に形成した後、第1電極2上に順次積層された有機EL層3上にシャドーマスク(shadow mask)5の開口を通じて第2電極4を帯形状に形成し、有機ELディスプレイパネルをピクセレーションする。
【0010】
しかしながら、シャドーマスクを用いたピクセレーション方法は、微細なピクセルを製造するのには不適であり、解像度を高めるに限界があった。
【0011】
このため、図3に示すように、米国特許第5、701、055号では、電気絶縁隔壁6を利用して微細なピクセルを形成する方法が提案されている。これは、主として単色(monochrome)の有機ELディスプレイパネルを形成するのに用いられる。
【0012】
一方、マルチカラー(multi-color)又はフルカラー(full-color)の有機ELディスプレイパネルを作る方法は単色の有機ELディスプレイパネルを作る方法に比べて多少複雑である。日本特開平8−315、981号公報では、図4a〜図4dに示すように、シャドーマスクを用いて赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の光を発する物質を別々に蒸着させる方法を提案している。
【0013】
まず、隔壁6表面の上部に複数個の開口を有するシャドーマスク5−1、5−2、5−3を設け、対応する隔壁6の間に各開口を整列させ、前記開口を通じて順次に一つずつ赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の有機EL層4−1、4−2、4−3を蒸着する。そして、有機EL層4−1、4−2、4−3及び隔壁6上に少なくとも一つの第2電極層3を形成して、フルカラーの有機ELディスプレイパネルを制作する。
【0014】
上記方法は、解像度(resolution)やサイズ(size)の面では適する。しかし、サイズが増加し、ピッチ(pitch)が減少すると、以下のような問題が生じる。
【0015】
第1に、微細なパターンを有するシャドーマスクの制作が難しい。
【0016】
第2に、隔壁上にシャドーマスクを整列し難い。
【0017】
このため、この後、シャドーマスクを用いないピクセル形成方法が提案されたが、米国特許第5、693、962号、日本特開平9−293、589号に開示されている。
【0018】
米国特許5、693、962号は図5aから図5cに示す通りである。
【0019】
まず、第1のサブピクセルの製造工程を説明する。
【0020】
図5aに示すように、透光性基板11上に有機又は無機導電体層を蒸着し、一般的なリソグラフィー(lithography)技術を利用して前記導電体層をパターニングし、複数個の水平の第1電極である導電帯12を形成する。そして、導電帯12上に有機媒介層13を蒸着し、基板11の一定領域を露出させた後、フォトレジスト層14−1をスピンコーティング(spin-coating)し、乾式又は湿式食刻工程で有機媒介層13をパターニングする。次いで、有機EL層16−1を積層し、有機EL層16−1上に金属を蒸着し、サブピクセルのキャップ層17−1を形成した後、リフトオフ(lift-off)工程でフォトレジスト層14−1を除去する。
【0021】
ここで、リフトオフ工程時に、アセトン(acetone)又は食刻溶液(stripping solution)が使用されるが、これらはキャップ層17−1を介して有機EL層16−1へ浸透するようになる。これが素子に大きな悪影響を及ぼすことではないが、キャップ層17−1として用いられる金属と有機物質との間に相対的に接着力が落ちることになる。
【0022】
次いで、図5b及び図5cに示すように、上記と同様に、第2、第3のサブピクセルを製造する。
【0023】
一方、日本特開平9−293、589号は図6aから図6jに示す通りである。 図6aに示すように、透光性基板21上に第1電極22、有機EL層23、第2電極24、保護膜25を順次形成し、図6bに示すように保護膜25上にフォトレジスト26をスピンコーティングした後、図6c、図6dに示すように赤色のサブピクセルをパターニングする。
【0024】
そして、上記と同様にして、図6eから図6gに示すように緑色のサブピクセルを形成し、図6hから図6jに示すように青色のサブピクセルを形成する。
【0025】
しかし、上記したような製造方法では、ピクセルがフォトレジストのソルベントに露出されるため、素子に悪影響を及ぼす。このフォトレジストの悪影響を防ぐためには、フォトリソグラフィック(photolithographic)工程を理解する必要があり、典型的なフォトリソグラフィック工程は以下の通りである。
【0026】
まず、基板上にフォトレジスト溶液をスピンコーティングし、ソフトベーキング(soft−baking)した後、紫外線に露出させる。それから、現像(developing)し、ハードベーキング(hard−baking)する。この後、フォトレジストの形成された基板にエッチング工程が行われ、再びフォトレジスト除去工程が行われる。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来の方法において、有機ELディスプレイパネルのピクセルは現像及び食刻溶液又はフォトレジストの様々なソルベントに露出されるより他はない。これらのソルベントの影響に起因して有機EL層が損なわれ、素子の性能が大幅に低下する。
【0028】
本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、その目的は、シャドーマスクを使用せず、現像及び食刻溶液又はフォトレジストの様々なソルベントに露出されることなく簡単にピクセレーションすることのできる有機ELディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【0029】
【課題を解決するための手段】
この発明は、透光性基板上に第1電極、絶縁膜を順次積層する第1ステップと、1又は複数のレーザビームで所定領域の絶縁膜を選択的に除去する第2ステップと、前記絶縁膜を含む所定領域に、正孔輸送層および発光層を有する有機EL層、第2電極を順次積層する第3ステップと、第2ステップと第3ステップを1回または数回繰り返し行う第4ステップとを備えることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方法にある。
また、前記第4ステップ後、隣接する二つのサブピクセルの間の絶縁膜上に形成された有機EL層及び第2電極を、1又は複数のレーザビームを用いて2部分に断ち切るステップを更に備えることを特徴とする。
また、前記絶縁膜と第1電極との間にはバッファ層が形成されることを特徴とする。
また、前記バッファ層は、絶縁性のよい無機物又は有機物で形成されることを特徴とする。
また、前記第1ステップ後、前記絶縁膜のソルベント及び湿気を除去することを特徴とする。
また、前記絶縁膜の厚さは0.1〜100μmであることを特徴とする。
また、前記第2ステップは、真空又は乾燥した不活性気体雰囲気下で行われることを特徴とする。
また、前記第4ステップ後、前記基板の所定領域に保護膜を形成することを特徴とする。
また、前記保護膜は吸湿剤又はその混合物を含むことを特徴とする。
【0031】
また、透光性基板上に第1電極、絶縁膜を順次積層する第1ステップと、1又は複数のレーザビームで所定領域の絶縁膜を選択的に除去する第2ステップと、前記絶縁膜を含む所定領域に、正孔輸送層および発光層を有する有機EL層、第2電極、第1保護膜を順次積層する第3ステップと、前記第2ステップと第3ステップを1回または数回繰り返し行う第4ステップとを備えることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方法にある。
また、前記第3ステップで形成された第1保護膜は、吸湿剤またはその混合物を含むことを特徴とする。
また、前記絶縁膜と第1電極との間にはバッファ層が形成されることを特徴とする。
また、前記第1ステップ後、前記絶縁膜のソルベント及び湿気を除去することを特徴とする。
