JP4641813B2 - 二元細孔シリカ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(二元細孔シリカ)
二元細孔シリカの実施の形態は、特に限定されるものではなく、その例としては粉状、顆粒状、粒状、構造体等が挙げられる。また粉状、顆粒状、粒状物の形状については、不定形、球形等が一般的であるが特に球形が好ましい。上記形態や形状は、後述する製造工程におけるゲルの形成条件や必要に応じて実施される粉砕操作等によって達成することができる。
その値で表現するとナノ細孔の容積が0.4〜1.5cm3/gの範囲内であり、マクロ細孔の容積が0.6〜2.0cm3/gの範囲内であることが望ましく、より望ましくはナノ細孔の容積が0.7〜1.2cm3/gの範囲内にあり、マクロ細孔の容積が0.8〜1.8cm3/gの範囲内である。細孔の総容積が3cm3/gよりも大きい場合、強度の低下が著しく、触媒用途としての活性やカラム用途としての分離性能の低下をもたらす虞があり、また、細孔の総容積が0.3cm3/gよりも小さい場合、細孔の存在量が十分でなく、触媒用途としての活性やカラム用途としての分離性能の低下を引き起こす虞があるためである。
二元細孔シリカの製造方法は特に限定されないが、例えば珪素源、水溶性高分子及び酸触媒を含むゾル液を相分離の過渡構造の状態でゲル化して固定させ、シリカ骨格が絡み合った構造より成るナノ細孔及びマクロ細孔が形成されたゲル体を得、次いで、このゲル体を水熱処理することによって製造することができる。
ここでは、窒素吸着法により、ナノ細孔の容積及び平均直径を測定する。窒素吸着法は、平均直径が70nm以下の細孔に対して極めて好適に適用できるため、ナノ細孔の容積及び平均直径という場合は窒素吸着法により求めた値を意味する。
A(m2/g):BETによって算出された比表面積
V(cm3/g):窒素吸着によって算出された細孔容積
ここでは、水銀圧入法により、マクロ細孔の容積及び平均直径を測定する。水銀圧入法は、平均直径が70nm以上の細孔に対して極めて好適に適用できるため、マクロ細孔の容積及び平均直径という場合は水銀圧入法により求めた値を意味する。
木屋式硬度計を用いて、試料の二元細孔シリカを破壊し、その破壊された際の加重を破壊荷重とした。なお、測定する二元細孔シリカの直径を4φとし、破壊荷重は、5回の測定を行い、その平均値とした。その破壊荷重から、下記の式を利用し、圧縮強度を測定した。
Lc(kg):木屋式硬度計で測定した破壊荷重
A(cm2):対象とする構造体の断面積
特に、対象とする構造体が球状の構造体の場合は、下記の式より圧縮強度を算出した。
圧縮強度=(4・Lc)/(π・X2)
Lc(kg):木屋式硬度計で測定した破壊荷重
X(cm):球状の構造体の直径
平均分子量25,000のポリアクリル酸(以下「HPAA」という)共存下、水ガラス(3号珪曹)を用いて二元細孔シリカを作製した。仕込組成は、重量比で水:濃硝酸:HPAA:水ガラス=97:37:6.5:55とし、室温で攪拌し均一なゾル液とした。この時、ゾル液の比重は1.2であった。
水熱処理の条件を、120℃、24時間に変更した以外は、実施例1と同様の組成、方法で二元細孔シリカビーズを作製した(表1参照)。水熱処理後の二元細孔シリカは、実施例1と同様に測定したところ、マクロ細孔の平均直径が約1μm、ナノ細孔の平均直径が約8nm、圧縮強度が12kg/cm2の二元細孔シリカであった(表2参照)。
水熱処理の条件を、150℃、2時間に変更した以外は、実施例1と同様の組成、方法で、二元細孔シリカビーズを作製した(表1参照)。
水熱処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の組成、方法で、二元細孔シリカを作製した(表1参照)。
水熱処理条件を、上記の特許文献2に記載の熟成条件を0.1規定のアンモニアに浸漬し、50℃、1日間、熟成した以外は、実施例1と同様の組成、方法で、二元細孔シリカを作製した(表1参照)。
Claims (4)
- 平均直径が5〜50nmの範囲内にあるナノ細孔と、平均直径が0.1〜20μmの範囲内であるマクロ細孔が形成され、且つ、前記ナノ細孔の容積が0.4〜1.5cm3/gの範囲内にあり、前記マクロ細孔の容積が0.6〜2.0cm3/gの範囲内にあり、更に、圧縮強度が10kg/cm2以上20kg/cm2以下の範囲内にあることを特徴とする二元細孔シリカ。
- 珪素源、水溶性高分子及び酸触媒を含むゾル液を相分離の過渡構造においてゲル化させ、ゲル体を得る工程、
前記ゲル体を水熱処理する工程(テトラプロピルアンモニウムイオンを含む場合を除く。)、を有する二元細孔シリカの製造方法。 - 前記水熱処理する工程は、100〜150℃の範囲内で行うことを特徴とする請求項2記載の二元細孔シリカの製造方法。
- 前記ゲル体を得る工程の後、前記ゲル体を水熱処理する工程の前に、前記ゲル体を乾燥及び焼結する工程を有することを特徴とする請求項2記載の二元細孔シリカの製造方法。
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