また、前記第4ステップ後、前記基板の所定領域に前記第1保護膜と異なる第2保護膜を形成することを特徴とする。
また、前記第2保護膜は吸湿剤又はその混合物を含むことを特徴とする。
【0055】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による有機ELディスプレイパネルの製造方法を添付図面に基づいて説明する。
【0056】
本発明の概念は、複数の第1、第2電極の間に有機EL層を有する有機ELディスプレイパネルを製造する際、ピクセレーションのためのシャドーマスクを使用せず、現像及び食刻溶液又はフォトレジストのいろいろのソルベントにピクセルが露出されることのないようにレーザビームを利用して簡単にピクセレーション(pixellation)することにある。
【0057】
実際に有機ELディスプレイパネルを制作するにあたっては、複数個のR(red)、G(green)、B(blue)のサブピクセル(sub-pixel)を形成するが、便宜上R、G、Bの各1つずつのサブピクセルの製造工程のみを説明する。
【0058】
図7aから図7hは本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す工程断面図である。
【0059】
図7aに示すように、透光性基板101上にITO(Indium Tin Oxide)等の透明層をパターニングして第1電極102の帯を形成し、その上に第1電極102の帯に垂直な方向に電気絶縁バッファ層103の帯を形成する。このバッファ層103は、後で発光しない部分であり、漏洩電流を減少させるのに寄与し、後工程で形成される第2電極が第1電極102にショート(short)されないように絶縁させる役割を果たす。バッファ層103として使用される物質は、例えばシリコンオキサイド(silicon oxide)やシリコン窒化物(silicon nitride)等の無機物化合物、または蒸気蒸着(vapor deposition)、E−ビーム蒸発(e-beam evaporation)、RFスパッタリング(RF sputtering)、CVD(Chemical Vapor Deposition)、スピンコーティング(spin coating)、ディッピング(dipping)、ドクターブレード(Dr. blade)、電気鍍金(electro-plating)、非電気鍍金(electroless plating)、スクリーンプリンティング(screen printing)方法で形成されるポリイミド(polyimide)等の高分子物質が適当である。
【0060】
図7bに示すように、バッファ層103を含む所定領域に絶縁膜104を形成し、レーザビームを用いて赤色のサブピクセル形成部分の絶縁膜104を除去する。
【0061】
この際、絶縁膜104の物質は、レーザビームの波長に吸収断面を有し且つ膜を形成しやすい物質がよい。前記物質は、例えばフォトレジストのような高分子がよく、約0.1〜100μmの厚さに形成することが好ましい。
【0062】
ここで、従来の技術との相違点を説明すれば、本発明は、有機EL物質が形成される前にフォトレジストが形成されることである。これにより、本発明で用いられるフォトレジストは、充分に高い温度で長時間にわたってハードベーキング(hard baking)することができ、フォトレジスト内に残存するソルベントを完ぺきに除去することができる。
【0063】
もしも、有機EL物質が上記のような荒い状態に置かれる場合、非常に速く悪化されるため、従来の技術ではフォトレジストを充分にベーキングすることができない。
【0064】
ついに、本発明で用いられるフォトレジストは素子に何等の悪影響も与えない。
【0065】
図7cに示すように、基板を酸素プラズマ(oxygen plasma)或いはUV/オゾン(UV/ozone)で表面処理した後、絶縁膜104を含む所定領域に赤色光を発する第1有機EL層105a、第2電極106aを順次蒸着する。
【0066】
例えば、第1有機EL層105aはバッファ層、正孔輸送層、発光層からなり、バッファ層は銅フタロシアニン(copper phthalocyanine)を約10〜20nmの厚さに被せ、正孔輸送層は約30〜60nmの厚さのN、N’−diphenyl−N、N’−bis(3−methylphenyl)−(1,1’−biphenyl)−4,4’−diamine(TPD)で形成し、その上の発光層はtris(8−hydroxy−quinolate)アルミニウム(Alq3と略称する)を40〜60nmの厚さに蒸着し、赤色の発光のためにドープ剤(dopant)にはDCM2を用いる。そして、第2電極106aにはAl、Ca、Mg:Ag、Al:Liのうち何れか一つを用いる。
【0067】
図7dに示すように絶縁膜104の他の部分をレーザビームで除去し、図7eに示すように基板を表面処理した後、緑色光を発する第2有機EL層105b、第2電極106bを蒸着する。ここで、第2有機EL層105bの発光物質には例えばAlq3にクマリン(coumarin)6をドーピングする。
【0068】
図7fに示すように、同様な方法により、絶縁膜104のまた他の部分をレーザビームで除去し、図7gに示すように基板を表面処理した後、青色光を発する第3有機EL層105c、第2電極106cを蒸着する。ここで、第3有機EL層105cの発光物質には、例えばBAlq3にペリレン(perylene)をドーピングする。
【0069】
図7hに示すように、隣接するサブピクセル間の電気的絶縁を確かめるために、隣接するサブピクセル間の絶縁膜104上に形成された有機EL層及び第2電極をレーザビームを用いて2部分に断ち切る。この後、サブピクセルへの湿気を遮断するべく、パネルの全面に保護膜107を形成した後、encapsulation工程を施す。ここで、保護膜107は吸湿剤又はその混合物を含み、保護膜107の形成はレーザビーム断ち切り工程の以前に行ってもよい。
【0070】
図8aから図8kは本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す工程断面図である。
【0071】
本発明の第2実施形態の製造工程は、サブピクセルを形成する度にサブピクセル上に保護膜をコーティングする点を除いては、本発明の第1実施形態の製造工程と殆ど類似する。
【0072】
図8d及び図8gに示すように、保護膜107a、107bは第3のサブピクセルを形成するに先だって第1、第2のサブピクセル上にコーティングされる。更に、保護膜107cは、図8jに示すように第3のピクセルの形成後に追加的にコーティングされる。
【0073】
ここで、保護膜107a、107bは、連続的な工程時に、湿気及びソルベントから第1、第2のサブピクセルの各々を保護し、素子の寿命を延長させ、工程のデザインが自由自在である。そして、素子完成後、保護膜107a、107b、107cの最外郭に保護膜107dを形成する。ゆえに、保護膜107a、107b、107cは吸湿剤又はその混合物を含むべきである。
【0074】
本発明では、レーザビームエッチング及び有機EL層の形成を経て連続的にサブピクセルを製造するため、工程が簡単であるという長所がある。
【0075】
以下、レーザビームエッチング技術及び工程条件を説明する。
【0076】
食刻工程時、ピクセル領域への悪影響を防止するためにパネルは真空または乾燥した不活性気体雰囲気下で工程を行わなければならない反面に、レーザビーム発生器は大気中で作動しなければならない。このレーザビームは、レーザビームの吸収断面を有する窓を介して、真空又は乾燥した不活性気体で満たされたチャンバ(chamber)又はグローブボックス(glove box)へ入射される。
【0077】
そして、レーザシステムは、図9に示すように、レーザビームにて直接スキャン(scan)するか、あるいはパネルの装着されたムービングステージ(moving stage)をプログラムされた通り移動させるように設計される。しかし、一般に、レーザビームを移動させてスキャンする方法は、本発明のように正確性を要求するものには適しない。一方、ムービングステージは、エンコーダ(encoder)又はセンサを取り付けてフィードバック(feedback)制御を行うことができる。本発明では、ITOの電気光学的性質を用いて、位置によるフィードバック制御を容易に行うことができる。
【0078】
又、食刻対象物質の物理化学的な特性を顧慮して適当な波長を有するレーザを選定しなければならない。この内、最も重要な顧慮対象は物質の吸収断面である。レーザの中では、金属又は有機物質をエッチングする際、緑色(green)波長を有するfrequency doubled Nd:YAGのレーザ、或いは紫外線波長を有するエキサイマ(eximer)レーザが好ましい。
【0079】
このレーザは、連続発振(continuous)モードよりはパルス(pulse)モードが更に効果的である。この理由は、連続発振モードを使用すれば、熱的劣化(thermal degradation)によって容易に素子が損傷されるからである。レーザのパワー及びパルス反復周期(pulse repetition rate)は第2電極及び有機EL層を除去する程度のことであり、第1電極に損傷を被ってはいけない。
【0080】
以下、本発明で使用可能なレーザは次の通りである。
【0081】
【表1】
一方、レーザビームは、第1電極面からパネルに、又は第2電極面からパネルに照射可能である。この際、第1電極としてよく使われるITO(Indium Tin Oxide)の場合、0.53μmで大きな吸収断面を有しないため、frequency doubled Nd:YAGのレーザをITO面に照射して有機EL層及び第2電極をエッチングすることができる。仮に、エッチング対象物質のエッチング時に、レーザビームと共に1又は複数の適切な反応ガスを注入すれば、エッチング対象物質のエッチング率を高めることができる。
【0082】
レーザビームスポット(spot)の形態や寸法は必要に応じて調節することが可能であり、図10に示すように適切にデザインされたエッチングマスクを用いて多数のサブピクセルを同時にエッチングすることも可能である。広い面積を一回で照射するためには、ビームスポットの大きい拡散ビームを使用しレーザの出力を増加させる必要がある。
【0083】
【発明の効果】
本発明による有機ELディスプレイパネルの製造方法においては以下のような効果がある。
【0084】
▲1▼レーザを用いた本発明の製造工程は、簡単であり、迅速であり、基板に対して正確に整列し難く、設け難いシャドーマスクを用いないため生産率が大きく増加する。
【0085】
▲2▼素子に致命的なソルベント(solvent)や湿気に対する影響を最小化するため、素子の寿命が大幅に増加する。
【図面の簡単な説明】
【図1】一般的なパッシブアドレス(passive addressing)の有機ELディスプレイパネルを示す平面図である。
【図2】シャドーマスクを用いて第2電極をパターニングする過程を示す断面図である。
【図3】絶縁隔壁を用いてピクセレーションする過程を示す断面図である。
【図4a】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図4b】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図4c】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図4d】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図5a】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図5b】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図5c】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6a】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6b】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6c】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6d】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6e】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6f】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6g】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6h】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6i】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図6j】従来の技術による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7a】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7b】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7c】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7d】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7e】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7f】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7g】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図7h】本発明の第1実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8a】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8b】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8c】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8d】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8e】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8f】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8g】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8h】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8i】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8j】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図8k】本発明の第2実施形態による有機ELディスプレイパネルの製造工程を示す断面図である。
【図9】本発明によるレーザビームエッチングシステムを示す図である。
【図10】本発明によるマスクを用いたレーザビームエッチング過程を示す図である。
【符号の説明】
101 透光性基板
102 第1電極
103 バッファ層
104 絶縁膜
105a、b、c 有機EL層
106a、b、c 第2電極
107、107a、b、c、d 保護膜
Claims (15)
- 透光性基板上に第1電極、絶縁膜を順次積層する第1ステップと、
1又は複数のレーザビームで所定領域の絶縁膜を選択的に除去する第2ステップと、
前記絶縁膜を含む所定領域に、正孔輸送層および発光層を有する有機EL層、第2電極を順次積層する第3ステップと、
第2ステップと第3ステップを1回または数回繰り返し行う第4ステップと
を備えることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方法。 - 前記第4ステップ後、隣接する二つのサブピクセルの間の絶縁膜上に形成された有機EL層及び第2電極を、1又は複数のレーザビームを用いて2部分に断ち切るステップを更に備えることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記絶縁膜と第1電極との間にはバッファ層が形成されることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記バッファ層は、絶縁性のよい無機物又は有機物で形成されることを特徴とする請求項3記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第1ステップ後、前記絶縁膜のソルベント及び湿気を除去することを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記絶縁膜の厚さは0.1〜100μmであることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第2ステップは、真空又は乾燥した不活性気体雰囲気下で行われることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第4ステップ後、前記基板の所定領域に保護膜を形成することを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記保護膜は吸湿剤又はその混合物を含むことを特徴とする請求項8記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 透光性基板上に第1電極、絶縁膜を順次積層する第1ステップと、
1又は複数のレーザビームで所定領域の絶縁膜を選択的に除去する第2ステップと、
前記絶縁膜を含む所定領域に、正孔輸送層および発光層を有する有機EL層、第2電極、第1保護膜を順次積層する第3ステップと、
前記第2ステップと第3ステップを1回または数回繰り返し行う第4ステップと
を備えることを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方法。 - 前記第3ステップで形成された第1保護膜は、吸湿剤またはその混合物を含むことを特徴とする請求項10記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記絶縁膜と第1電極との間にはバッファ層が形成されることを特徴とする請求項10記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第1ステップ後、前記絶縁膜のソルベント及び湿気を除去することを特徴とする請求項10記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第4ステップ後、前記基板の所定領域に前記第1保護膜と異なる第2保護膜を形成することを特徴とする請求項10記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記第2保護膜は吸湿剤又はその混合物を含むことを特徴とする請求項14記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
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US20030148024A1 (en) * | 2001-10-05 | 2003-08-07 | Kodas Toivo T. | Low viscosity precursor compositons and methods for the depositon of conductive electronic features |
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KR100351822B1 (ko) * | 2000-04-24 | 2002-09-11 | 엘지전자 주식회사 | 유기 el 소자의 제조방법 |
KR100617234B1 (ko) * | 2000-07-18 | 2006-08-31 | 엘지전자 주식회사 | 유기전계발광 디스플레이 소자의 제조방법 |
WO2002015264A2 (de) | 2000-08-18 | 2002-02-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Verkapseltes organisch-elektronisches bauteil, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung |
DE10043204A1 (de) | 2000-09-01 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Feld-Effekt-Transistor, Verfahren zur Strukturierung eines OFETs und integrierte Schaltung |
US6617186B2 (en) * | 2000-09-25 | 2003-09-09 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for producing electroluminescent element |
US7221088B2 (en) | 2000-11-29 | 2007-05-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Universal host for RG or RGB emission in organic light emitting devices |
US6797920B2 (en) * | 2000-12-20 | 2004-09-28 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Material for organic electroluminescent device and its manufacturing method |
JP4292245B2 (ja) | 2001-02-05 | 2009-07-08 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 発光体、発光素子、及び発光表示装置 |
DE10117663B4 (de) * | 2001-04-09 | 2004-09-02 | Samsung SDI Co., Ltd., Suwon | Verfahren zur Herstellung von Matrixanordnungen auf Basis verschiedenartiger organischer leitfähiger Materialien |
JP4345278B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2009-10-14 | セイコーエプソン株式会社 | パターニング方法、膜形成方法、パターニング装置、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子装置の製造方法 |
KR100421879B1 (ko) * | 2001-10-18 | 2004-03-11 | 엘지전자 주식회사 | 더블 스캔 구조의 유기 el 표시소자 |
US7109653B2 (en) | 2002-01-15 | 2006-09-19 | Seiko Epson Corporation | Sealing structure with barrier membrane for electronic element, display device, electronic apparatus, and fabrication method for electronic element |
JP2003323138A (ja) * | 2002-02-01 | 2003-11-14 | Seiko Epson Corp | 回路基板、電気光学装置、電子機器 |
JP2006065325A (ja) * | 2002-02-01 | 2006-03-09 | Seiko Epson Corp | 回路基板、電気光学装置、及び電子機器 |
JP2006113598A (ja) * | 2002-02-01 | 2006-04-27 | Seiko Epson Corp | 回路基板、電気光学装置、及び電子機器 |
KR20020025917A (ko) * | 2002-02-15 | 2002-04-04 | 박병주 | 유기 전계발광 소자 제조 방법 |
JP4240893B2 (ja) * | 2002-03-06 | 2009-03-18 | 大日本印刷株式会社 | 有機elディスプレイ |
JP4360918B2 (ja) | 2002-03-20 | 2009-11-11 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | アクティブマトリクスエレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
US6949389B2 (en) * | 2002-05-02 | 2005-09-27 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Encapsulation for organic light emitting diodes devices |
EP1525630A2 (de) | 2002-07-29 | 2005-04-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektronisches bauteil mit vorwiegend organischen funktionsmaterialien und herstellungsverfahren dazu |
US6734625B2 (en) * | 2002-07-30 | 2004-05-11 | Xerox Corporation | Organic light emitting device (OLED) with multiple capping layers passivation region on an electrode |
DE10236854B4 (de) * | 2002-08-07 | 2004-09-23 | Samsung SDI Co., Ltd., Suwon | Verfahren und Vorrichtung zur Strukturierung von Elektroden von organischen lichtemittierenden Elementen |
KR100504472B1 (ko) * | 2002-09-05 | 2005-08-04 | 엘지전자 주식회사 | 유기 el 소자 및 그 제조 방법 |
JP2004127794A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Pioneer Electronic Corp | 有機el素子のパターンニング方法及び装置、有機el素子の作成方法、並びに、有機el素子 |
GB0224121D0 (en) * | 2002-10-16 | 2002-11-27 | Microemissive Displays Ltd | Method of patterning a functional material on to a substrate |
JP2006505927A (ja) * | 2002-11-05 | 2006-02-16 | ポリアイシー ゲーエムベーハー ウント コー、 カーゲー | 高分解能の構造を有する有機電子要素およびそれを製造する方法 |
JP2004165068A (ja) * | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Sanyo Electric Co Ltd | 有機電界発光パネルの製造方法 |
US7338820B2 (en) * | 2002-12-19 | 2008-03-04 | 3M Innovative Properties Company | Laser patterning of encapsulated organic light emitting diodes |
CN1310270C (zh) * | 2003-03-26 | 2007-04-11 | 清华大学 | 一种场发射显示器的制备方法 |
DE10314166A1 (de) * | 2003-03-28 | 2004-10-14 | Siemens Ag | Screensaver für organische Displays |
US6995035B2 (en) * | 2003-06-16 | 2006-02-07 | Eastman Kodak Company | Method of making a top-emitting OLED device having improved power distribution |
DE10339036A1 (de) * | 2003-08-25 | 2005-03-31 | Siemens Ag | Organisches elektronisches Bauteil mit hochaufgelöster Strukturierung und Herstellungsverfahren dazu |
DE10340643B4 (de) | 2003-09-03 | 2009-04-16 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Druckverfahren zur Herstellung einer Doppelschicht für Polymerelektronik-Schaltungen, sowie dadurch hergestelltes elektronisches Bauelement mit Doppelschicht |
KR100579549B1 (ko) * | 2003-12-31 | 2006-05-12 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 듀얼 플레이트 타입 유기전계 발광소자 및 그 제조방법 |
US6931991B1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-08-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | System for and method of manufacturing gravure printing plates |
EP1742924A4 (en) * | 2004-05-06 | 2010-10-06 | Glaxosmithkline Llc | CALCILYTIC COMPOUNDS |
JP4842927B2 (ja) * | 2004-05-10 | 2011-12-21 | パナソニック株式会社 | 超高速レーザパターニングに用いる複合シート材料選択方法 |
US7122489B2 (en) * | 2004-05-12 | 2006-10-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Manufacturing method of composite sheet material using ultrafast laser pulses |
KR100580329B1 (ko) * | 2004-06-25 | 2006-05-16 | 삼성전자주식회사 | 범프가 형성된 배선 필름, 이를 이용한 필름 패키지 및 그제조 방법 |
DE102004040831A1 (de) | 2004-08-23 | 2006-03-09 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Funketikettfähige Umverpackung |
KR100606772B1 (ko) * | 2004-12-02 | 2006-08-01 | 엘지전자 주식회사 | 유기 el 소자의 제조방법 |
DE102004059465A1 (de) | 2004-12-10 | 2006-06-14 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Erkennungssystem |
DE102004059464A1 (de) | 2004-12-10 | 2006-06-29 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbauteil mit Modulator |
DE102004063435A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-27 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Organischer Gleichrichter |
DE102005009819A1 (de) | 2005-03-01 | 2006-09-07 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbaugruppe |
US8679674B2 (en) | 2005-03-25 | 2014-03-25 | Front Edge Technology, Inc. | Battery with protective packaging |
US7846579B2 (en) | 2005-03-25 | 2010-12-07 | Victor Krasnov | Thin film battery with protective packaging |
DE102005017655B4 (de) | 2005-04-15 | 2008-12-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Mehrschichtiger Verbundkörper mit elektronischer Funktion |
EP1717877B1 (en) * | 2005-04-26 | 2015-06-03 | OSRAM Opto Semiconductors GmbH | Laser process for reliable and low-resistance electrical contacts |
DE102005031448A1 (de) | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Aktivierbare optische Schicht |
DE102005035589A1 (de) | 2005-07-29 | 2007-02-01 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements |
DE102005044306A1 (de) | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronische Schaltung und Verfahren zur Herstellung einer solchen |
US20070080632A1 (en) * | 2005-10-11 | 2007-04-12 | Lambright Terry M | Electroluminescent display system |
US7781023B2 (en) * | 2005-10-11 | 2010-08-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of producing an electroluminescent display |
US20070090758A1 (en) * | 2005-10-21 | 2007-04-26 | Kwasny David M | Electroluminescent panel |
WO2007064054A1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Softpixel, Inc. | Method for fabricating micro pixel liquid crystal display |
CN100456488C (zh) * | 2006-06-26 | 2009-01-28 | 友达光电股份有限公司 | 全彩有机电致发光显示面板及其制造方法 |
TWI323047B (en) * | 2006-11-28 | 2010-04-01 | Univ Nat Taiwan | The method for forming electronic devices by using protection layers |
US7662663B2 (en) * | 2007-03-28 | 2010-02-16 | Eastman Kodak Company | OLED patterning method |
US20080261478A1 (en) * | 2007-04-17 | 2008-10-23 | Cok Ronald S | Patterning method for light-emitting devices |
GB2448730A (en) * | 2007-04-25 | 2008-10-29 | Innos Ltd | Fabrication of Planar Electronic Circuit Devices |
US7862627B2 (en) * | 2007-04-27 | 2011-01-04 | Front Edge Technology, Inc. | Thin film battery substrate cutting and fabrication process |
US8870974B2 (en) * | 2008-02-18 | 2014-10-28 | Front Edge Technology, Inc. | Thin film battery fabrication using laser shaping |
US7674712B2 (en) * | 2007-10-22 | 2010-03-09 | Cok Ronald S | Patterning method for light-emitting devices |
US8193018B2 (en) * | 2008-01-10 | 2012-06-05 | Global Oled Technology Llc | Patterning method for light-emitting devices |
KR100993426B1 (ko) * | 2008-11-10 | 2010-11-09 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기전계발광 표시 장치 및 그의 제조 방법 |
US20100291431A1 (en) * | 2009-05-13 | 2010-11-18 | Front Edge Technology, Inc. | Thin film battery with protective packaging |
KR101420773B1 (ko) * | 2009-07-15 | 2014-07-17 | 주성엔지니어링(주) | 전기광학소자 및 이의 제작 방법 |
US8502494B2 (en) | 2009-08-28 | 2013-08-06 | Front Edge Technology, Inc. | Battery charging apparatus and method |
JP5730547B2 (ja) * | 2009-11-26 | 2015-06-10 | 株式会社カネカ | シースルー有機el装置およびその製造方法 |
JP5698921B2 (ja) * | 2010-06-17 | 2015-04-08 | 株式会社カネカ | 有機el発光装置およびその製造方法 |
KR101874448B1 (ko) * | 2011-05-09 | 2018-07-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시 장치 |
CN102709487B (zh) * | 2011-10-17 | 2015-06-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机发光显示面板及其制造方法 |
US8865340B2 (en) | 2011-10-20 | 2014-10-21 | Front Edge Technology Inc. | Thin film battery packaging formed by localized heating |
US9887429B2 (en) | 2011-12-21 | 2018-02-06 | Front Edge Technology Inc. | Laminated lithium battery |
US8864954B2 (en) | 2011-12-23 | 2014-10-21 | Front Edge Technology Inc. | Sputtering lithium-containing material with multiple targets |
US9257695B2 (en) | 2012-03-29 | 2016-02-09 | Front Edge Technology, Inc. | Localized heat treatment of battery component films |
US9077000B2 (en) | 2012-03-29 | 2015-07-07 | Front Edge Technology, Inc. | Thin film battery and localized heat treatment |
US9159964B2 (en) | 2012-09-25 | 2015-10-13 | Front Edge Technology, Inc. | Solid state battery having mismatched battery cells |
US8753724B2 (en) | 2012-09-26 | 2014-06-17 | Front Edge Technology Inc. | Plasma deposition on a partially formed battery through a mesh screen |
US9356320B2 (en) | 2012-10-15 | 2016-05-31 | Front Edge Technology Inc. | Lithium battery having low leakage anode |
US10008739B2 (en) | 2015-02-23 | 2018-06-26 | Front Edge Technology, Inc. | Solid-state lithium battery with electrolyte |
US20180166511A1 (en) * | 2015-07-14 | 2018-06-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device and method for manufacturing display device |
KR102458680B1 (ko) | 2017-04-28 | 2022-10-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 및 그 제조방법 |
KR102300028B1 (ko) * | 2017-06-08 | 2021-09-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치의 제조방법 |
DE102017119311B4 (de) * | 2017-08-23 | 2019-03-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen eines mehrfarbig leuchtenden Bauelements |
US10957886B2 (en) | 2018-03-14 | 2021-03-23 | Front Edge Technology, Inc. | Battery having multilayer protective casing |
US20200058875A1 (en) * | 2018-08-16 | 2020-02-20 | Int Tech Co., Ltd. | Light emitting manufacturing method |
JPWO2022123382A1 (ja) * | 2020-12-07 | 2022-06-16 | ||
CN116830805A (zh) * | 2021-02-12 | 2023-09-29 | 株式会社半导体能源研究所 | 显示装置、显示装置的制造方法、显示模块及电子设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06314592A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-08 | Komatsu Ltd | 透明電極薄膜のエッチング方法 |
JPH07211455A (ja) * | 1994-01-19 | 1995-08-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機elデバイス |
JPH08222371A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Idemitsu Kosan Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子の微細パターン化方法及びそれより得られた素子 |
JPH0950888A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Pioneer Electron Corp | 有機エレクトロルミネセンス素子 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4117177A (en) * | 1976-09-13 | 1978-09-26 | Gte Laboratories Incorporated | Laser lithography of thin film resinates |
JPS6145530A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-05 | Hitachi Ltd | カラ−ブラウン管螢光面の製造方法 |
US4617085A (en) * | 1985-09-03 | 1986-10-14 | General Electric Company | Process for removing organic material in a patterned manner from an organic film |
US5314709A (en) * | 1991-03-20 | 1994-05-24 | International Business Machines Corporation | Unzippable polymer mask for screening operations |
AU2269692A (en) * | 1991-06-24 | 1993-01-25 | Durel Corporation | Electroluminescent lamp |
JP2837558B2 (ja) * | 1991-06-26 | 1998-12-16 | パイオニア株式会社 | エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2837559B2 (ja) * | 1991-06-26 | 1998-12-16 | パイオニア株式会社 | エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
EP0605685B1 (en) * | 1992-06-01 | 1999-10-13 | Advanced Technology Incubator, Inc. | Light influencing element for high resolution optical systems and method of making same |
JP3212405B2 (ja) * | 1992-07-20 | 2001-09-25 | 富士通株式会社 | エキシマレーザ加工方法及び装置 |
US5302423A (en) * | 1993-07-09 | 1994-04-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for fabricating pixelized phosphors |
US5340619A (en) * | 1993-10-18 | 1994-08-23 | Brewer Science, Inc. | Method of manufacturing a color filter array |
JP3813217B2 (ja) * | 1995-03-13 | 2006-08-23 | パイオニア株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法 |
US5701055A (en) * | 1994-03-13 | 1997-12-23 | Pioneer Electronic Corporation | Organic electoluminescent display panel and method for manufacturing the same |
US5693962A (en) * | 1995-03-22 | 1997-12-02 | Motorola | Full color organic light emitting diode array |
JP3537591B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2004-06-14 | パイオニア株式会社 | 有機elディスプレイの製造方法 |
JPH09320760A (ja) * | 1996-05-24 | 1997-12-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法 |
US5824374A (en) * | 1996-07-22 | 1998-10-20 | Optical Coating Laboratory, Inc. | In-situ laser patterning of thin film layers during sequential depositing |
-
1998
- 1998-06-17 KR KR1019980022756A patent/KR100282393B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-08-04 JP JP22089198A patent/JP4684378B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-21 DE DE69834318T patent/DE69834318T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-21 EP EP98306730A patent/EP0966182B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-25 CN CNB981207170A patent/CN1162052C/zh not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-03-03 US US09/261,254 patent/US6146715A/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-06-16 HK HK00103641A patent/HK1024374A1/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06314592A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-08 | Komatsu Ltd | 透明電極薄膜のエッチング方法 |
JPH07211455A (ja) * | 1994-01-19 | 1995-08-11 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機elデバイス |
JPH08222371A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Idemitsu Kosan Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子の微細パターン化方法及びそれより得られた素子 |
JPH0950888A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Pioneer Electron Corp | 有機エレクトロルミネセンス素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69834318D1 (de) | 2006-06-01 |
HK1024374A1 (en) | 2000-10-05 |
JP2000012220A (ja) | 2000-01-14 |
US6146715A (en) | 2000-11-14 |
KR20000002154A (ko) | 2000-01-15 |
CN1239395A (zh) | 1999-12-22 |
DE69834318T2 (de) | 2007-04-19 |
KR100282393B1 (ko) | 2001-02-15 |
EP0966182B1 (en) | 2006-04-26 |
EP0966182A1 (en) | 1999-12-22 |
CN1162052C (zh) | 2004-08-11 |
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